JP4360064B2 - ステージ装置および露光装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を保持するステージ本体が複数の方向に移動するステージ装置、およびこのステージ装置に保持されたマスクと基板とを用いて露光処理を行う露光装置に関し、特に半導体集積回路や液晶ディスプレイ等のデバイスを製造する際に、リソグラフィ工程で用いて好適なステージ装置および露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、例えば液晶ディスプレイ(総称としてフラットパネルディスプレイ)を製造する工程においては、基板(ガラス基板)にトランジスタやダイオード等の素子を形成するために露光装置が多く使用されている。この露光装置は、感光剤を塗布した基板をステージ装置のホルダに載置し、マスクに描かれた微細な回路パターンを投影レンズ等の光学系を介して基板に転写するものである。基板上には、回路パターンの層を多数重ねることによってデバイスの配線回路が形成されるため、露光装置では、例えば2層目以降のパターン像を基板上に転写する際、既に形成された回路パターンに、これから露光するパターンを正確に重ね合わせる必要がある。
【0003】
図15には、一例として、液晶ディスプレイ製造用露光装置におけるプレートステージ(基板ステージ装置)の概略構成が示されている。定盤91上の−X側端縁には、Y方向に沿って固定ガイド92が設置されている。さらに、定盤91の表面には、X方向に延在するガイドビーム93が第1のキャリッジ94と結合された状態で設置されており、これらガイドビーム93及びキャリッジ94は、リニアモータ100、101の駆動により定盤91及び固定ガイド92に沿ってY方向に移動自在に構成されている。
【0004】
ガイドビーム93には、リニアモータ99の駆動により当該ガイドビーム93及び定盤91をガイドとしてX方向に移動自在に第2のキャリッジ95が設けられている。定盤91、固定ガイド92、ガイドビーム93とキャリッジ94、95との間には、非接触状態を維持するためのガスベアリング96がそれぞれ介装されている。
【0005】
第2のキャリッジ95の上部には、上下(Z軸)方向に微小移動可能なプレートテーブル97と、Z軸周りに微小角度回転可能なプレートホルダ98が設置されている。プレートホルダ98上には、不図示の基板(ガラスプレート)が真空吸着によりプレートホルダ98の上面に矯正固定される構成になっている。これらキャリッジ94、95、プレートテーブル97、プレートホルダ98はプレートステージ90を構成している。基板の上方には結像光学系(投影光学系)が配置され、結像光学系の上方にはマスクホルダとマスクが配置される。さらに、マスクの上方には照明光学系及び光源としてのランプが配置される(いずれも不図示)。これらは、定盤91上に設置したコラムにより支持される。
【0006】
上記の構成において、ランプと照明光学系による露光光の照射により、マスクに描画された微細回路パターンを結像光学系を介して基板に露光する。このとき、マスク及び基板に対して結像光学系を介して一度に結像できる露光エリアには限りがあるため、マスク及び基板は露光光に対してマスクホルダ及びプレートステージ90のX方向またはY方向の走査移動により連続したスキャン露光を行っている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来のステージ装置及び露光装置には、以下のような問題が存在する。
露光装置における従来技術のステージ装置では、スキャン方向を固定ガイド方向(Y軸方向)とした場合、プレートテーブル97やプレートホルダ98を含むメインステージとともにガイドビーム93及びリニアモータ99も移動させる必要があるため、スキャン方向の移動重量が大きくなりリニアモータ100、101の制御性が悪くなるという問題が生じる。
【0008】
また、メインステージには、電気ケーブルや空圧チューブ、冷却チューブ等、当該メインステージに各種用力を供給するための用力供給部材が接続されるが、メインステージの移動に伴ってこれら用力供給部材が定常的或いは衝撃的な抗力となって振動等の外乱を引き起こし制御性の低下の一因となっていた。そこで、メインステージに接続するこれら用力供給部材を中継し、メインステージに従動する従動ステージをスキャン方向(Y軸方向)やクロススキャン方向(X軸方向)にメインステージに隣接して設ける構成も考えられるが、いずれの方向に配置しても定盤91上に位置することになるので、定盤の面積が大きくなってしまう。このことは、定盤において精度が要求される箇所(支持面)が多くなり、コストが増すことに加えて装置が大型化するという問題を生じさせる。
【0009】
さらに、従動ステージの従動方向と異なる方向にメインステージが移動した場合には、これら用力供給部材が動く際に互いに擦れて発塵し基板に異物として付着することで、基板に対する露光処理において不良品を生じさせる虞があった。そこで、上記用力供給部材をカバー等で覆って発塵を抑えることも考えられるが、カバーも移動する方向については、カバーの移動に伴って発生する振動が制御系の外乱となり、高速で高精度の位置決めに支障を来すという問題があった。
【0010】
一方、上記のステージ装置では、基板をプレートホルダ98に設置した後、当該プレートホルダ98を基板表面(水平面)内で微小角度回転させてアライメントを行っているが、大型のプレートホルダ98を回転させるために複雑な機構を別途必要とし、精密な位置決めを行うのに時間がかかるとともに、位置決め後のずれ防止対策が必要であり、プレートホルダ98の平面度の悪化も懸念される。
【0011】
また、大型化を続ける基板に対応した露光装置では、ステージ装置も大型化するため、輸送時の重量や装置寸法の制約から分解輸送を余儀なくされるケースが今後増えると予想される。このような場合では、現地組立を行う際に装置の立上に要する時間が延びることが懸念される。
【0012】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、リニアモータ等の駆動装置の制御性を損なわせず、また装置のコンパクト化及び用力供給部材による発塵の抑制に寄与できるステージ装置および露光装置を提供することを目的とする。
【0013】
また、本発明の別の目的は、複雑な機構を必要とせず、基板の位置ずれやプレートホルダの平面度悪化を生じることなく、精度よく、短時間で基板の位置決めを行えるステージ装置および露光装置を提供することである。さらに、本発明の目的は、大型化したステージ装置を分解することなく、精度を維持した状態で輸送できるとともに、現地立上時間も短縮できるステージ装置および露光装置を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図1ないし図13に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のステージ装置は、基板(P)を保持するステージ本体(7、10、11)を第1方向(Y)に移動自在にガイドしてベース(1)上を第2方向(X)に移動するガイド部材(4)と、ステージ本体(7、10、11)を第1方向(Y)に駆動する駆動装置(YL)と、前記ステージ本体及び前記ガイド部材を前記第2方向に駆動する第3駆動装置(XL1)とを備えたステージ装置(35)であって、前記ガイド部材は、前記第1方向及び前記第2方向と略直交する第3方向(Z)に関して、前記ステージ本体の前記基板を保持する側とは逆側に設けられ、駆動装置(YL)の少なくとも一部(27)が接続され、ガイド部材(4)と第2駆動装置(XL2)の駆動により第2方向(X)に移動する従動ステージ(25)が、前記第3方向でガイド部材(4)とベース(1)との間に配設され、前記ステージ本体を前記ガイド部材に対して、非接触で前記第1方向に移動自在、且つ前記基板の保持面に沿って回転自在に保持させる保持装置と、前記ステージ本体を前記保持面に沿って回転させる駆動部とを有することを特徴とするものである。
【0015】
従って、本発明のステージ装置では、従動ステージ(25)が駆動装置(YL)の少なくとも一部(27)を備えることで、その分、ステージ本体(7、10、11)及びガイド部材(4)を第2方向(X)に移動させる際の重量を低減させることができ、リニアモータ等の制御性低下を抑えることが可能になる。さらに、従動ステージ(25)に用力供給部材(17)を中継させた場合には、用力供給部材同士が擦れて発塵した場合でも、ガイド部材(4)やカバー部材(85、86)の存在により基板(P)上に異物を付着しづらくすることができる。
【0016】
また、本発明の液晶表示デバイス製造用の露光装置は、マスクステージ(MST)に保持されたマスク(M)のパターンを基板ステージ(35)に保持された感光基板(P)に露光する液晶表示デバイス製造用の露光装置(31)において、マスクステージ(MST)と基板ステージ(35)との少なくとも一方のステージとして、先に記載されたステージ装置(35)が用いられることを特徴とするものである。
【0017】
従って、本発明の露光装置では、マスク(M)、感光基板(P)を高い精度で位置制御及び速度制御することができ、パターンの転写精度を高めることが可能になる。さらに、本発明では、感光基板(P)上に異物が付着する可能性を低くすることで、不良品の発生を抑制することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のステージ装置および露光装置の実施の形態を、図1ないし図14を参照して説明する。ここでは、本発明のステージ装置を、例えばスキャン方式でマスクのパターンを、感光基板(基板)として、例えば角形のガラス基板に露光する走査型の露光装置に適用する場合の例を用いて説明する。また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をガラス基板を保持して移動する基板ステージに適用するものとする。これらの図において、従来例として示した図15と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【0019】
図1は、本発明に係る露光装置31の概略構成図である。この露光装置31は、照明光学系32、マスク(レチクル)Mを保持して移動するマスクステージ装置33、投影光学系PL、投影光学系PLを保持する本体コラム34、ガラス基板(基板、感光基板)Pを保持して移動する基板ステージ装置(ステージ装置)35等を備えている。
【0020】
照明光学系32は、例えば特開平9−320956号公報に開示されているように、光源ユニット、シャッタ、2次光源形成光学系、ビームスプリッタ、集光レンズ系、レチクルブラインド、および結像レンズ系(いずれも不図示)から構成され、マスクステージ装置33に保持されたマスクM上の矩形(あるいは円弧状)の照明領域を照明光ILにより均一な照度で照明する。
【0021】
本体コラム34は、設置床FDの上面に載置された装置の基準となるベースプレートBPの上面に複数(ここでは4つ、ただし図1では前面側の2つのみ図示)の防振台12を介して保持された第1コラム37と、この第1コラム37上に設けられた第2コラム38とから構成されている。この防振台12は、ダンピング材としてゴム等の弾性材を用いたパッシブ型のものが配置されている。なお、ベースプレートBPを設けずに、本体コラム34を直接設置床FD上に設けてもよい。
【0022】
第1コラム37は、4つの防振台12によってほぼ水平に支持され、基板ステージ装置35を構成する平面視略矩形の鋳鉄製のベッド(ベース)1と、このベッド1の上面の4隅の部分に鉛直方向に沿ってそれぞれ配設された4本の脚部40と、これら4本の脚部40の上端部を相互に連結するとともに第1コラム37の天板部を構成する鏡筒定盤41とを備えている。この鏡筒定盤41の中央部には、平面視円形の開口部41aが形成され、この開口部41a内に投影光学系PLが上方から挿入されている。この投影光学系PLには、その高さ方向の中央やや下方の位置にフランジFLが設けられており、該フランジFLを介して投影光学系PLが鏡筒定盤41によって下方から支持されている。
【0023】
第2コラム38は、鏡筒定盤41の上面に投影光学系PLを囲むように立設された4本の脚部42と、これら4本の脚部42の上端部相互間を連結する天板部、すなわちマスクステージ装置33を構成するベース43とを備えている。ベース43の中央部には、照明光ILの通路となる開口43aが形成されている。なお、ベース43の全体または一部(開口43aに相当する部分)を光透過性材料により形成してもよい。
【0024】
このようにして構成された本体コラム34に対する設置床FDからの振動は、防振台12によってマイクロGレベルで絶縁されている(Gは重力加速度)。
【0025】
投影光学系PLとしては、その光軸AXの方向がZ軸方向とされ、ここでは、両側テレセントリックな光学配置となるように光軸AX方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光学系が使用されている。この投影光学系PLは、所定の投影倍率、例えば等倍を有している。このため、照明光学系32からの照明光ILによってマスクMの照明領域が照明されると、このマスクMを通過した照明光により、投影光学系PLを介してマスクM上の照明領域部分のパターンの等倍正立像が、表面にフォトレジストが塗布されたガラス基板P上の前記照明領域に共役な露光領域に露光される。
【0026】
マスクステージ装置33は、前記ベース43と、ベース43の上方に非接触で浮上支持されたマスクステージMSTと、マスクステージMSTを走査方向(相対移動方向)であるX軸方向(第1方向)に所定のストロークで駆動するとともに、X軸方向と直交するY軸方向(第2方向)に微少駆動するマスク駆動系44と、このマスク駆動系44によるマスクステージMSTの駆動に伴って生じる反力を受ける反力遮断用フレーム45、46とを備えている。なお、マスクステージMSTの駆動に伴う反力を受ける機構としては、反力遮断用フレームの他に、ボイスコイルモータを用いる構成としてもよい。
【0027】
図2の斜視図に示されるように、マスクステージMSTは、中央部に矩形の開口が形成された矩形状、すなわち矩形枠状の板状部材からなり、このマスクステージMSTの上面には、3つのバキュームチャック47a〜47cが設けられている。これらのバキュームチャック47a〜47cによってマスクMがマスクステージMST上に吸着保持されている。
【0028】
ベース43の上面には、一対のXガイド48A、48Bが所定間隔を隔てて走査方向であるX軸方向に延設されている。これらのXガイド48A、48Bの上方にはマスクステージMSTが配置され、該マスクステージMSTは、その底面に設けられた複数のエアパッド(エアベアリング)49によってXガイド48A、48B上に非接触で浮上支持されている。なお、転がりガイド等を用いることでマスクステージMSTを接触状態でXガイドに支持させる構成としてもよい。
【0029】
マスクステージMSTのY軸方向の両側面には、一対の可動子60A、60BがY軸方向へ向けて突設されている。+Y側に設けられた可動子60Bは、マスクステージMSTの+Y側端部のX軸方向中央部に形成された切り欠き62を挟んだ両側に分離して対で配置されている。そして、これらの可動子60A、60Bに対応して、Xガイド48A、48BのY軸方向両外側には、可動子60A、60BとともにリニアモータとしてのXモータ61A、61Bを構成し、それぞれ可動子60A、60Bを挟み込むようにマスクステージMSTに向けて開口するコ字状を呈する固定子63A、63BがX軸方向に沿って延設されている。可動子60A、60Bは、マスクステージMSTとともに、固定子63A、63Bとの間の電磁気的相互作用の一種である電磁相互作用によって生じるローレンツ力によってX軸方向に駆動される。
【0030】
Xモータ61A、61Bとしては、ここでは公知のムービングコイル型のリニアモータが用いられている。なお、一対のXモータ61A、61Bとして、ムービングマグネット型のリニアモータを用いても構わない。Xモータ61A、61Bは、主制御装置(不図示)によって制御される。
【0031】
可動子60A、60Bには、固定子63A、63Bにそれぞれ対向して複数のギャップセンサ(不図示)が埋設されている。各ギャップセンサは、可動子60Aと固定子63Aとの間のギャップ量(間隙量)及び可動子60Bと固定子63Bとの間のギャップ量を非接触で検出するものであって、例えば光学式で2mm程度の作動範囲を有する反射型センサが用いられている。
【0032】
固定子63AはX軸方向両端側において、ベース43がその一部を構成する本体コラム34とは振動的に独立した反力遮断用フレーム45の先端に、一対の位置調整装置65A、65B(ただし、図2では65Bは不図示)を介して支持されている。同様に、固定子63BもX軸方向両端側において、本体コラム34とは振動的に独立した反力遮断用フレーム46の先端に、一対の位置調整装置65A、65Bを介して支持されている。位置調整装置65A、65Bとしては、例えばピエゾ素子を用いることができ、このピエゾ素子の駆動により可動子に対する固定子の姿勢を制御することができる。反力遮断用フレーム45、46の基端は、図1に示される鏡筒定盤41、ベッド1、およびベースプレートBPにそれぞれ形成された開口部を介して床面FDに固定されている。なお、反力遮断用フレーム45、46の基端は、鏡筒定盤41、ベッド1及びベースプレートBPの外側に設けてもよい。
【0033】
マスクステージMSTの切り欠き62の内部空間には、Xガイド48B上に位置して、走査方向にのみ自由度を有するエアスライダ66が設けられている。そして、このエアスライダ66上にYモータの固定子67が設けられている。このYモータとしては、例えばボイスコイルモータが用いられ、マスクステージMST側に設けられた不図示の可動子を、電磁相互作用によって生じるローレンツ力によって非走査方向であるY軸方向に駆動することで、マスクステージMSTをY軸方向に駆動するものである。
【0034】
このエアスライダ66には、固定子63Bとともにエアスライダ66を駆動するためのエアスライダ駆動用リニアモータを構成する可動子68が設けられている。上記Yモータは、マスクステージMSTの位置にかかわらず、マスクステージMSTをY軸方向に駆動する必要があるため、不図示のギャップセンサによりYモータ(例えば、エアスライダ66や固定子67)とマスクステージMSTとの距離を検出してエアスライダ駆動用リニアモータを駆動することで、常にマスクステージMSTの駆動に追従する構成になっている。このため、マスクステージMSTをY方向に駆動する際の反力は、可動子68、固定子63Bを介して反力遮断用フレーム46に伝達され、さらに設置床FDに伝達される。
【0035】
一方、マスクステージMSTの−X側の側面には、一対のコーナーキューブ69A、69Bが固定されており、これらのコーナーキューブ69A、69Bに対向してベース43の上面の−X方向端部にはX干渉計70が固定されている。このX干渉計70は、実際にはコーナーキューブ69A、69Bに対して干渉ビームを投射し、それぞれの反射光を受光してコーナーキューブ69A、69BのX軸方向の位置を所定の分解能、例えば0.5〜1nm程度の分解能で計測する一対のダブルパス干渉計を含んで構成されている。
【0036】
また、マスクステージMST上面の−Y側の端部には、不図示の偏光ビームスプリッタ、1/4波長板等を含む光学ユニット71が固定されている。この光学ユニット71に対向して、ベース43上面の−Y方向端部には、固定鏡72がX軸方向に沿って延設されている。そして、光学ユニット71および不図示の光源ユニット、レシーバ等を含むY干渉計システムによって、マスクステージMST(ひいてはマスクM)のY軸方向の位置が固定鏡72を介して所定の分解能、例えば0.5〜1nm程度の分解能で計測される。
【0037】
図3は、基板ステージ装置35の全体構成を示す斜視図である。
ベッド1の上面には、X方向に延在するX軸ガイド2a、2bがY方向に間隔をあけて平行に敷設されており、これら各X軸ガイド2a、2bの両側部及び上部を跨ぐようにXキャリッジ3a、3bがそれぞれ移動自在に設けられている。Xキャリッジ3a、3bの上部には、Y方向に沿って延在し、両キャリッジ3a、3bを結ぶブリッジ状にYビームガイド(ガイド部材)4が懸架されて締結固定されている。図4に示すように、Xキャリッジ3a、3bとXガイド2a、2bの上面との間には、エアベアリング5(以下、ピッチベアリングと称する)が複数配置されており、Xキャリッジ3a、3bとXガイド2a、2bの側面との間には、エアベアリング6(以下、ヨーベアリングと称する)が複数配置されている。エアベアリング5、6はXキャリッジ3a、3bに固定されており、Xガイド2a、2bに対してフローティング(非接触)支持されたXキャリッジ3a、3b及びYビームガイド4は、Xガイド2a、2bにガイドされてX方向に移動自在の構成となっている。なお、Xキャリッジ3a、3bのいずれか一方のエアベアリング6は、省略しても構わない。
【0038】
Yビームガイド4の上部には、Yキャリッジ7が載置されている。図5に示すように、Yキャリッジ7とYビームガイド4の上面との間には、エアベアリング8(以下、ベースベアリングと称する)が複数(図5では4つ)配置されており、Yキャリッジ7とYビームガイド4の両側面との間には、エアベアリング9(以下、サイドベアリングと称する)が複数(図5では各面に2つ)配置されている。これらエアベアリング8、9はYキャリッジ7に固定されており、Yビームガイド4にフローティング(非接触)支持されたYキャリッジ7は、Yビームガイド4にガイドされてY方向に移動自在の構成となっている。
【0039】
Yキャリッジ7上には、プレートテーブル10が複数の支持機構(不図示)で支持されている。プレートテーブル10上には、ガラス基板Pを吸着保持するプレートホルダ11が設けられている。これらYキャリッジ7、プレートテーブル10及びプレートホルダ11は、本発明に係るステージ本体を構成している。
【0040】
図3に戻って、Yビームガイド4の両端部には、XリニアモータXL1を構成する可動子(第2可動子)13a、13bが設けられている。可動子13a、13bは、X方向に延設された固定子(第2固定子)14a、14b(14aは不図示)に沿って移動する。この固定子14a、14bは、マスクステージMSTにおける固定子63A、63Bと同様に、反力遮断用フレーム46にピエゾ素子等から構成される位置調整装置(第2位置調整装置)を介して支持されている。そして、可動子13a、13bと固定子14a、14bとの間のZ方向についてのギャップ量を検出する不図示のギャップセンサ(第2検出装置)を設け、第2検出装置の検出結果に基づいて第2位置調整装置をそれぞれZ方向に駆動することで固定子14a、14bと可動子13a、13bとの相対位置関係を調整できる。
【0041】
ベッド1の下方には、ベースフレーム21が複数の高さ調整機構20(図4参照)を介してベースプレートBP上に設置されている。ベースフレーム21の上面には、複数の支柱(支持部)22がZ方向に沿って立設されている。支柱22は、ベッド1に形成された貫通孔(第2貫通孔)1aを、ベッド1に対して非接触で貫通し、且つ上端がベッド1から突出した状態で設けられている。支柱22の上端には、X方向に延在するフォロアガイドフレーム23がY方向に間隔をあけて平行に配設されている。すなわち、フォロアガイドフレーム23は、ベッド1に対して振動的に分離して設けられる構成となっている。
【0042】
各フォロアガイドフレーム23の上面には、X方向に延在するフォロアガイド24aが高い平行度をもって固設されている。各フォロアガイドフレーム23にはスライダ24bがX方向以外の移動を規制された状態で配置されている。スライダ24bのガイド方式としては、ボールまたはローラ循環式の転がり接触によるリニアモーションガイド(いわゆるLMガイド)や、エアベアリング等の非接触式ガイド等を採用可能である。
【0043】
スライダ24b上には、ベッド1とYビームガイド4との間に位置してフォロアテーブル(従動ステージ)25が取り付けられている。図6に示すように、フォロアテーブル25は平面視矩形状に形成されており、そのX側両端縁にはY方向に延びるYリニアモータ受け26がそれぞれ設けられている。各Yリニアモータ受け26には、Yリニアモータ(駆動装置)YLを構成する固定子27が取り付けられている。各Yリニアモータ受け26の両端部には、フォロアXリニアモータ(第2駆動装置)XL2の可動子(第3可動子)28がそれぞれ設けられている。可動子28は、上記X方向に延設された固定子14a、14b(14aは不図示)に沿って移動する。すなわち、Yビームガイド4を駆動するXリニアモータXL1とフォロアテーブル25を駆動するフォロアXリニアモータXL2とは、固定子14a、14bを共用している。なお、この可動子28と固定子14a、14bとの間のギャップ量は、上記第2検出装置により検出される。そして、第2検出装置の検出結果に基づいて第2位置調整装置をそれぞれZ方向に駆動することで固定子14a、14bと可動子28との相対位置関係を調整できる。
【0044】
また、フォロアテーブル25のX方向中央近傍でY方向両端には、従動ステージ保持機構(連結装置)15がそれぞれ設けられている(図4参照)。従動ステージ保持機構15は、先端が球状に形成されたスピンドル15a、スピンドル15aのY方向への移動をガイドする直線ガイド15b、スピンドル15aを駆動するエアシリンダ15c等から構成されている。そして、Xキャリッジ3a、3bにはスピンドル15a(の球状部)に係合する円錐受け16が形成されており、エアシリンダの駆動によりスピンドル15aが円錐受け16に係合/係合解除することで、フォロアテーブル25をXキャリッジ3a、3b及びYビームガイド4に対して一体化して連結/連結解除することができる。
【0045】
図7に示すように、Yキャリッジ7に取り付けられた上記エアベアリング9は、先端に球体を有する微調ネジ51と円錐受け52とによって、Z軸と平行な軸周りに(ガラス基板Pの保持面に沿って)回転自在に支持されており、Yキャリッジ7の両側からYビームガイド4に対してエアベアリング9を押し付けることで、エアベアリング9に要求される適正な剛性と負荷容量を得る構成となっている。これらエアベアリング9、微調ネジ51によって本発明に係る保持装置が構成される。また、Yキャリッジ7の幅方向両側には、Yキャリッジ7(及びプレートテーブル10、プレートホルダ11)をY方向に駆動するYリニアモータYLの可動子53、53が設けられており、可動子53、53は上記固定子27、27との電磁気的相互作用による推力でY方向に移動する。
【0046】
なお、固定子27と可動子53とは、それぞれ独立してX方向に駆動されるものであるため、これら固定子27と可動子53との間のX方向についてのギャップ量(間隙量)は不図示のギャップセンサによりモニターされ、ギャップ量が所定値以下とならないように制御される。また、固定子27と可動子53との間のZ方向についてのギャップ量を検出するギャップセンサ(検出装置)も別に設けられている。そして、固定子27とYリニアモータ受け26との間には、固定子27の両端近傍に位置してピエゾ素子等から構成される位置調整装置(不図示)が介装されており、検出装置の検出結果に基づいて位置調整装置をそれぞれZ方向に駆動することで固定子27と可動子53との相対位置関係を調整できる。
【0047】
さらに、図8に示すように、Yキャリッジ7には、Yビームガイド4の下方で可動子53のそれぞれ近傍に位置して、可動子53の位置制御用の2つのリニアエンコーダ54が配置されている。また、プレートホルダ11の+X側端縁には、Y方向に沿って移動鏡57が設けられており、不図示のレーザ干渉計から照射されたY方向に離間した計測ビーム56を移動鏡57で反射させた反射光を受光することで、プレートホルダ11(すなわちガラス基板P)のX方向の位置及びZ軸周りの回転量を計測することが可能になっている。
【0048】
一方、Yキャリッジ7、プレートテーブル10及びプレートホルダ11からなるメインステージ(ステージ本体)には、電気ケーブルや空圧チューブ、冷却チューブ等のケーブル類(用力供給部材)17(図4参照)がステージ装置外部から各種用力を供給するために接続されるが、これらケーブル類17は、図4及び図9〜11に示されるように、ベースフレーム21とフォロアテーブル25とにおいて中継されてメインステージに接続される。
【0049】
これを詳述すると、ベッド1にはZ方向に貫通する貫通孔1bが形成されており、ベッド1の下方に導入されたケーブル類17は、貫通孔1bを介してフォロアテーブル25で中継される。図9に示すように、フォロアテーブル25の下面側には、フォロアテーブル25の移動用ガイド24aと略平行(X方向)に一組のリニアガイド81が固定されている。リニアガイド81には、スライダ82がガイド方向(X方向)に移動自在に取り付けられている。また、このスライダ82には、防塵シート(カバー部材)85を巻き掛ける動滑車ローラ83と、ケーブル類17を巻き掛ける回転自在の複数のローラ84aがローラ保持板84bに支持されて取り付けられている。そして、ケーブル類17は、ベースフレーム21の上方を引き回され貫通孔1bを貫通し、半円形に配置されたローラ84aに巻き掛けられた後に、折り返されてフォロアテーブル25の端部89に導かれる。
【0050】
防塵シート85は、一端がフォロアガイドフレーム23に固定され、他端が動滑車ローラ83に固定された両端固定のシートである。また、スライダ82には、防塵シート85と逆側に、別の防塵シート(カバー部材)86の一端が固定されている。防塵シート86の巻き取り部87は、フォロアガイドフレーム23等に固定される。
【0051】
上記構成の露光装置31の内、まず基板ステージ装置35の動作について説明する。
ガラス基板PをX方向(スキャン方向)に移動させる際には、図3に示してあるXリニアモータXL1及びフォロアXリニアモータXL2を作動させる。これにより、Xキャリッジ3a、3bがX軸ガイド2a、2bにガイドされた状態で、Yビームガイド4がメインステージとともにX方向に移動する。また、スライダ24bがフォロアガイド24aにガイドされた状態で、フォロアテーブル25がYビームガイド4とベッド1との間をX方向に移動する。
【0052】
このとき、Yキャリッジ7に接続された可動子53と、フォロアテーブル25に接続された固定子27とのX方向のギャップ量は、ギャップセンサの検出結果によりモニタされて一定値に維持される。従って、メインステージとフォロアテーブル25とは所定の相対位置関係を保持した状態でX方向に移動することになり、メインステージとフォロアテーブル25との間に配されるケーブル類17も変形しないため、擦れや抗力を生じさせず振動等の外乱を引き起こさない。
【0053】
また、フォロアテーブル25とベースフレーム21との間に配されるケーブル類17については、図9〜図11に示すように、ローラ保持板84bで規定されるループ(円弧)形状を保持した状態でフォロアテーブル25とともに移動するため、恒常的及び衝撃的な抗力を発生させることがない。また、ケーブル類17はローラ保持板84bでX方向(移動方向)で折り返されているため、ローラ保持板84bの移動量はフォロアテーブル25の移動量の1/2となる。そのため、ベッド1に形成すべき貫通孔1bの大きさを小さくすることができる。また、フォロアテーブル25の移動時には、スライダ82の位置に応じた長さで、動滑車ローラ83、87から防塵シート86が引き出されて伸縮するため、ケーブル類17から発塵した場合でも、これら防塵シート85、86及びフォロアテーブル25で貫通孔1bを覆うことになり、Yビームガイド4上、即ちメインステージ上に発塵が舞い上がることを抑制できる。
【0054】
なお、上記Yガイドビーム4及びフォロアテーブル25のX方向への移動時には、従動ステージ保持機構15におけるスピンドル15aをXキャリッジ3a、3bの円錐受け16に対して係合解除しているが、XリニアモータXL1及びフォロアXリニアモータXL2のイニシャル動作時等には、スピンドル15aを円錐受け16に係合させることで、Yガイドビーム4とフォロアテーブル25とを機械的に一体化して連結することが可能である。この場合、リニアモータXL1、XL2の動作が安定する前の状態であっても、固定子27と可動子53との相対位置関係を一定に保持可能である。
【0055】
一方、ガラス基板PをY方向(非スキャン方向)に移動させる際には、YリニアモータYLを作動させる。このとき、可動子53をリニアエンコーダ54に従って同一方向(図7では−Y方向)に同じタイミングで同じ距離だけ駆動することで、Yキャリッジ7(即ちメインステージ)はY方向に並進運動を行い、メインステージ(ガラス基板P)のステップ移動が可能になる。また、2つの可動子53をリニアエンコーダ54に従って、図12に示すように、逆方向に同じタイミングで同じ距離だけ駆動すれば、Yガイドビーム4に対してYキャリッジ7をZ軸周りに微小回転させて、ガラス基板Pのθ回転(θZ方向)アライメントが可能になる。
【0056】
これを詳述すると、Yビームガイド4の両側面に対向するように配置された回転(首振り)自在のエアベアリング9は、2つの可動子53の互いに逆方向の移動によりYキャリッジ7がYビームガイド4に対して傾いた場合でも、ベアリング表面をYビームガイド表面に正対した状態を維持しながら互いに逆方向に移動する。このとき、対向するエアベアリング9同士の中間点を回転中心として、エアベアリング9の支持点である微調ネジ51の球体が回転移動する。その結果、エアベアリング9とYビームガイド4とのエアギャップ(空気膜の厚さ)は小さくなり、Yキャリッジの7の微小回転が達成される。
【0057】
図13に、Yキャリッジ7がZ軸周りに回転したときのリニアモータYLとエアベアリング9との間に作用する力のつり合い関係を示す。互いに逆方向に作用する2つの推力Fと、対向するエアベアリング9がYビームガイド4から受ける力Rとがモーメントのつり合い状態にあるとして、回転中心Oから可動子53までの距離をL、エアベアリング9が受ける反力Rの位置から回転中心Oまでの距離をaとすると、
F×L−R×a=0 の関係から
F=R×a/L …(1) となる。
【0058】
ここで、Rはエアベアリング9の剛性に依存するが、剛性値は500N/μm以下であることが多い。そこで、Yキャリッジ7の回転角度を2.5mradとして、そのときのエアベアリング9のギャップ変化が1μm、エアベアリング9の剛性を500N/μm、距離Lを500mm、距離aを0.7mmとすると、リニアモータYLの推力Fは、(1)式から、
F=500×0.7/500=0.7Nとなる。
つまり、各接触部の摩擦力を考慮しても、非常に小さい力でYキャリッジ7を回転させることが可能である。
【0059】
なお、エアベアリング9のエアギャップが0となると、それ以上はYキャリッジ7を回転させることができないのでYキャリッジ7の回転量は微小である。この他にも、リニアモータYLの可動子53と固定子27との間のギャップ量やリニアエンコーダのスケールとヘッドとの隙間がYキャリッジ7の回転の制限となることがある。θ回転の回転量を検出する手段としては、プレートホルダ11上に設けられている不図示の接触式または非接触式の基板端面計測装置でもよいし、メインステージ外部に設置した接触式または非接触式の基板端面計測装置でもよい。メインステージ外部の計測装置を用いる場合には、ガラス基板Pをプレートホルダ11に載置する直前にガラス基板Pの傾き情報を不図示の駆動制御装置に出力する。駆動制御装置は、可動子53とリニアエンコーダ54の計測値とを用いてガラス基板Pの回転誤差を補正するように、Yキャリッジ7を予め回転させておく。
【0060】
このとき、Yキャリッジ7を大きく回転させる必要がある場合には、メインステージの位置決め用計測手段であるレーザ干渉計の計測ビーム56を受ける移動鏡57が傾きすぎてレーザビーム(反射光)が不図示の干渉計に入射せず、エラーになる場合がある(図12参照)。このような場合でも、上述した2つのリニアエンコーダ54によってYキャリッジYの回転量を計測し、プレートホルダ11がガラス基板Pを不図示の基板搬送装置から受け取った後にYキャリッジ7を正規の位置に戻し、レーザ干渉計を復活させることができるので、高精度のアライメントを複雑な機構を用いることなく、迅速に、且つプレートホルダ11の平面度を損なうことなく可能となる。
【0061】
続いて、露光装置31による露光動作について説明する。
露光処理が開始されると、不図示の走査用コントローラによって、マスクMを保持するマスクステージMSTと、ガラス基板Pを保持する基板ステージ装置35のメインステージとが照明光ILに対してX軸方向に同じ向き、同じ速度で同期移動する。これにより、照明光ILに照明されたマスクMのパターンがガラス基板P上に逐次露光される。このとき、フォロアテーブル25もメインステージと同期して移動するが、フォロアテーブル25を支持する支柱22と、Yビームガイド4を介してメインステージを支持するベッド1とが振動的に分離して配置されているので、フォロアテーブル25の移動に伴う振動がメインステージに伝達されることを回避できる。
【0062】
また、この同期移動により、防振台12に偏荷重が作用して沈み込み量が一定でなくなることで、マスクステージMSTにおけるベース43及び基板ステージ装置35におけるベッド1が傾き、マスクステージMSTにおけるXモータ61A、61B、基板ステージ装置35におけるXリニアモータXL1及びYリニアモータYLでは固定子と可動子とが相対的に傾くことになる。そのため、これら固定子と可動子との間のギャップ量が変動するが、各リニアモータに設けられたギャップセンサの検出結果に基づいて位置調整装置を駆動することで、各リニアモータの固定子の姿勢を調整する。これにより、各固定子と可動子との相対角度がゼロになり、これらの間のギャップ量を所定値に維持できる。
【0063】
また、マスクステージMSTのX方向及びY方向への移動に伴う反力は、固定子63A、63Bを介して反力遮断用フレーム46に伝達されるため、マスクステージMSTには反力による外乱が作用することはない。同様に、基板ステージ装置35におけるメインステージのX方向への移動に伴う反力は、固定子14a、14bを介して反力遮断用フレーム46に伝達されるため、メインステージには反力による外乱が作用することはない。また、メインステージのY方向への移動に伴う反力は、固定子27を介してフォロアテーブル25に伝達されるが、既述のように、支柱22とベッド1とが振動的に分離して配置されているので、反力による外乱がメインステージに作用することはない。
【0064】
以上のように、本実施の形態では、フォロアテーブル25がYリニアモータYLの固定子27を支持して移動するので、XリニアモータXL1がメインステージ及びYビームガイド4をX方向に駆動する際の移動重量を減らすことができ、モータの制御性低下を防止することができる。そのため、メインステージに保持されたガラス基板Pの位置制御性及び速度制御性を向上させることが可能になり、ガラス基板Pに転写されるパターンの転写精度向上も期待できる。
【0065】
また、本実施の形態では、このフォロアテーブル25をYビームガイド4とベッド1との間に配置したので、ベッド1を平面的に大きくする必要がなくなり、ベッド1に要求される高精度部分を少なくすることができるとともに、装置の大型化も回避することができる。さらに、フォロアテーブル25にケーブル類17を中継させた場合でも、Yビームガイド4の存在によりケーブル類17の擦れ等で発塵してもメインステージ上のガラス基板Pに異物が付着しづらくなり、露光処理における不良品の発生を抑えることが可能になる。特に、本実施の形態では、フォロアテーブル25がX方向に移動しても、ケーブル類17が貫通する貫通孔1bを防塵シート85、86及びフォロアテーブル25で覆うことができるので、ガラス基板Pへの異物の付着をより確実に抑えることが可能である。
【0066】
しかも、本実施の形態では、支柱22とベッド1とを振動的に分離しているので、メインステージやフォロアテーブル25、防塵カバー85、86の移動に伴う外乱がメインステージに悪影響を及ぼさず、また、ケーブル類17もベッド1を非接触で貫通しているので、ケーブル類17の変形がメインステージに対して恒常的及び衝撃的な抗力となることを防止できる。加えて、本実施の形態では、フォロアテーブル25等の従動側の重量がベッド1に掛からないため、X軸ガイド2a、2bに変形を生じさせず、結果として、メインステージに関する制御ループのゲインを上げることが可能になり、応答性の高い高精度の位置決め及び位置追従性を実現することができる。
【0067】
また、本実施の形態では、メインステージをZ軸周りに回転可能としたので、ガラス基板Pに対するアライメントを容易に実施することができる。しかも本実施の形態では、可動子53、53を互いに逆方向に駆動することでメインステージを回転させるので、複雑な機構を別途用いることなく、迅速に、且つプレートホルダ11の平面度を損なうことなくガラス基板Pの位置決め(アライメント)が可能となる。
【0068】
そして、本実施の形態では、フォロアテーブル25がベッド1と機械的(振動的)に分離されているが、ベッド1の下方に設置されるベースフレーム21とは連結されており、ベースフレーム21の位置を調整した後、ベースフレーム21をベッド1に吊り下げて、ベッド1とベースフレーム21との相対位置関係を維持した状態でベッド1の下部を支持して輸送できるので、基板ステージ装置を分解する必要がなく、現地での組立・立上時間も短縮することができる。
【0069】
なお、上記実施の形態では、固定子と可動子との相対位置関係を維持するために、ギャップセンサの検出結果に基づいて固定子の位置を調整する構成としたが、これに限定されるものではなく、可動子の位置を調整したり、固定子及び可動子の双方の位置を調整する構成としてもよい。
【0070】
また、上記実施の形態では、本発明に係るステージ装置を基板ステージ装置に適用する構成としたが、マスクステージのみに適用したり、基板ステージ装置及びマスクステージの双方に適用することも可能である。さらに、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置31に適用する構成としたが、これに限定されるものではなく、露光装置31以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【0071】
なお、本実施の形態の基板としては、液晶表示デバイス用のガラス基板Pのみならず、半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
【0072】
露光装置31としては、マスクMとガラス基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニング・ステッパー;USP5,473,410)の他に、マスクMとガラス基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを露光し、ガラス基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパー)にも適用することができる。
【0073】
露光装置31の種類としては、液晶表示デバイス製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【0074】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線(g線(436nm)、h線(404.7nm)、i線(365nm))、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)のみならず、X線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(Ta)を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクMを用いる構成としてもよいし、マスクMを用いずに直接ガラス基板上にパターンを形成する構成としてもよい。また、YAGレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【0075】
投影光学系PLの倍率は、等倍系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし(レチクルRも反射型タイプのものを用いる)、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系PLを用いることなく、マスクMとガラス基板Pとを密接させてマスクMのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【0076】
基板ステージ装置35やマスクステージMSTにリニアモータ(USP5,623,853またはUSP5,528,118参照)を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ35、MSTは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【0077】
各ステージ35、MSTの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット(永久磁石)と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ35、MSTを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ35、MSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ35、MSTの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0078】
以上のように、本願実施形態の露光装置31は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0079】
液晶表示デバイスや半導体デバイス等のデバイスは、図14に示すように、液晶表示デバイス等の機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスクM(レチクル)を製作するステップ202、石英等からガラス基板P、またはシリコン材料からウエハを製作するステップ203、前述した実施の形態の走査型露光装置31によりレチクルRのパターンをガラス基板P(またはウエハ)に露光するステップ204、液晶表示デバイス等を組み立てるステップ(ウエハの場合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0080】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、リニアモータ等の駆動装置の制御性を損なわせず、また装置のコンパクト化及び用力供給部材による発塵の抑制に寄与することができる。また、本発明では、複雑な機構を必要とせず、基板の位置ずれやホルダの平面度悪化を生じることなく、精度よく、短時間で基板の位置決めを行うことができる。さらに、本発明では、ステージ装置を分解することなく、精度を維持した状態で輸送できるとともに、現地立上時間も短縮できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態を示す図であって、露光装置の概略構成図である。
【図2】 同露光装置を構成するマスクステージの外観斜視図である。
【図3】 本発明に係る基板ステージ装置の全体構成を示す斜視図である。
【図4】 図3における側面図である。
【図5】 図3を簡略化した図である。
【図6】 フォロアテーブルに関わる構成のみを示す外観斜視図である。
【図7】 メインステージ部の概略構成図である。
【図8】 図7における側面図である。
【図9】 ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図10】 ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図11】 ケーブル類を中継するフォロアテーブルの部分詳細図である。
【図12】 図7においてYキャリッジを回転させた図である。
【図13】 Yキャリッジが回転したときのリニアモータとエアベアリングに働くつり合い関係を示す図である。
【図14】 液晶表示デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図15】 従来技術による基板ステージ装置の一例を示す外観斜視図である。
【符号の説明】
M マスク(レチクル)
P ガラス基板(基板、感光基板)
XL2 フォロアXリニアモータ(第2駆動装置)
YL Yリニアモータ(駆動装置)
1 ベッド(ベース)
1a 貫通孔(第2貫通孔)
1b 貫通孔
4 Yビームガイド(ガイド部材)
7 Yキャリッジ(ステージ本体)
9 エアベアリング(保持装置)
10 プレートテーブル(ステージ本体)
11 プレートホルダ(ステージ本体)
13a、13b 可動子(第2可動子)
14a、14b 固定子(第2固定子)
15 従動ステージ保持機構(連結装置)
17 ケーブル類(用力供給部材)
22 支柱(支持部)
25 フォロアテーブル(従動ステージ)
27 固定子
28 可動子(第3可動子)
31 露光装置
35 基板ステージ装置(ステージ装置)
51 微調ネジ(保持装置)
53 可動子
85、86 防塵シート(カバー部材)
Claims (14)
- 基板を保持するステージ本体を第1方向に移動自在にガイドしてベース上を第2方向に移動するガイド部材と、前記ステージ本体を前記第1方向に駆動する駆動装置と、前記ステージ本体及び前記ガイド部材を前記第2方向に駆動する第3駆動装置とを備えたステージ装置であって、
前記ガイド部材は、前記第1方向及び前記第2方向と略直交する第3方向に関して、前記ステージ本体の前記基板を保持する側とは逆側に設けられ、
前記駆動装置の少なくとも一部が接続され、前記ガイド部材と第2駆動装置の駆動により前記第2方向に移動する従動ステージが、前記第3方向で前記ガイド部材と前記ベースとの間に配設され、
前記ステージ本体を前記ガイド部材に対して、非接触で前記第1方向に移動自在、且つ前記基板の保持面に沿って回転自在に保持させる保持装置と、
前記ステージ本体を前記保持面に沿って回転させる駆動部とを有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記基板は、液晶表示用基板であることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1または2記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ステージ本体に用力を供給する用力供給部材を中継することを特徴とするステージ装置。 - 請求項3記載のステージ装置において、
前記用力供給部材は、前記ベースに形成された貫通孔を介して前記従動ステージで中継されることを特徴とするステージ装置。 - 請求項4記載のステージ装置において、
前記貫通孔を覆うカバー部材を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項5記載のステージ装置において、
前記カバー部材は、一端が前記ステージ本体に取り付けられ、該ステージ本体の移動に伴い伸縮することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から6のいずれかに記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ベースと振動的に分離して設けられることを特徴とするステージ装置。 - 請求項7記載のステージ装置において、
前記従動ステージは、前記ベースに形成された第2貫通孔を貫通する支持部に支持されることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から8のいずれか1項に記載のステージ装置において、
前記駆動装置は、前記ステージ本体に接続された可動子と前記従動ステージに接続された固定子とを有し、
前記可動子と前記固定子との間の間隙量を検出する検出装置と、
前記検出された間隙量に基づいて前記可動子と前記固定子との相対位置関係を調整する位置調整装置とを備えることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から9のいずれかに記載のステージ装置において、
前記ガイド部材と前記従動ステージとを解除自在に一体化して連結させる連結装置を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から10のいずれかに記載のステージ装置において、
前記駆動部は、前記ステージ本体を挟んだ両側に設けられた前記駆動装置と、
前記両側の駆動装置を互いに逆方向に駆動させる駆動制御装置とを有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から11のいずれかに記載のステージ装置において、
前記ガイド部材の前記第2方向への駆動は、第2固定子を有する第2駆動装置により行われ、
前記従動ステージの前記第2方向への駆動は、前記第2固定子を用いて行われることを特徴とするステージ装置。 - 請求項12記載のステージ装置において、
前記ガイド部材に接続された第2可動子と前記従動ステージに接続された第3可動子との少なくともどちらか一方と、前記第2固定子との間の間隙量を検出する第2検出装置と、
前記検出された間隙量に基づいて前記第2可動子と前記第3可動子との少なくともどちらか一方と前記第2固定子との相対位置関係を調整する第2位置調整装置とを備えることを特徴とするステージ装置。 - マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板に露光する液晶表示デバイス製造用の露光装置において、
前記マスクステージと前記基板ステージとの少なくとも一方のステージとして、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載されたステージ装置が用いられることを特徴とする液晶表示デバイス製造用の露光装置。
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