JP2000111677A - 位置決めステージ装置、カラーフィルタ製造装置および液晶用アライナ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 リニアモータの発熱などに起因するレーザ干
渉計の位置ずれによる位置決め精度の劣化を防止する。 【解決手段】 第１のステージ３、４、６と、これを第
１の方向に案内する２つのガイド８で構成された第１の
案内手段と、第２のステージ５と、これを第１ステージ
上で第１方向と直行する第２の方向に案内する第２の案
内手段６と、第２ステージの第２方向の位置を計測する
ためのレーザ干渉計１０とを備え、第２ステージ上に位
置決め対象物を搭載して位置決めを行う位置決めステー
ジ装置において、第１案内手段を構成する２つのガイド
８のうち一方のみを真直度補償ガイドとし、かつ前記レ
ーザ干渉計を第１ステージ上の真直度補償ガイド側に固
定する。あるいは、前記レーザ干渉計を第１ステージ上
の真直度補償ガイドとは反対の側に固定し、さらに前記
レーザ干渉計の第２方向への変位を計測する変位計測手
段を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大ストロークを必
要とする位置決めステージ装置ならびにこれを用いたカ
ラーフィルタ製造装置および液晶用アライナに関するも
のであり、具体的には、カラーテレビ、パーソナルコン
ピュータ等に使用されるカラー液晶ディスプレイなどの
カラーフィルタの製造装置や液晶用アライナに適したも
のに関する。特に、インクジェット記録技術を利用した
カラーフィルタ製造装置に適したものに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体装置を製造するために半導
体ウエハ等を精密に移動する移動ステージ装置として、
半導体ウエハを搭載してＸ方向に直線往復移動するＸス
テージと、該Ｘステージを搭載し定盤上をＹ方向に直線
往復移動するＹステージと、前記半導体ウエハ（すなわ
ちＸステージ）のＸ方向への移動量を計測するＸ位置計
測用干渉計と、前記半導体ウエハ（すなわちＹ方向ステ
ージ）のＹ方向への移動量を計測するＹ位置計測用干渉
計とを具備しており、また、最近の高精度化にともない
駆動機構にリニアモータ、案内機構に静圧気体軸受を用
いたものが良く知られている。これらの移動ステージ装
置では、干渉計が定盤に固定されており、ＸとＹステー
ジの移動範囲とほぼ同じ長さの超平面ミラー２本をＸス
テージ上に配置している。

【０００３】また、このような移動ステージ装置とイン
クジェットヘッドを用いてガラス基板上に３色のパター
ンを形成するカラーフィルタ製造方法が提案されてい
る。これは、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色のインクジェットヘッドに
対し基板を搭載したステージを走査させ、かつ、インク
ジェットヘッドにより着色することによりカラーフィル
タを製造するものである。着色される基体上には、あら
かじめブラックマトリクスと呼ばれる格子状のパターン
が設けられており、その格子内にインク滴を着弾させる
ため、高精度な位置決めステージ技術が利用されてい
る。

【０００４】また、液晶パネルの大型化やコストダウン
を目的とし、１枚の基板からパネルを多面取りすること
による基板サイズの大判化により、基板ステージが大判
基板に対応した大ストロークの高精度位置決めステージ
への要望がある。

【０００５】しかし前述したように、通常のレーザ干渉
計を用いた位置決めステージでは、必要ストローク強の
長さの超平面ミラーが必要であり、その製作の困難さ、
および、その長さのミラーを用いた場合における重量バ
ランスの悪化によるステージ精度の劣化などの問題があ
る。

【０００６】そのため、走査ステージ（Ｙステージ）の
上に干渉計を載せ、ステップ方向（Ｘステージ）の位置
を検出することにより、１つの超平面ミラーを最小化
し、ステージの動特性を向上させ、高速高精度な位置決
めを可能にすることが考えられている（特開平９−４９
７０７号公報参照）。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これに
よれば、Ｘ方向位置を計測するための干渉計が、ステッ
プ駆動用のリニアモータの発熱による構造体の熱膨張の
影響を受け、それにともない位置がずれ、ステージの位
置決め精度が劣化するという問題が生じている。本発明
の目的は、このような従来技術の問題点に鑑み、位置決
めステージ装置、カラーフィルタ製造装置および液晶用
アライナにおいて、このようなレーザ干渉計の位置ずれ
による位置決め精度の劣化を防止することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、第１のステージと、これを第１の方向に案
内する２つのガイドで構成された第１の案内手段と、第
２のステージと、これを前記第１ステージ上で前記第１
方向と直行する第２の方向に案内する第２の案内手段
と、前記第２ステージの前記第２方向の位置を計測する
ためのレーザ干渉計とを備え、前記第２ステージ上に位
置決め対象物を搭載して位置決めを行う位置決めステー
ジ装置において、前記第１案内手段を構成する２つのガ
イドのうち一方のみが真直度補償ガイドであり、かつ前
記レーザ干渉計は前記第１ステージ上の前記真直度補償
ガイド側に固定されていることを特徴とする。これによ
れば、第１ステージが膨張しても、レーザ干渉計の位置
が変動しにくいため、位置決め精度の劣化が防止され
る。

【０００９】あるいは、前記レーザ干渉計が前記第１ス
テージ上の前記真直度補償ガイド側に固定される代わり
に、前記レーザ干渉計は前記第１ステージ上の前記真直
度補償ガイドとは反対の側に固定されており、かつ前記
レーザ干渉計の前記第２方向への変位を計測する変位計
測手段を設けたことを特徴とする。これによれば、第１
ステージが膨張してレーザ干渉計の位置が変位しても、
その変位を計測し、それを考慮した補正を行うことによ
り、位置決め精度の劣化が防止される。

【００１０】また、本発明のカラーフィルタ製造装置
は、インクジェットヘッドを光透過性の基体に対して相
対的に走査させながら前記インクジェットヘッドから着
色剤を吐出させ、前記基体上に前記着色剤により着色さ
れたフィルタエレメントを複数個並べて形成してカラー
フィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、
前記走査のために本発明の位置決めステージ装置を用い
ていることを特徴とし、それにより位置決め精度の劣化
を防止している。

【００１１】また、本発明の液晶用アライナは、液晶装
置製造用の基板の位置決めに本発明の位置決め装置を用
いていることを特徴とし、それにより位置決め精度の劣
化を防止している。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施形態におい
ては、前記変位計測手段は、装置の定盤に固定され、前
記第１方向に平行にほぼ前記第１ステージの移動範囲に
わたって設けられた基準面と、前記レーザ干渉計に固定
され、前記基準面との間の前記第２方向のギャップを計
測する変位センサとを有する。この場合、前記第１ステ
ージの位置による前記ギャップの変動をあらかじめ測定
しておき、装置稼動時には、そのギャップ変動と、ギャ
ップの実際の計測値に基づき前記レーザ干渉計の出力に
補正を施す手段を有するのが好ましい。

【００１３】あるいは、前記変位計測手段は、装置の定
盤に固定され、前記第１ステージの所定位置において前
記レーザ干渉計との間の前記第２方向のギャップを計測
するものである。

【００１４】いずれの場合も、前記第１ステージおよび
第２ステージをそれぞれ前記第１方向および第２方向に
駆動するためにそれぞれ前記第１および第２案内手段に
沿って設けられたリニアモータを有し、前記第１および
第２案内手段は静圧気体軸受で構成されている。

【００１５】前記インクジェットへッドとしては、熱エ
ネルギーを利用してインクを吐出するへッドであって、
インクに与える熱エネルギーを発生するための熱エネル
ギー変換体を備えているものを用いることができる。

【００１６】以上の構成に基づいた、大判基板対応の大
ストローク位置決めステージにおいては、高速かつ高精
度な位置決めが可能であり、カラーフィルタ描画装置や
液晶用アライナに用いることにより、大判基板での高精
度な位置決めが可能となり、パネルの大型化や多面取り
の製造を図ることができる。

【００１７】

【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。 （実施例１）図１は、本発明の第１の実施例に係る位置
決めステージ装置の構成の概略を示す平面図である。同
図において、１は静圧ステージの上下方向静圧ガイドベ
ース、２はＹ方向の真直度補償静圧ガイド、３および４
はＹ方向可動部である。Ｙ方向可動部３にはＹステージ
の上下方向およびＹ真直方向の静圧パッドが取り付けら
れており、Ｙ方向可動部４にはＹステージの上下方向の
静圧パッドが取り付けられている。５はＸＹ方向可動部
であり、上下方向およびＸ真直方向の静圧パッドが取り
付けられており、また、必要に応じてＺ−ｔｉｌｔ（Ｚ
チルト）とθステージが構成されている。６はＹ方向可
動部３および４に固定されたＸ方向真直度補償静圧ガイ
ド、７はＸ方向真直度補償ガイド６に固定されたＸ方向
駆動用のリニアモータである。８はＹ方向駆動用のリニ
アモータであり上下方向静圧ガイドベース１に固定され
ている。９はＸＹ方向可動部５のＸ、Ｙおよびθ方向の
位置検出用のレーザへッド、１０はＹ方向可動部３に固
定されたＸ方向の位置検出用の干渉計、１１はＸ方向の
位置検出用のレシーバ、１２はＸＹ方向可動部５に固定
されたＸ方向位置検出用の超平面ミラー、１３はＸＹ方
向可動部５のＹおよびθ方向の位置検出用の干渉計およ
びレシーバユニット、１４はＸＹ方向可動部５に固定さ
れたＹおよびθ方向位置検出用の超平面ミラー、１５は
装置全体のベースとなる本体定盤である。本体定盤１５
の上面には、静圧ステージの基準である上下方向静圧ガ
イドベース１、レーザヘッド９、Ｙおよびθ方向の干渉
計ユニット１３などが構成されている。

【００１８】この構成において、可動部５のＸ方向の移
動を繰返すことにより、Ｘ方向の駆動用リニアモータ７
が発熱し、Ｘ方向の真直度補償静圧ガイド６が熱膨張す
ることが考えられる。また、Ｙ方向真直度補償静圧ガイ
ド２は、熱容量が大きいことやＸ方向の駆動用リニアモ
ータ７からエアー膜により切り離されているため、その
変形はほとんど考えられない。このため、Ｘ方向の真直
度補償静圧ガイド６の熱膨張では、ほとんどがＹ方向の
真直度補償静圧ガイド２が構成されていない側に伸びる
と考えられる。このため、この構成のようにＹ方向真直
度補償静圧ガイド２が構成されている側にＸ方向の干渉
計１０を取り付けることにより、その影響を問題無いレ
ベルに抑えることが可能である。

【００１９】実際に、Ｘ方向にステップ動作を繰り返し
てＸ方向真直度補償静圧ガイド６の両側（Ｙ方向可動部
３および４）のＸ方向の伸びを静電容量センサで測定し
たところ図２の結果が得られた。太線で示されるＹ方向
真直度補償ガイドと反対側（Ｙ方向可動部４側）のＸ方
向変化は時間の経過とともに大きくなっているのに対
し、細線で示されるＹ方向真直度補償ガイド側（Ｙ方向
可動部３側）のＸ方向変化は時間の経過にかかわらずほ
とんどみられない。この結果より、本実施例の有効性が
わかる。

【００２０】（実施例２）図３は、本発明の第２の実施
例に係る位置決めステージ装置の構成の概略を示す平面
図である。同図において、１は静圧ステージの上下方向
静圧ガイドベース、２はＹ方向の真直度補償静圧ガイ
ド、３および４はＹ方向可動部である。Ｙ方向可動部３
にはＹステージの上下方向およびＹ真直方向の静圧パッ
ドが取り付けられており、Ｙ方向可動部４にはＹステー
ジの上下方向の静圧パッドが取り付けられている。５は
ＸＹ方向可動部であり、上下方向およびＸ真直方向の静
圧パッドが取り付けられており、また、必要に応じてＺ
−ｔｉｌｔとθステージが構成されている。６はＹ方向
可動部３および４に固定されたＸ方向真直度補償静圧ガ
イド、７はＸ方向真直度補償ガイド６に固定されたＸ方
向駆動用のリニアモータである。８はＹ方向駆動用のリ
ニアモータであり、上下方向静圧ガイドベース１に固定
されている。９はＸＹ方向可動部５のＸ、Ｙおよびθ方
向の位置検出用のレーザヘッド、１０はＹ方向可動部４
に固定された、Ｘ方向の位置検出用の干渉計、１１はＸ
方向の位置検出用のレシーバ、１２はＸＹ方向可動部５
に固定されたＸ方向位置検出用の超平面ミラー、１３は
Ｙおよびθ方向の位置検出用の干渉計およびレシーバユ
ニット、１４はＸＹ方向可動部５に固定されたＹおよび
θ方向位置検出用の超平面ミラー、１５は装置全体のベ
ースとなる本体定盤である。本体定盤１５の上面には、
静圧ステージの基準である上下方向静圧ガイドベース
１、レーザヘッド９、Ｙおよびθ方向の干渉計ユニット
１３などが構成されている。２０は本体定盤１５に固定
された本体定盤Ｘ方向基準であり、２１はＸ方向干渉計
１０が取り付けられたベースと本体定盤Ｘ方向基準２０
とのギャップを計るための変位センサである。

【００２１】この構成において、Ｘ方向の移動を繰り返
すと図２に示すような変化が生じ、Ｘ方向の位置検出用
の干渉計１０の位置にズレが発生する。そして、ＸＹ方
向可動部５は、そのズレに追従することになる。しか
し、このズレ量は、本実施例の特徴である変位センサ２
１により、定量的に把握することが可能である。この変
位センサ２１の測定結果をＸ方向のレーザ干渉計１０を
用いて測定したＸステージの位置に追加した値を目標値
にして、フィードバック制御をすることにより、リニア
モータ７の発熱の影響を除去することが可能である。

【００２２】この変位センサ２１による測定は、リアル
タイムに行っても良いが、測定されるギャップは温度変
化に応じたものであるため、Ｙ方向の移動の１サイクル
内で生じる変化は微少である。したがって、１サイクル
毎に測定を行い、オフセット値として位置目標値に追加
し、フィードバック制御を行っても問題無い。

【００２３】リアルタイムに補正を行う場合、図３に示
すような長い本体定盤Ｘ方向基準２０が必要である。こ
の場合、最初に本体定盤Ｘ方向基準２０とステージをＹ
方向だけに移動したときの変位センサ２１との関係を測
定し、Ｙステージの位置による変位センサ２１の出力基
準値とすることが望ましく、これにより本体定盤Ｘ方向
基準２０の平面度、真直度などの精度を緩くすることが
可能である。

【００２４】（実施例３）また、１サイクル毎の測定を
行うのであれば、第３の実施例として図４に示すよう
に、変位センサ２２を本体定盤Ｘ方向基準２０側に取り
付けることが可能である。

【００２５】（実施例４）図５（ａ）および( ｂ) は、
本発明の第４の実施例に係るインクジェットヘッドを用
いたカラーフィルタ製造装置を示す平面図および側面図
である。同図に示されるように、本発明に従った上述の
第１実施例の位置決めステージ装置が本体定盤１５の上
に搭載されている。同図において、３０は本体定盤１５
を支持し、外部振動を遮断するための除振台、３１はＸ
Ｙ可動部の上にθ−Ｚ−ｔｉｌｔステージを介して固定
された基板チャック、３２はカラーフィルタを形成する
ための基板、３３はＸＹ位置決めステージ装置の可動部
の上に構成されているθ−Ｚ−ｔｉｌｔステージ、３４
はインクジェットヘッドである。３５はＲ、Ｇ、Ｂのイ
ンクジェットヘッド３４を１つにまとめるためのへッド
ユニットであり、各へッドのＸ方向位置関係と角度を合
せる機構が具備されている。３６はへッドユニット３５
を装置上に保持するためのチャック、３７はへッドユニ
ット３５の回転方向位置を合せるθステージ、３８はへ
ッドのステップ方向位置（Ｘ方向）を合せるためのＸ方
向ステージ、３９は基板３２の目標位置に対する位置ズ
レ量を測定するためのアライメン卜光学系、４０は基板
３２のＺ方向の位置を検出するためのオートフォーカス
センサ、４１はインクジェットヘッド３４の吐出安定を
図るためのクリーニング機構、４２はクリーニング機構
４１を洗浄するための洗浄ユニット、４３はクリーニン
グ機構をインクジェットヘッド３４下に移動するための
移動機構である。

【００２６】上記構成において、カラーフィルタの製造
時には、図６に示すように、基板３２を基板チャック３
１に搭載すると（ステップＳ５１）、基板３２の面が所
定の高さで平面になるようにオートフォーカスセンサ４
０により計測し、Ｚ−ｔｉｌｔ調整機構３３によりＺ−
ｔｉｌｔ方向を合わせる（ステップＳ５２）。その後、
アライメント検出用光学系３９により、基板３２上のア
ライメントマークを基準位置に合致させるためのＸ、
Ｙ、θの３方向のズレ量を検出する（ステップＳ５
３）。この検出結果に基づき、基板ステージのＸ、Ｙ、
θ成分の微調整を行う（ステップＳ５３）。基板位置合
せ後、描画動作を行う（ステップＳ５４）。

【００２７】描画動作時のステージのシーケンスでは、
インクジェットヘッド３４の吐出タイミングに同期させ
て基板ステージをＹ方向に走査移動する。走査後、描画
幅分Ｘ方向にステップ移動し、再度描画動作を行う。こ
の繰り返しにより、基板上のカラーフィルタ形成領域全
面を描画する。また、へッドクリーニング機構４１およ
びへッドキャップ機構の洗浄は、描画動作中（ステップ
Ｓ５４）に同時に行い、きれいな状態を保っている（ス
テップＳ５５）。

【００２８】描画終了後、基板の排出および搭載動作時
（ステップＳ５６、Ｓ５１）からフォーカス合せ（ステ
ップＳ５２）までと同時にヘッド機能維持のためのクリ
ーニングシーケンス（ステップＳ５７）およびヘッドキ
ャップ（ステップＳ５８）を行う。へッドキャップは、
へッドクリーニング後の乾燥防止対策である。

【００２９】図７は基板３２にインクが着弾した状態を
示す模式図である。同図において、５０はブラックマト
リクス、５１は混色を防ぐための混色防止層、５２はカ
ラーフィルタの開口部、５３は赤（Ｒｅｄ）のインク着
弾点、５４は緑（Ｇｒｅｅｎ）のインク着弾点、５５は
青（Ｂｌｕｅ）のインク着弾点である。

【００３０】このようにブラックマトリクス５０に合わ
せてインク滴を入れなければならないため、Ｘ方向の位
置決めは、非常に厳しいものとなる。具体的には、ブラ
ックマトリクスの幅が１００μｍ程度、ノズル約３００
本のＸ方向の着弾精度が±５μｍ、インクの着弾径が８
０μｍ程度、混色防止層の幅が７μｍであるため、描画
装置に許される誤差配分は±１．５μｍ程度である。

【００３１】このような条件に鑑み、本発明に従った上
述の第１実施例の位置決めステージを用いることによ
り、Ｘ方向リニアモータ７がステップ動作により発熱し
てもＸ方向測定用の干渉計１０はその影響を受けること
がなく、インクジェットヘッド３４と基板３２（ステー
ジ）の位置関係を維持することができ、基板全域にわた
りインクの混色や色抜けをなくすことが可能である。ま
た、同様に上述の第２や第３の実施例の位置決めステー
ジ装置を用いてもリニアモータ７の発熱による熱膨張量
をキャンセルすることができ、インクジェットヘッド３
４とステージとの位置関係を維持することができる。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
１ステージの膨張によるレーザ干渉計の位置ずれで生じ
る位置決め精度の劣化を防止することができる。したが
って大ストロークの位置決めを行う際にも、高速かつ高
精度な位置決めを行うことができる。したがって、大判
基板に対応したカラーフィルタ描画装置や液晶用アライ
ナなどの製造装置を構成することができ、パネルの大型
化や多面取りの製造を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例に係る位置決めステー
ジ装置の概略を示す平面図である。

【図２】 本発明に従った図１の装置による効果を説明
するためのグラフである。

【図３】 本発明の第２の実施例に係る位置決めステー
ジ装置の概略を示す平面図である。

【図４】 本発明の第３の実施例に係る位置決めステー
ジ装置の概略を示す平面図である。

【図５】 本発明の第４の実施例に係る位置決めステー
ジ装置を適用したカラーフィルタ製造装置の概略を示す
平面図および側面図である。

【図６】 図５の装置における基板処理のフローチャー
トである。

【図７】 図５の装置を用いた描画方式によるインクの
着弾の様子を示す模式図である。

【符号の説明】

１：上下方向静圧ガイドベース、２：Ｙ方向真直度補償
静圧ガイド、３：Ｙ方向可動部、４：Ｙ方向可動部、
５：ＸＹ方向可動部、６：Ｘ方向真直度補償静圧ガイ
ド、７：Ｘ方向リニアモータ、８：Ｙ方向リニアモー
タ、９：レーザへッド、１０：Ｘ方向位置検出用干渉
計、１１：Ｘ方向位置検出用レシーバ、１２：Ｘ方向用
の超平面ミラー、１３：Ｙおよびθ方向の干渉計および
レシーバユニット、１４：Ｙおよびθ方向用の超平面ミ
ラー、１５：本体定盤、２０：本体定盤Ｘ方向基準、２
１：変位センサ、２２：変位センサ、３０：除振台、３
１：基板チャック、３２：基板、３３：θ−Ｚ−ｔｉｌ
ｔステージ、３４：インクジェットヘッド、３５：へッ
ドユニット、３６：チャック、３７：θステージ、３
８：Ｘ方向ステージ、３９：アライメント光学系、４
０：オートフォーカスセンサ、４１：クリーニング機
構、４２：洗浄ユニット、４３：移動機構、５０：ブラ
ックマトリクス、５１：混色防止層、５２：開口部、５
３：赤（Ｒｅｄ）インク着弾点、５４：緑（Ｇｒｅｅ
ｎ）インク着弾点、５５：青（Ｂｌｕｅ）インク着弾
点。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１のステージと、これを第１の方向に
   案内する２つのガイドで構成された第１の案内手段と、
   第２のステージと、これを前記第１ステージ上で前記第
   １方向と直行する第２の方向に案内する第２の案内手段
   と、前記第２ステージの前記第２方向の位置を計測する
   ためのレーザ干渉計とを備え、前記第２ステージ上に位
   置決め対象物を搭載して位置決めを行う位置決めステー
   ジ装置において、前記第１案内手段を構成する２つのガ
   イドのうち一方のみが真直度補償ガイドであり、かつ前
   記レーザ干渉計は前記第１ステージ上の前記真直度補償
   ガイド側に固定されていることを特徴とする位置決めス
   テージ装置。
2. 【請求項２】 第１のステージと、これを第１の方向に
   案内する２つのガイドで構成された第１の案内手段と、
   第２のステージと、これを前記第１ステージ上で前記第
   １方向と直行する第２の方向に案内する第２の案内手段
   と、前記第２ステージの前記第２方向の位置を計測する
   ためのレーザ干渉計とを備え、前記第２ステージ上に位
   置決め対象物を搭載して位置決めを行う位置決めステー
   ジ装置において、前記第１案内手段を構成する２つのガ
   イドのうち一方のみが真直度補償ガイドであり、前記レ
   ーザ干渉計は前記第１ステージ上の前記真直度補償ガイ
   ドとは反対の側に固定されており、かつ前記レーザ干渉
   計の前記第２方向への変位を計測する変位計測手段を設
   けたことを特徴とする位置決めステージ装置。
3. 【請求項３】 前記変位計測手段は、装置の定盤に固定
   され、前記第１方向に平行にほぼ前記第１ステージの移
   動範囲にわたって設けられた基準面と、前記レーザ干渉
   計に固定され、前記基準面との間の前記第２方向のギャ
   ップを計測する変位センサとを有することを特徴とする
   請求項２に記載の位置決めステージ装置。
4. 【請求項４】 前記変位計測手段は、装置の定盤に固定
   され、前記第１ステージの所定位置において前記レーザ
   干渉計との間の前記第２方向のギャップを計測するもの
   であることを特徴とする請求項２に記載の位置決めステ
   ージ装置。
5. 【請求項５】 前記第１ステージの位置による前記ギャ
   ップの変動をあらかじめ測定しておき、装置稼動時に
   は、そのギャップ変動と、ギャップの実際の計測値に基
   づき前記レーザ干渉計の出力に補正を施す手段を有する
   ことを特徴とする請求項３に記載の位置決めステージ装
   置。
6. 【請求項６】 前記第１ステージおよび第２ステージを
   それぞれ前記第１方向および第２方向に駆動するために
   それぞれ前記第１および第２案内手段に沿って設けられ
   たリニアモータを有し、前記第１および第２案内手段は
   静圧気体軸受で構成されていることを特徴とする請求項
   １〜５のいずれか１項に記載の位置決めステージ装置。
7. 【請求項７】 インクジェットヘッドを光透過性の基体
   に対して相対的に走査させながら前記インクジェットヘ
   ッドから着色剤を吐出させ、前記基体上に前記着色剤に
   より着色されたフィルタエレメントを複数個並べて形成
   してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置
   であって、前記走査のために請求項１〜６のいずれかの
   位置決めステージ装置を用いていることを特徴とするカ
   ラーフィルタ製造装置。
8. 【請求項８】 前記インクジェットへッドは、熱エネル
   ギーを利用してインクを吐出するへッドであって、イン
   クに与える熱エネルギーを発生するための熱エネルギー
   変換体を備えていることを特徴とする請求項７に記載の
   カラーフィルタ製造装置。
9. 【請求項９】 液晶装置製造用の基板の位置決めに請求
   項１〜６のいずれかの位置決め装置を用いていることを
   特徴とする液晶用アライナ。