JP2003068623A

JP2003068623A - ステージ装置およびステージ駆動方法並びに露光装置

Info

Publication number: JP2003068623A
Application number: JP2001258088A
Authority: JP
Inventors: Masaru Arai; 大荒井
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2001-08-28
Filing date: 2001-08-28
Publication date: 2003-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】ステージ移動時の振動の影響を抑制する際に
も、装置の大型化や複雑化、コストアップを回避する。【解決手段】第１移動子６４Ａと第１固定子６６とを
有し、ステージ本体１Ａを第１方向に駆動する第１駆動
装置６１Ａと、第２移動子と、第１移動子６４Ａに接続
された第２固定子２Ａとを有し、ステージ本体１Ａを第
２方向に駆動する第２駆動装置６２Ａと、第１駆動装置
６１Ａによりステージ本体１Ａを駆動させた際に発生す
る反力により移動する移動装置６５と、少なくとも一部
が第２固定子２Ａに接続され、第２駆動装置６２Ａによ
りステージ本体１Ａを駆動させた際に発生する反力をス
テージ本体１Ａとは振動的に分離された部分ＢＰに伝達
する伝達装置７３とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を保持するス
テージ本体が複数の方向に移動するステージ装置および
ステージ駆動方法、並びにこのステージ装置に保持され
たマスクと基板とを用いて露光処理を行う露光装置に関
し、特に半導体集積回路や液晶ディスプレイ等のデバイ
スを製造する際に、リソグラフィ工程で用いて好適なス
テージ装置および露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体デバイスの製造工程の
１つであるリソグラフィ工程においては、マスク又はレ
チクル（以下、レチクルと称する）に形成された回路パ
ターンをレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガ
ラスプレート等の基板上に転写する種々の露光装置が用
いられている。例えば、半導体デバイス用の露光装置と
しては、近年における集積回路の高集積化に伴うパター
ンの最小線幅（デバイスルール）の微細化に応じて、レ
チクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小
転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。

【０００３】この縮小投影露光装置としては、レチクル
のパターンをウエハ上の複数のショット領域（露光領
域）に順次転写するステップ・アンド・リピート方式の
静止露光型の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）
や、このステッパを改良したもので、特開平８−１６６
０４３号公報等に開示されるようなレチクルとウエハと
を一次元方向に同期移動してレチクルパターンをウエハ
上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキ
ャン方式の走査露光型の露光装置（いわゆるスキャニン
グ・ステッパ）が知られている。

【０００４】これらの縮小投影露光装置においては、ス
テージ装置として、床面に先ず装置の基準になるベース
プレートが設置され、その上に床振動を遮断するための
防振台を介してレチクルステージ、ウエハステージおよ
び投影光学系（投影レンズ）等を支持する本体コラムが
載置されたものが多く用いられている。最近のステージ
装置では、前記防振台として、内圧が制御可能なエアマ
ウント、ボイスコイルモータ等のアクチュエータを備
え、本体コラム（メインフレーム）に取り付けられた、
例えば６個の加速度計の計測値に基づいて前記ボイスコ
イルモータ等を制御することにより本体コラムの振動を
制御するアクティブ防振台が採用されている。

【０００５】ところが、上記のステッパ等では、ウエハ
上のあるショット領域に対する露光の後、他のショット
領域に対して順次露光を繰り返すものであるから、ウエ
ハステージ（ステッパの場合）、あるいはレチクルステ
ージおよびウエハステージ（スキャニング・ステッパの
場合）の加速、減速運動によって生じる反力が本体コラ
ムの振動要因となって、投影光学系とウエハ等との相対
位置誤差を生じさせるという不都合があった。特に、ア
ライメント時や露光時における上記相対位置誤差は、結
果的にウエハ上で設計値と異なる位置にパターンが転写
されたり、その位置誤差に振動成分を含む場合には像ボ
ケ（パターン線幅の増大）を招いたりする原因になると
いう不都合があった。

【０００６】従って、係る不都合を抑制するためには、
上記のアクティブ防振台等により本体コラムの振動を十
分に減衰させる必要がある。例えばステッパの場合に
は、ウエハステージが所望の位置に位置決めされ十分に
整定されるのを待ってアライメント動作や露光動作を開
始する必要がある。また、スキャニング・ステッパの場
合には、レチクルステージとウエハステージとの同期整
定を十分に確保した状態で露光を行う必要があった。こ
のため、スループット（生産性）を悪化させる要因とな
っていた。

【０００７】また、近年におけるレチクルやウエハの大
型化に伴い、両ステージが大型化し、上記特開平８−１
６６４７５号公報や特開平８−３３０２２４号公報に記
載された発明を用いても、フレーム部材を伝わって床側
に逃げる反力に起因してフレーム部材自身が振動した
り、床に逃げた反力が防振台を介して投影光学系を保持
する本体コラム（メインボディ）に伝わってこれを加振
する、いわゆる揺れ返しが生じる虞がある。そのため、
スループットをある程度確保しつつ高精度な露光を行う
ことは困難になっている。

【０００８】そこで、例えば特開平８−６３２３１号公
報には、ベース上に浮揚支持されるステージ本体と駆動
フレームとを設け、ステージ本体の前進移動に伴う反力
で駆動フレームが後退するステージ装置が開示されてい
る。この技術によれば、ステージ本体と駆動フレームと
の間に運動量保存の法則が働き、ベース上における装置
の重心の位置が維持されるため、フレーム部材への振動
の影響を小さくすることができる。

【０００９】図９に、この種のステージ装置の一例を示
す。このステージ装置は、基板（感光基板）としてのウ
エハＷを保持する移動ステージ（ステージ本体）１がリ
ニアモータ等の駆動により、Ｘガイドバー２に沿ってＸ
方向に移動するとともに、Ｘガイドバー２がリニアモー
タを構成する固定子３、３に沿ってＹ方向に移動するこ
とで、ウエハＷがＸＹ平面に沿う２次元方向に移動する
ものである。固定子３、３は、両端において連結部材
４、４で連結され矩形枠状の、いわゆるカウンターマス
５を形成しており、カウンターマス５はベース（定盤）
上でＸＹ平面に沿って移動自在に浮揚支持されている。

【００１０】そして、移動ステージ１がＸＹ平面に沿っ
て移動すると、移動に伴う反力でカウンターマス５が移
動することで運動量保存の法則が働き、ベース上におけ
る装置の重心の位置が維持される。その結果、装置の外
部に反力を伝えることなく移動ステージ１（すなわちウ
エハＷ）を移動させることができ、ステージ移動時の振
動を最小限に抑えることが可能になる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来のステージ装置およびステージ駆動方法並
びに露光装置には、以下のような問題が存在する。固定
子３、３が移動してもカウンターマス５が変形しないよ
うに連結部材４を強固にする必要があるため、連結部材
４を有するカウンターマス５の重量化および大型化を招
くという問題があった。また、カウンターマス５がＸ
軸、Ｙ軸の両方向に移動するため、各方向で移動ストロ
ーク以上のスペースを確保しなければならず、やはり装
置が大型化してしまうという問題があった。

【００１２】一方、移動ステージ１の位置や移動する方
向によっては、例えば移動ステージ１がカウンターマス
５の中心に対して偏心している場合には、カウンターマ
ス５にＺ軸回り（鉛直軸回り）の回転モーメントが加わ
り、カウンターマス５、移動ステージ１およびウエハＷ
がＺ軸回りに回転運動することになる。そのため、移動
ステージ１に対する回転方向のセンシングおよび回転運
動を阻止する位置制御のために別途センサーやアクチュ
エータが必要になり、装置構成の複雑化、大型化および
コストアップにつながるという問題もあった。

【００１３】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、ステージ移動時の振動の影響を抑制する際
にも、装置の大型化や複雑化、コストアップを回避でき
るステージ装置およびステージ駆動方法、並びにこのス
テージ装置を備えた露光装置を提供することを目的とす
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図７に対応
付けした以下の構成を採用している。本発明のステージ
装置は、基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を保持して第１方向
（Ｙ方向）および第２方向（Ｘ方向）に移動するステー
ジ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を備えたステージ装置（ＷＳ
Ｔ）であって、第１移動子（６４Ａ、６４Ｂ）と第１固
定子（６６）とを有し、ステージ本体（１、１Ａ、１
Ｂ）を第１方向（Ｙ方向）に駆動する第１駆動装置（６
１Ａ、６１Ｂ）と、第２移動子と、第１移動子（６４
Ａ、６４Ｂ）に接続された第２固定子とを有し、ステー
ジ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を第２方向（Ｘ方向）に駆動
する第２駆動装置（６２Ａ、６２Ｂ）と、第１駆動装置
（６１Ａ、６１Ｂ）によりステージ本体（１、１Ａ、１
Ｂ）を駆動させた際に発生する反力により移動する移動
装置（６５）と、少なくとも一部が第２固定子に接続さ
れ、第２駆動装置（６２Ａ、６２Ｂ）によりステージ本
体（１、１Ａ、１Ｂ）を駆動させた際に発生する反力を
ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）とは振動的に分離され
た部分（ＢＰ）に伝達する伝達装置（７３）とを備えた
ことを特徴とするものである。

【００１５】従って、本発明のステージ装置では、ステ
ージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を介して基板（Ｗ、Ｗ１、
Ｗ２）を第１方向（Ｙ方向）に移動させた際の反力で移
動装置（６５）が移動し、ステージ本体（１、１Ａ、１
Ｂ）を介して基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を第２方向（Ｘ方
向）に移動させた際の反力をステージ本体（１、１Ａ、
１Ｂ）とは振動的に分離された部分（ＢＰ）に伝達する
ので、ベース上における装置の重心の位置が維持され、
ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）移動時の振動を抑制す
ることができる。そして、本発明では、ステージ本体
（１、１Ａ、１Ｂ）の移動に伴う反力により第１方向
（Ｙ方向）にのみ移動装置（６５）が移動し、第２方向
（Ｘ方向）については反力による移動がないので、第２
方向（Ｘ方向）に移動スペースを確保する必要がなくな
り、装置の大型化を阻止できる。また、本発明では、第
１駆動装置（６１Ａ、６１Ｂ）の駆動を制御すること
で、ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）の回転を防止でき
るので、回転方向のセンシングおよび回転運動を阻止す
る位置制御のための装置を別途設ける必要がなくなり、
装置の大型化や複雑化、コストアップを回避することが
できる。さらに、本発明では、伝達装置（７３）の少な
くとも一部が第２固定子に接続されているので、ステー
ジ本体（１、１Ａ、１Ｂ）に接続された場合に比較し
て、振動による影響を抑制することができる。

【００１６】また、本発明のステージ装置は、基板
（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を保持して第１方向（Ｙ方向）およ
び第２方向（Ｘ方向）に移動するステージ本体（１、１
Ａ、１Ｂ）を備えたステージ装置（ＷＳＴ）であって、
第１移動子（６４Ａ、６４Ｂ）と第１固定子（６６）と
を有し、ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を第１方向
（Ｙ方向）に駆動する第１駆動装置（６１Ａ、６１Ｂ）
と、第２移動子と第２固定子とを有し、ステージ本体
（１、１Ａ、１Ｂ）を第２方向（Ｘ方向）に駆動する第
２駆動装置（６２Ａ、６２Ｂ）と、第１駆動装置（６１
Ａ、６１Ｂ）によりステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を
駆動させた際に発生する反力により移動する移動装置
（６５）と、移動装置（６５）を挟んで設けられ、第２
駆動装置（６２Ａ、６２Ｂ）によりステージ本体（１、
１Ａ、１Ｂ）を駆動させた際に発生する反力をステージ
本体（１、１Ａ、１Ｂ）とは振動的に分離された部分
（ＢＰ）に伝達する伝達装置（７３）とを備えたことを
特徴とするものである。

【００１７】従って、本発明のステージ装置では、ステ
ージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を介して基板（Ｗ、Ｗ１、
Ｗ２）を第１方向（Ｙ方向）に移動させた際の反力で移
動装置（６５）が移動し、ステージ本体（Ｗ、Ｗ１、Ｗ
２）を介して基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を第２方向（Ｘ方
向）に移動させた際の反力をステージ本体（１、１Ａ、
１Ｂ）とは振動的に分離された部分（ＢＰ）に伝達する
ので、ベース上における装置の重心の位置が維持され、
ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）移動時の振動を抑制す
ることができる。そして、本発明では、ステージ本体
（１、１Ａ、１Ｂ）の移動に伴う反力により第１方向
（Ｙ方向）にのみ移動装置（６５）が移動し、第２方向
（Ｘ方向）については反力による移動がないので、第２
方向（Ｘ方向）に移動スペースを確保する必要がなくな
り、装置の大型化を阻止できる。また、本発明では、第
１駆動装置（６１Ａ、６１Ｂ）の駆動を制御すること
で、ステージ本体（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）の回転を防止でき
るので、回転方向のセンシングおよび回転運動を阻止す
る位置制御のための装置を別途設ける必要がなくなり、
装置の大型化や複雑化、コストアップを回避することが
できる。さらに、本発明では、伝達装置（７３）が移動
装置（６５）を挟んで設けられるので、移動装置（６
５）をステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）と同じ高さに配
置した場合でも、ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を安
定した状態で第１方向（Ｙ方向）に移動させることがで
きる。

【００１８】そして、本発明のステージ駆動方法は、基
板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を保持するステージ本体（１、１
Ａ、１Ｂ）を第１方向（Ｙ方向）および第２方向（Ｘ方
向）に駆動するステージ駆動方法であって、第１移動子
（６４Ａ、６４Ｂ）と第１固定子（６６）とを有する第
１駆動装置（６１Ａ、６１Ｂ）によりステージ本体
（１、１Ａ、１Ｂ）を第１方向（Ｙ方向）に駆動した際
に発生する反力を用いて質量体（６５）を移動させるス
テップと、第２移動子と、第１移動子（６４Ａ、６４
Ｂ）に接続された第２固定子とを有する第２駆動装置
（６２Ａ、６２Ｂ）によりステージ本体（１、１Ａ、１
Ｂ）を第２方向（Ｘ方向）に駆動した際に発生する反力
をステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）とは振動的に分離さ
れた部分（ＢＰ）に伝達するステップとを含むことを特
徴とするものである。

【００１９】従って、本発明のステージ駆動方法では、
ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）を介して基板（Ｗ、Ｗ
１、Ｗ２）を第１方向（Ｙ方向）に移動させた際の反力
で質量体（６５）が移動し、ステージ本体（１、１Ａ、
１Ｂ）を介して基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を第２方向（Ｘ
方向）に移動させた際の反力をステージ本体（１、１
Ａ、１Ｂ）とは振動的に分離された部分（ＢＰ）に伝達
するので、ベース上における装置の重心の位置が維持さ
れ、ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）移動時の振動を抑
制することができる。そして、本発明では、ステージ本
体（１、１Ａ、１Ｂ）の移動に伴う反力により第１方向
（Ｙ方向）にのみ質量体（６５）が移動し、第２方向
（Ｘ方向）については反力による移動がないので、第２
方向（Ｘ方向）に移動スペースを確保する必要がなくな
り、装置の大型化を阻止できる。また、本発明では、第
１駆動装置（６１Ａ、６１Ｂ）の駆動を制御すること
で、ステージ本体（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）の回転を防止でき
るので、回転方向のセンシングおよび回転運動を阻止す
る位置制御のための装置を別途設ける必要がなくなり、
装置の大型化や複雑化、コストアップを回避することが
できる。

【００２０】また、本発明の露光装置は、マスクステー
ジ（ＲＳＴ）に保持されたマスク（Ｒ）のパターンを基
板ステージ（ＷＳＴ）に保持された感光基板（Ｗ、Ｗ
１、Ｗ２）に露光する露光装置（１０）において、マス
クステージ（ＲＳＴ）と基板ステージ（ＷＳＴ）との少
なくとも一方のステージとして、請求項１から８のいず
れか１項に記載されたステージ装置（ＷＳＴ）が用いら
れることを特徴としている。

【００２１】従って、本発明の露光装置では、マスク
（Ｒ）または感光基板（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）を移動させる
ステージ装置（ＷＳＴ）の大型化や複雑化、コストアッ
プを回避できるので、ステージ本体（１、１Ａ、１Ｂ）
移動時の振動を抑制しつつ、装置の小型化および低価格
化を実現することができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明のステージ装置およ
びステージ駆動方法並びに露光装置の実施の形態を、図
１ないし図８を参照して説明する。ここでは、露光装置
として、レチクルとウエハとを一次元方向（ここではＹ
軸方向とする）に同期移動しつつ、レチクルに形成され
た半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写す
る、ステップ・アンド・スキャン方式、またはステップ
・アンド・スティッチ方式からなる走査露光方式の露光
装置を使用する場合の例を用いて説明する。また、この
露光装置においては、本発明のステージ装置をウエハス
テージに適用するものとする。なお、これらの図におい
て、従来例として示した図９と同一の構成要素には同一
符号を付し、その説明を省略する。

【００２３】図１には本発明の一実施形態に係る露光装
置１０の全体構成が概略的に示されている。露光装置１
０は、露光用照明光（以下、「照明光」と略述する）Ｉ
ＬによりレチクルＲ上の矩形状（あるいは円弧状）の照
明領域を均一な照度で照明する不図示の照明系と、レチ
クルＲを保持するマスクステージとしてのレチクルステ
ージＲＳＴ、レチクルＲから射出される照明光をウエハ
Ｗ上に投射する投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持する基
板ステージとしてのウエハステージ（ステージ装置）Ｗ
ＳＴ、投影光学系ＰＬ，レチクルステージＲＳＴ及びウ
エハステージＷＳＴが搭載されたボディとしての本体コ
ラム１４、及び本体コラム１４の振動を抑制あるいは除
去する防振システム等を備えている。

【００２４】前記照明光ＩＬとしては、例えば超高圧水
銀ランプからの紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線）及びＫｒＦ
エキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（Ｄ
ＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎ
ｍ）及びＦ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外
光（ＶＵＶ光）などが用いられる。

【００２５】本体コラム１４は、床面ＦＤに水平に載置
された装置の基準となる矩形板状のベースプレートＢＰ
と、このベースプレートＢＰ上面の三角形頂点部分の近
傍にそれぞれ配置された防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃ
（但し、図１においては紙面奥側の防振ユニット１６Ｃ
は図示せず）及びこれらの防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃ
を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤１８と、この鏡
筒定盤１８に４本の支持柱２０を介して吊り下げ支持さ
れたウエハステージ定盤２２と、鏡筒定盤１８に装着さ
れたファーストインバと呼ばれる投影光学系ＰＬの支持
部材２４（以下、「ファーストインバ２４」と呼ぶ）
と、鏡筒定盤１８上に立設されたセカンドインバと呼ば
れるレチクルステージ定盤２５の支持部材２６（以下、
「セカンドインバ２６」と呼ぶ）とを備えている。な
お、ウエハステージ定盤２２は、鋳鉄にセラミックスが
溶射等によりコーティングされた構成になっている。

【００２６】防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃは、ベースプ
レートＢＰの上部に直列に配置されたアクチュエータ部
２８と内圧が調整可能なエアマウント３０とをそれぞれ
含んで構成されている。防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃの
各アクチュエータ部２８には、ボイスコイルモータがそ
れぞれ少なくとも１つ含まれている。この場合、防振ユ
ニット１６Ａ〜１６Ｃの全体としてアクチュエータ部
に、鉛直方向（すなわち図１のＺ方向）駆動用のボイス
コイルモータが少なくとも３個、Ｘ方向駆動用のボイス
コイルモータ及びＹ方向駆動用のボイスコイルモータが
合計で少なくとも３個（但し、Ｘ方向駆動用のボイスコ
イルモータ及びＹ方向駆動用のボイスコイルモータが各
１つ含まれる）含まれている。また、エアマウント３０
は、防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃのそれぞれに含まれて
いるが、エアマウント３０は鏡筒定盤１８を下方から支
持するものが少なくとも３つあれば足りる。すなわち、
防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃのいずれか１つの代わりに
単なる柱を設けても構わない。

【００２７】鏡筒定盤１８には、図１では図示が省略さ
れているが、該鏡筒定盤１８を含む本体コラム１４のＺ
軸方向の振動を検出する振動センサ（例えば半導体加速
度センサ等の加速度計）が少なくとも３つ、Ｘ方向、Ｙ
方向の振動を検出する振動センサ（例えば半導体加速度
センサ等の加速度計）が合計で少なくとも３つ（但し、
Ｘ方向振動検出用センサ及びＹ方向振動検出用センサを
各１つ含む）取り付けられている。そして、これらの少
なくとも６つの振動センサ（以下、便宜上「振動センサ
群３２」と呼ぶ）の出力が後述する主制御装置５０（図
５参照）に供給され、該主制御装置５０によって本体コ
ラム１４の６自由度方向の運動が求められ、防振ユニッ
ト１６Ａ〜１６Ｃが制御されるようになっている。すな
わち、本実施形態では、振動センサ群と防振ユニット１
６Ａ〜１６Ｃと、主制御装置５０とによって本体コラム
１４の振動を制振するためのアクテイブ防振システムが
構成されている。

【００２８】セカンドインバ２６は、側面視略台形状で
底面及び上面が八角形の多面体の全体形状を有し、各側
面に台形状の開口が形成され、底面が完全に開口したフ
レームである。このセカンドインバ２６の上面はレチク
ルステージ定盤２５を支持する支持プレートとされてお
り、該支持プレートには、照明光ＩＬの通路を成す矩形
の開口部（不図示）が形成され、この開口部を含む領域
の上面にレチクルステージ定盤２５が載置されている。
レチクルステージ定盤２５にも開口部に対向して所定の
開口が形成されている。

【００２９】レチクルステージＲＳＴは、上記レチクル
ステージ定盤２５上に配置されている。レチクルステー
ジＲＳＴは、レチクルＲをレチクルステージ定盤２５上
でＹ軸方向に大きなストロークで直線駆動するととも
に、Ｘ軸方向及びθＺ方向（Ｚ軸回りの回転方向）に関
しても微小駆動が可能な構成となっている。

【００３０】レチクルステージＲＳＴは、レチクルステ
ージ定盤２５上にＹ軸方向に沿って設けられた不図示の
Ｙガイドに沿って移動するマスク粗動ステージとしての
レチクル粗動ステージ１１と、このレチクル粗動ステー
ジ１１上を一対のＸボイスコイルモータ３６Ａ、３６Ｂ
（図１では図示せず、図５参照）と一対のＹボイスコイ
ルモータ３６Ｃ、３６Ｄ（図１では図示せず、図５参
照）とによってＸ、Ｙ、θＺ方向に微少駆動されるマス
ク微動ステージとしてのレチクル微動ステージ１２とを
含んで構成されている。レチクルＲはレチクル微動ステ
ージ１２に、例えば真空吸着等によって固定されてい
る。

【００３１】レチクル粗動ステージ１１は、不図示のエ
アベアリングによってＹガイドに対して非接触で支持さ
れており、Ｙリニアモータ３４Ａ、３４Ｂ（図１では図
示せず、図５参照）によってＹ軸方向に所定ストローク
で駆動される構成になっている。本実施形態では、Ｙリ
ニアモータ３４Ａ、３４Ｂ、Ｘボイスコイルモータ３６
Ａ、３６Ｂ及びＹボイスコイルモータ３６Ｃ、３６Ｄに
よってレチクルステージＲＳＴの駆動系３７（図５参
照）が構成されている。

【００３２】Ｙリニアモータ３４Ａ、３４Ｂのそれぞれ
は、レチクルステージ定盤２５上に複数のエアベアリン
グによって浮上支持されＹ軸方向に延びる固定子と、該
固定子に対応して設けられレチクル粗動ステージ１１に
固定された可動子とから構成されている。従って、本実
施形態では、レチクルステージＲＳＴが走査方向（Ｙ軸
方向）に移動する際には、一対のＹリニアモータ３４
Ａ、３４Ｂの可動子と固定子とが相対的に逆方向に移動
する。すなわち、レチクルステージＲＳＴと固定子とが
相対的に逆方向に移動する。レチクルステージＲＳＴと
固定子とレチクルステージ定盤２５との３者間の摩擦が
零である場合には、運動量保存の法則が成立し、レチク
ルステージＲＳＴの移動に伴う固定子の移動量は、レチ
クルステージＲＳＴ全体と固定子との重量比で決定され
る。このため、レチクルステージＲＳＴの走査方向の加
減速時の反力は固定子の移動によって吸収されるので、
上記反力によってレチクルステージ定盤２５が振動する
のを効果的に防止することができる。また、レチクルス
テージＲＳＴと固定子とが相対的に逆方向に移動して、
レチクルステージＲＳＴ、レチクルステージ定盤２５等
を含む系の全体の重心位置が所定の位置に維持されるの
で、重心位置の移動による偏荷重が発生しないようにな
っている。かかる詳細は、例えば、特開平８−６３２３
１号公報に記載されている。

【００３３】レチクル微動ステージ１２の一部には、そ
の位置や移動量を計測するための位置計測装置であるレ
チクルレーザ干渉計システム３８からの測長ビームを反
射する移動鏡４０が取り付けられている。レチクルレー
ザ干渉計システム３８は、鏡筒定盤１８の上面に固定さ
れている。レチクルレーザ干渉計システム３８に対応し
た固定鏡４２は、投影光学系ＰＬの鏡筒の側面に設けら
れている。そして、レチクルレーザ干渉計システム３８
によってレチクルステージＲＳＴ（具体的にはレチクル
微動ステージ１２）のＸ，Ｙ，θＺ方向の位置計測が投
影光学系ＰＬを基準として行われる。

【００３４】上記のレチクルレーザ干渉計システム３８
によって計測されるレチクルステージＲＳＴ（即ちレチ
クルＲ）の位置情報（又は速度情報）はステージ制御装
置４４（図１では図示せず、図５参照）及びこれを介し
て主制御装置５０に供給される（図５参照）。ステージ
制御装置４４は、基本的にはレチクルレーザ干渉計シス
テム３８から出力される位置情報（或いは速度情報）が
主制御装置５０からの指令値（目標位置、目標速度）と
一致するように上記のＹリニアモータ３４Ａ、３４Ｂ及
びボイスコイルモータ３６Ａ〜３６Ｄを制御する。

【００３５】前記鏡筒定盤１８の中央部には円形開口が
形成されており、この円形開口内に上端にフランジが設
けられた円筒状部材から成るファーストインバ２４が挿
入され、このファーストインバ２４の内部に投影光学系
ＰＬがその光軸方向をＺ軸方向として上方から挿入され
ている。ファーストインバ２４の素材としては、低熱膨
張の材質、例えばインバー（Inver；ニッケル３６％、
マンガン０．２５％、及び微量の炭素と他の元素を含む
鉄からなる低膨張の合金）が用いられている。

【００３６】投影光学系ＰＬの鏡筒部の外周部には、該
鏡筒部に一体化された鋳物等から成るフランジＦＬＧが
設けられている。このフランジＦＬＧは、投影光学系Ｐ
Ｌをファーストインバ２４に対して点と面とＶ溝とを介
して３点で支持するいわゆるキネマティック支持マウン
トを構成している。このようなキネマティック支持構造
を採用すると、投影光学系ＰＬのファーストインバ２４
に対する組み付けが容易で、しかも組み付け後のファー
ストインバ２４及び投影光学系ＰＬの振動、温度変化、
姿勢変化等に起因する応力を最も効果的に軽減できると
いう利点がある。

【００３７】前記投影光学系ＰＬとしては、ここでは、
物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方が
テレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や螢石
を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）のみから
成り投影倍率βが１／４（又は１／５）の屈折光学系が
使用されている。このため、レチクルＲに照明光ＩＬが
照射されると、レチクルＲ上の回路パターン領域のうち
の照明光ＩＬによって照明された部分からの結像光束が
投影光学系ＰＬに入射し、その回路パターンの部分倒立
像が投影光学系ＰＬの像面側の円形視野の中央にスリッ
ト状に制限されて結像される。これにより、投影された
回路パターンの部分倒立像は、投影光学系ＰＬの結像面
に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうちの
１つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写され
る。

【００３８】前記ウエハステージＷＳＴは、ウエハＷを
保持してＸＹ２次元方向に移動する。これを更に詳述す
ると、ウエハステージＷＳＴは、図１では簡略化して示
されているが、実際には、図２に示されるように、ウエ
ハステージ定盤２２、移動ステージ（ステージ本体）１
Ａ、１Ｂ（適宜、移動ステージ１と総称する）、移動ス
テージ１Ａ、１ＢをそれぞれＹ方向（第１方向）に駆動
するＹモータ（第１駆動装置）６１Ａ、６１Ｂ、移動ス
テージ１Ａ、１ＢをそれぞれＸ方向（第２方向）に駆動
するＸモータ（第２駆動装置）６２Ａ、６２Ｂを主体と
して構成されたダブル・ステージ方式であり、例えば移
動ステージ１Ａ側でウエハ（基板）Ｗ１に対する走査露
光中に、移動ステージ１Ｂ側でウエハ（基板）Ｗ２の交
換およびアライメントが実施可能になっている。

【００３９】移動ステージ１Ａ、１Ｂは、ウエハステー
ジ定盤２２上に不図示のエアベアリングを介して浮上支
持されている。移動ステージ１Ａ、１Ｂ上には、試料台
（ホルダ）６３Ａ、６３Ｂがそれぞれ載置され、これら
試料台６３Ａ、６３Ｂ上には感光基板であるウエハ（基
板）Ｗ１、Ｗ２（適宜、ウエハＷと総称する）が真空吸
着等によってそれぞれ保持される。試料台６３Ａ、６３
Ｂは、移動ステージ１Ａ、１Ｂに対してＸ方向、Ｙ方向
およびＺ軸回りの回転方向に微動可能であるとともに、
レベリングおよびフォーカシングを行うためにＺ方向の
変位、および２軸の回り（すなわち、Ｘ軸およびＹ軸回
り）の傾斜が可能な構成になっている。

【００４０】Ｘモータ６２Ａは、移動ステージ１Ａをス
テップ移動方向であるＸ方向に駆動するものであって、
Ｘ方向に延在するＸガイドバー２Ａに埋設された不図示
のＸ固定子（第２固定子；以下ＸガイドバーをＸ固定子
として説明する）と、移動ステージ１Ａに設けられ、Ｘ
固定子との間の電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動さ
れるＸ移動子（第２移動子；不図示）とから構成されて
いる。同様に、Ｘモータ６２Ｂは、移動ステージ１Ｂを
Ｘ方向に駆動するものであって、Ｘ方向に延在するＸガ
イドバー２Ｂ（適宜、Ｘガイドバー２と総称する）に埋
設されたＸ固定子（第２固定子；不図示）と、移動ステ
ージ１Ｂに設けられ、Ｘ固定子との間の電磁気的相互作
用によりＸ方向に駆動されるＸ移動子（第２移動子；不
図示）とから構成されている。

【００４１】Ｙモータ６１Ａは、移動ステージ１Ａをス
キャン方向（走査方向）であるＹ方向に駆動するもので
あって、図３に示すように、Ｘガイドバー２Ａの両端に
設けられたＹ移動子（第１移動子）６４Ａ、６４Ａと、
Ｙ移動子６４Ａに向けて開口する断面コ字状のカウンタ
ーマス（移動装置）６５、６５（但し、カウンターマス
の形状は左右で異なる）に、Ｙ移動子６４Ａを挟んだ両
側にＹ方向に延在して設けられ、Ｙ移動子６４Ａ、６４
Ａとの間の電磁気的相互作用により当該Ｙ移動子６４
Ａ、６４ＡをＹ方向に駆動させるＹ固定子（第１固定
子）６６、６６とから構成されている。なお、−Ｘ側
（図３中、左側）に配置されるカウンターマス６５に
は、Ｘガイドバー２Ａ、２ＢやＹ移動子６４Ａ、６４Ｂ
に接続されるエア用配管、冷媒用配管、電力配線、信号
供給用のシステム配線等の各種用力供給ケーブル等に応
力集中を発生させずに（緩和して）導くための傾斜面が
形成されている。

【００４２】同様に、Ｙモータ６１Ｂは、移動ステージ
１Ｂをスキャン方向（走査方向）であるＹ方向に駆動す
るものであって、Ｘガイドバー２Ｂの両端に設けられた
Ｙ移動子（第１移動子）６４Ｂ、６４Ｂと、Ｙ移動子６
４Ｂに向けて開口するカウンターマス６５、６５に、Ｙ
移動子６４Ｂを挟んだ両側にＹ方向に延在して設けら
れ、Ｙ移動子６４Ｂ、６４Ｂとの間の電磁気的相互作用
により当該Ｙ移動子６４Ｂ、６４ＢをＹ方向に駆動させ
るＹ固定子６６、６６とから構成されている。すなわ
ち、Ｙ移動子６４Ａ、６４Ｂは、複数の移動ステージ１
Ａ、１Ｂ毎に設けられるが、カウンターマス６５、６５
およびＹ固定子６６、６６は、移動ステージ１Ａ、１Ｂ
の移動範囲に亘る長さを有することで、これらＹ移動子
６４Ａ、６４Ｂに共用される構成になっている。なお、
上記Ｙモータ６１Ａ、６１Ｂは、ムービングコイル形式
のリニアモータを構成している。

【００４３】カウンターマス６５、６５の下面（−Ｚ側
の面）には、エアパッド等のエアベアリングを有しＹ方
向に延在するＹガイド６７、６７がそれぞれ設けられて
いる。−Ｘ側に配置されたカウンターマス６５は、ウエ
ハステージ定盤２２上に固定された支持部材６８にＹ方
向に沿って形成された突部６８ａに、Ｙガイド６７が嵌
合することで、質量体としてＹ方向に非接触で移動自在
に浮揚支持されている。一方、＋Ｘ側に配置されたカウ
ンターマス６５は、ベースプレートＢＰに立設されたフ
レクシャー構造体６９（後述）に対して固定された支持
部材７０にＹ方向に沿って形成された突部７０ａに、Ｙ
ガイド６７が嵌合することで、質量体としてＹ方向に非
接触で移動自在に浮揚支持されている。なお、カウンタ
ーマス６５、６５の合計質量と、移動ステージ１Ａ、１
Ｂの合計質量との比は、５：１程度に設定されている。

【００４４】また、このウエハステージＷＳＴには、移
動ステージ１Ａ、１ＢのＸ方向への移動に伴う反力を処
理するＸ方向反力処理装置７１と、移動ステージ１Ａ、
１Ｂの移動時の運動量に基づいてカウンターマス６５、
６５の運動量を補正するトリムモータ（運動量補正装
置）７２、７２とが備えられている（図２参照）。

【００４５】反力処理装置７１は、カウンターマス６５
を挟んだＺ方向両側に設けられた伝達装置としてのボイ
スコイルモータ（以下、ＶＣＭと称する）７３、７３
と、防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃによる振動絶縁によっ
て移動ステージ１Ａ、１Ｂとは振動的に分離された部分
であるベースプレートＢＰ上に固設されアルミ等の材質
で形成されたフレクシャー構造体６９とから概略構成さ
れている。

【００４６】移動ステージ１ＡにおけるＶＣＭ７３は、
Ｚ方向両側に突設されたステー７４Ａを介してＸガイド
バー２Ａに接続された移動子（第３移動子）７５Ａと、
フレクシャー構造体６９に固設され電磁気的相互作用
（電磁力）を用いて移動子７５ＡをＸ方向に沿って移動
させる固定子（第３固定子）７６とから構成されてい
る。同様に、移動ステージ１ＢにおけるＶＣＭ７３は、
Ｚ方向両側に突設されたステー７４Ｂを介してＸガイド
バー２Ｂに接続された移動子（第３移動子）７５Ｂと、
電磁気的相互作用を用いて移動子７５ＢをＸ方向に沿っ
て移動させる上記固定子７６とから構成されている。す
なわち、移動子７５Ａ、７５Ｂは、複数の移動ステージ
１Ａ、１Ｂ毎に設けられるが、固定子７６は、移動ステ
ージ１Ａ、１Ｂの移動範囲に亘る長さを有することでこ
れらＹ移動子６４Ａ、６４Ｂに共用される構成になって
いる。

【００４７】なお、下側（−Ｚ側）に配置された固定子
７６は、既述した支持部材７０に保持されており、支持
部材７０は、ウエハステージ定盤２２との間に介在する
エアパッド等の非接触ベアリングにより、ウエハステー
ジ定盤２２に非接触で支持されている。

【００４８】トリムモータ７２は、図４に示すように、
カウンターマス６５の−Ｙ側端部にＹ方向に沿って延設
された円柱状の移動子７７と、移動子７７をＹ方向に駆
動する固定子７８とからなるムービングマグネット型の
シャフトモータで構成されており、その駆動は主制御装
置５０を介してステージ制御装置４４によって制御され
る。

【００４９】なお、ウエハステージＷＳＴには、移動ス
テージ１Ａ、１ＢやＸガイドバー２Ａ、２Ｂに対して各
種用力を供給するための上述した用力供給ケーブル、チ
ューブ等を保持し、且つＸガイドバー２Ａ、２Ｂの移動
（すなわち、移動ステージ１Ａ、１ＢのＹ方向の移動）
とそれぞれ同期移動するチューブキャリア８３Ａ、８３
Ｂがウエハステージ定盤２２の−Ｘ側に設けられている
（図３参照）。そして、チューブキャリア８３Ａ、８３
Ｂが移動ステージ１Ａ、１Ｂとそれぞれ同期移動するこ
とで、チューブキャリア８３Ａ、８３Ｂと移動ステージ
１Ａ、１Ｂとの間に配されたケーブル・チューブの変形
が阻止されるため、複数のケーブル・チューブ同士の擦
れ、叩きやケーブル・チューブの変形に伴う抗力等の外
乱に起因する振動の発生を防止することができる。

【００５０】前記移動ステージ１Ａ、１Ｂ上面のＸ方向
一側の端部には、移動鏡７９ＸがＹ方向に延設され、Ｙ
方向の一側の端部には、移動鏡７９ＹがＸ方向に延設さ
れている。これらの移動鏡７９Ｘ、７９Ｙに位置検出装
置であるウエハレーザ干渉計システム８０（図１参照）
を構成する各レーザ干渉計からの測長ビームがそれぞれ
照射されている。なお、これらの測長ビームに対応する
各レーザ干渉計の少なくとも一方は、測長軸を２本有す
る２軸干渉計が用いられている。

【００５１】ウエハレーザ干渉計システム８０を構成す
る各レーザ干渉計に対応する各固定鏡は、投影光学系Ｐ
Ｌの鏡筒の下端部に固定されている。ウエハレーザ干渉
計システム８０は、鏡筒定盤１８上面に配置されてい
る。なお、前述の如く、ウエハステージＷＳＴ上には、
移動鏡として移動鏡７９Ｘ、７９Ｙが設けられ、これに
対応して固定鏡もＸ方向位置計測用の固定鏡とＹ方向位
置計測用の固定鏡とがそれぞれ設けられ、レーザ干渉計
もＸ方向位置計測用のものとＹ方向位置計測用のものと
が設けられているが、図１ではこれらが代表的に移動鏡
７９、固定鏡８１、ウエハレーザ干渉計システム８０と
して示されている。

【００５２】上記のウエハレーザ干渉計システム８０に
よってウエハステージＷＳＴのＸ，Ｙ，θＺ方向の位置
計測が投影光学系ＰＬを基準として行われる。そして、
ウエハレーザ干渉計システム８０によって計測されるウ
エハステージＷＳＴの位置情報（又は速度情報）はステ
ージ制御装置４４及びこれを介して主制御装置５０に送
られる。ステージ制御装置４４は、基本的にはウエハレ
ーザ干渉計システム８０から出力される位置情報（或い
は速度情報）が主制御装置５０から与えられる指令値
（目標位置、目標速度）と一致するように上記のＹモー
タ６１Ａ、６１Ｂ及びＸモータ６２Ａ、６２Ｂを制御す
る。

【００５３】図５には、本実施形態に係る露光装置１０
の制御系の主要な構成がブロック図にて示されている。
この制御系は、マイクロコンピュータ（あるいはワーク
ステーション）から成る制御系としての主制御装置５０
を中心として構成されている。この図に示すように、振
動センサ群３２の計測結果は、主制御装置５０に出力さ
れる。主制御装置５０は、入力した計測結果に基づいて
防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃの駆動をそれぞれ制御す
る。ステージ制御装置４４は、主制御装置５０の制御下
で、レチクルレーザ干渉計システム３８およびウエハレ
ーザ干渉計システム８０の計測結果に基づいて、Ｙリニ
アモータ３４Ａ、３４Ｂ、Ｘボイスコイルモータ３６
Ａ、３６Ｂ、Ｙボイスコイルモータ３６Ｃ、３６Ｄ、Ｙ
モータ６１Ａ、６１Ｂ、Ｘモータ６２Ａ、６２Ｂ、トリ
ムモータ７２、ボイスコイルモータ７３の駆動を制御す
る。

【００５４】次に、上記の構成の露光装置のうち、まず
ウエハステージＷＳＴの動作について説明する。例え
ば、Ｙモータ６１Ａが作動してＹ移動子６４ＡがＹ固定
子６６に対して相対移動することにより、移動ステージ
１Ａが試料台６３Ａ（およびウエハＷ１）とともにＹ方
向に移動すると、この移動による反力でカウンターマス
６５、６５が支持部材６８、７０の突部６８ａ、７０ａ
をガイドにして、移動ステージ１Ａの移動方向とは逆方
向に相対移動する（カウンターマス移動ステップ）。

【００５５】なお、移動ステージ１Ａの移動に伴うヨー
イングについては、ウエハレーザ干渉計システム８０の
計測結果に基づいて、左右のＹモータ６１Ａの推力をそ
れぞれ調整することで補正することができる。また、移
動ステージ１Ａは移動子７５Ａが固定子７６に保持され
た状態で移動するが、ＶＣＭ７３、７３がカウンターマ
ス６５を挟んだ両側に設けられているので叩き等が発生
することなく、安定した状態で走行することができる。

【００５６】ここで、図６に示すように、移動ステージ
１ＡがＸ方向及びＹ方向の双方に移動する場合や、Ｘガ
イドバー２Ａの中央部から偏心した位置から移動する場
合、左右のカウンターマス６５、６５は、その推力配分
によってそれぞれ異なる変位が生じる（なお、図６では
便宜上、移動ステージ１Ｂの図示を省略している）。

【００５７】なお、左右のカウンターマス６５、６５の
異なる変位での移動が繰り返されるとカウンターマス６
５、６５の相対位置が大きくずれることになる。さら
に、Ｙモータ６１ＡにおけるＹ移動子６４ＡとＹ固定子
６６とはカップリングされているため、これらが相対移
動した際には、元の位置に止まろうとする力が作用す
る。Ｙ移動子６４Ａは、ウエハレーザ干渉計システム８
０が移動ステージ１Ａの位置を計測してＹモータ６１Ａ
のコイルに所定の電圧が印加されるため所定位置に移動
するが、Ｙ固定子６６（すなわちカウンターマス６５、
６５）は移動すべき位置に到達する前に停止することに
なる。そのため、本実施の形態では、主制御装置５０が
移動ステージ１Ａ（および１Ｂ）の移動時の運動量に基
づいてステージ制御装置４４を介してトリムモータ７２
を駆動することで、カウンターマス６５、６５が所定の
位置に到達するようにその移動量（運動量）が補正され
る。

【００５８】この結果、移動ステージ１ＡのＹ方向の加
減速時の反力はカウンターマス６５、６５の移動により
吸収され、ベースプレートＢＰに与える運動量は理論的
にゼロとなり、ウエハステージＷＳＴにおける重心の位
置がＹ方向において実質的に固定される。特に、カウン
ターマス６５、６５がウエハステージ定盤２２上に設け
られることで、移動ステージ１ＡのＹ方向への移動によ
る偏荷重が緩和されるため、偏荷重に起因する変形や振
動等の悪影響を防止することができる。なお、Ｙモータ
６１Ｂが作動して移動ステージ１ＢがＹ方向に移動する
際にも同様の動作となる。

【００５９】一方、Ｘモータ６２Ａが作動してＸ移動子
がＸ固定子としてのＸガイドバー２Ａに対して相対移動
することにより、移動ステージ１Ａが試料台６３Ａ（お
よびウエハＷ１）とともにＸ方向に移動した場合、移動
に伴う反力が発生するが、ＶＣＭ７３、７３の電磁力で
Ｘガイドバー２Ａの位置が維持されるとともに、Ｘガイ
ドバー２Ａに生じた反力はＶＣＭ７３、７３、フレクシ
ャー構造体６９を介してベースプレートＢＰ（および床
面ＦＤ）に伝達される（反力伝達ステップ）。従って、
ウエハステージ定盤２２には、移動ステージ１Ａの加減
速時に生じる反力が殆ど影響を与えることがないように
なっている。勿論、床面ＦＤに伝達された力がベースプ
レートＢＰ及び防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃを介して鏡
筒定盤１８に伝達され、鏡筒定盤１８の振動要因となる
可能性は否定できないが、その伝達の途中でエアマウン
ト３０によってマイクロＧレベル（Ｇは重力加速度）で
絶縁されるので、その影響は非常に小さいものである。
なお、移動ステージ１ＡのＸ方向への移動による偏荷重
は、防振ユニット１６Ａ〜１６Ｃの作動により補正され
る。

【００６０】なお、Ｘモータ６２Ｂが作動して移動ステ
ージ１ＢがＸ方向に移動する際にも同様の動作となる。
このように、ウエハステージＷＳＴにおいては、移動ス
テージ１Ａ、１Ｂがスキャン移動方向（Ｙ方向）および
ステップ移動方向（Ｘ方向）のいずれの方向に移動して
も、移動に伴う反力を吸収して振動の発生を抑制するこ
とができる。

【００６１】次に、露光装置１０における露光動作につ
いて説明する。前提として、ウエハＷ上のショット領域
を適正露光量（目標露光量）で走査露光するための各種
の露光条件が予め設定される。また、不図示のレチクル
顕微鏡及び不図示のオフアクシス・アライメントセンサ
等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等
の準備作業が行われ、その後、アライメントセンサを用
いたウエハＷのファインアライメント（ＥＧＡ（エンハ
ンスト・グローバル・アライメント）等）が終了し、ウ
エハＷ上の複数のショット領域の配列座標が求められ
る。

【００６２】このようにして、ウエハＷの露光のための
準備動作が終了すると、ステージ制御装置４４では、主
制御装置５０からの指示に応じてアライメント結果に基
づいてウエハレーザ干渉計システム８０の計測値をモニ
タしつつＹモータ６１Ａ、６１Ｂ、及びＸモータ６２
Ａ、６２Ｂを制御してウエハＷの第１ショットの露光の
ための走査開始位置に移動ステージ１を移動する。

【００６３】そして、ステージ制御装置４４では、主制
御装置５０からの指示に応じてレチクル駆動部３７及び
ウエハ駆動部３９を介してレチクルステージＲＳＴとウ
エハステージＷＳＴとのＹ方向の走査を開始し、両ステ
ージＲＳＴ、ＷＳＴがそれぞれの目標走査速度に達する
と、照明光ＩＬによってレチクルＲのパターン領域が照
明され始め、走査露光が開始される。

【００６４】ステージ制御装置４４では、特に上記の走
査露光時にレチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動速
度とウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動速度とが投
影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍或いは１／４倍）に
応じた速度比に維持されるようにレチクルステージＲＳ
Ｔ及びウエハステージＷＳＴ（移動ステージ１）を同期
制御する。

【００６５】そして、レチクルＲのパターン領域の異な
る領域が照明光ＩＬで逐次照明され、パターン領域全面
に対する照明が完了することにより、ウエハＷ上の第１
ショットの走査露光が終了する。これにより、レチクル
Ｒのパターンが投影光学系ＰＬを介して第１ショットに
縮小転写される。

【００６６】このようにして、第１ショットの走査露光
が終了すると、ステージ制御装置４４により主制御装置
５０の指示に応じてウエハ駆動部３９を介して移動ステ
ージ１がＸ、Ｙ軸方向にステップ移動され、第２ショッ
トの露光のため走査開始位置に移動される。このステッ
ピングの際に、ステージ制御装置４４ではウエハレーザ
干渉計システム８０の計測値に基づいて移動ステージ１
のＸ、Ｙ、θＺ方向の位置変位をリアルタイムに計測す
る。この計測結果に基づき、ステージ制御装置４４では
ウエハ駆動部３９を制御してＸＹ位置変位が所定の状態
になるように移動ステージ１の位置を制御する。

【００６７】そして、主制御装置５０の指示に基づきス
テージ制御装置４４では第２ショットに対して上記と同
様の走査露光を行う。このようにして、ウエハＷ上のシ
ョットの走査露光と次ショット露光のためのステッピン
グ動作とが繰り返し行われ、ウエハＷ上の露光対象ショ
ットの全てにレチクルＲのパターンが順次転写される。
すなわち、以上のようにして、ステップ・アンド・スキ
ャン方式の露光が行われる。

【００６８】続いて、２つの移動ステージ１Ａ、１Ｂに
よる並行処理について説明する。本実施の形態では、例
えば移動ステージ１Ａ（すなわち試料台６３Ａ）上のウ
エハＷ１を投影光学系ＰＬを介して露光動作を行ってい
る間に、移動ステージ１Ｂにおいてウエハ交換が行わ
れ、ウエハ交換に引き続いてアライメント動作およびオ
ートフォーカス／オートレベリングが行われる。

【００６９】移動ステージ１Ｂ側で、上記のウエハ交
換、アライメント動作が行われている間に、移動ステー
ジ１Ａ側では、２枚のレチクルを使った場合、露光条件
を変えながら連続してステップ・アンド・スキャン方式
により二重露光を行うことも可能である。２つの移動ス
テージ１Ａ、１Ｂ上で並行して行われる露光シーケンス
とウエハ交換・アライメントシーケンスとは、先に終了
したウエハステージの方が待ち状態となり、両方の動作
が終了した時点で移動ステージ１Ａ、１Ｂが移動制御さ
れる。そして、露光シーケンスが終了した移動ステージ
１Ａ上のウエハＷ１は、ローディングポジションでウエ
ハ交換がなされ、アライメントシーケンスが終了した移
動ステージ１Ｂ（すなわち試料台６３Ｂ）上のウエハＷ
２は、投影光学系ＰＬの下で露光シーケンスが行われ
る。

【００７０】このように、一方の移動ステージ側でウエ
ハ交換とアライメント動作を実行する間に、他方の移動
ステージ側で露光動作を実行することとし、両方の動作
が終了した時点でお互いの動作を切り換えるようにする
ことで、スループットを大幅に向上させることが可能に
なる。

【００７１】以上のように、本実施の形態では、移動ス
テージ１Ａ、１ＢのＸ方向の移動に関しては移動に伴う
反力をベースプレートＢＰに伝達するので、反力に起因
する振動を抑制するためにカウンターマス等の質量体を
移動させるためのスペースを確保する必要がなくなり、
装置の大型化を防止することができる。特に、本実施の
形態では、カウンターマス６５、６５を分離し、それぞ
れ独立移動自在に設けているので、これらを連結するた
めの強固な連結部材も設ける必要がなく、より装置の小
型化に寄与できる。加えて、本実施の形態では、カウン
ターマス６５、６５をウエハステージ定盤２２上に設け
ているので、定盤２２の外部にカウンターマス設置用ス
ペースを確保する必要がなくなり、装置の一層の小型化
を実現している。また、カウンターマス６５、６５をウ
エハステージ定盤２２上に設置することでＹ移動子６４
Ａ、６４ＢとＹ固定子６６とが同じ基準部材上に位置す
ることになるので、これらの間のギャップ調整が容易に
なり、設置作業の効率化も図ることができる。

【００７２】しかも、本実施の形態では、カウンターマ
ス６５がＹモータ６１Ａ、６１ＢのＹ固定子６６を備え
ているので、カウンターマス６５とＹ固定子６６とを別
に設けた場合に比較して、より装置の小型化に寄与でき
る。また、Ｙ固定子６６が複数のＹ移動子６４Ａ、６４
Ｂに共用され、固定子７６が複数の移動子７５Ａ、７５
Ｂに共用されているので、各移動子毎に固定子を別途設
ける必要がなく、より装置の簡素化、小型化、およびコ
ストダウンに寄与できる。

【００７３】また、本実施の形態では、カウンターマス
６５、６５をＹ方向にのみ移動自在な構成としているの
で、移動ステージ１Ａ、１Ｂの移動前位置や移動方向等
に拘わらずカウンターマス６５、６５、移動ステージ１
Ａ、１Ｂ（すなわちウエハＷ１、Ｗ２）の回転運動を阻
止できる。従って、回転方向のセンシングや回転方向の
位置制御に要するアクチュエータ等が不要となり、装置
の簡素化、小型化ひいてはコストダウンを実現すること
ができる。しかも、従来では、Ｙ移動子６４ＡとＹ固定
子６６とのカップリング等によりカウンターマス６５、
６５が反力移動における所定位置に到達しない可能性が
あったが、本実施の形態ではトリムモータ７２がカウン
ターマス移動時の運動量を補正するため、運動量保存の
関係が維持され、ウエハステージＷＳＴにおける重心移
動を阻止することができ、高精度の露光処理を実現する
ことができる。

【００７４】また、本実施の形態では、移動ステージ１
Ａ、１ＢのＸ方向への移動に伴う反力をベースプレート
ＢＰに伝達するＶＣＭ７３がカウンターマス６５を挟ん
だ両側に配置されているので、移動ステージ１Ａ、１Ｂ
がＹ方向へ移動する際にも、叩き等が発生することな
く、バランスがとれた安定した走行が可能になる。

【００７５】また、本実施の形態では、移動ステージが
二基設けられた、ダブルステージ方式を採用しているの
で、一方の移動ステージ側でウエハ交換とアライメント
動作を実行する間に、他方の移動ステージ側で露光動作
を実行する等、待機時間を削減することができ、スルー
プットを大幅に向上させることも可能になる。

【００７６】なお、上記実施の形態においては、移動ス
テージが２基設けられた、いわゆるダブルステージ型の
例を用いたが、これに限定されるものではなく、移動ス
テージが１基や３基以上設けられる構成であってもよ
い。また、上記実施の形態では、伝達装置としてＶＣＭ
を用いる構成としたが、これは一例を示したものであ
り、ＶＣＭの代わりに軸上のエアガイド等を用いる構成
としてもよい。さらに、上記実施の形態では、ＶＣＭ７
３をカウンターマス６５を挟んだ両側に設ける構成とし
たが、図７に簡略化して図示するように、カウンターマ
ス６５の一方側のみに設ける構成も採用可能である。ま
た、本実施の形態では、ウエハステージ定盤２２を支持
柱２０により鏡筒定盤１８から吊り下げる構成とした
が、ウエハステージ定盤２２を鏡筒定盤１８から分離し
てベースプレートＢＰ上に設けてもよい。

【００７７】また、上記実施の形態では、本発明のステ
ージ装置を露光装置１０のウエハステージＷＳＴに適用
する構成としたが、これに限られず、レチクルステージ
ＲＳＴにも適用可能である。さらに、上記実施の形態で
は、本発明のステージ装置を露光装置のウエハステージ
に適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスク
の描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精
密測定機器にも適用可能である。

【００７８】なお、本実施の形態の基板としては、半導
体デバイス用の半導体ウエハＷ１、Ｗ２のみならず、液
晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘ
ッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いら
れるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコン
ウエハ）等が適用される。

【００７９】露光装置１０としては、レチクルＲとウエ
ハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光
するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置
（スキャニング・ステッパー；USP5,473,410）の他に、
レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲの
パターンを露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させる
ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステ
ッパー）にも適用することができる。また、本発明はウ
エハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて
転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置
にも適用できる。

【００８０】露光装置１０の種類としては、ウエハＷに
半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光
装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ
製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣ
Ｄ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための
露光装置などにも広く適用できる。

【００８１】また、不図示の露光用光源として、超高圧
水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ
線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエ
キシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ
（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）、Ａｒ₂レー
ザ（１２６ｎｍ）のみならず、電子線やイオンビームな
どの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線
を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタ
ンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タンタル（Ｔａ）を用
いることができる。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ
等の高調波などを用いてもよい。

【００８２】例えば、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバ
ーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レ
ーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリ
ビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅
し、かつ非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した
高調波を露光光として用いてもよい。なお、単一波長レ
ーザの発振波長を１．５４４〜１．５５３μｍの範囲内
とすると、１９３〜１９４ｎｍの範囲内の８倍高調波、
即ちＡｒＦエキシマレーザとほぼ同一波長となる紫外光
が得られ、発振波長を１．５７〜１．５８μｍの範囲内
とすると、１５７〜１５８ｎｍの範囲内の１０倍高調
波、即ちＦ２レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得ら
れる。

【００８３】また、レーザプラズマ光源、又はＳＯＲか
ら発生する波長５〜５０ｎｍ程度の軟Ｘ線領域、例えば
波長１３．４ｎｍ、又は１１．５ｎｍのＥＵＶ(Extreme
Ultra Violet)光を露光光として用いてもよく、ＥＵＶ
露光装置では反射型レチクルが用いられ、かつ投影光学
系が複数枚（例えば３〜６枚程度）の反射光学素子（ミ
ラー）のみからなる縮小系となっている。

【００８４】投影光学系ＰＬの倍率は、縮小系のみなら
ず等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光
学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用
いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過
する材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合は反射
屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型
タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には
光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学
系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真
空状態にすることはいうまでもない。

【００８５】ウエハステージＷＳＴやレチクルステージ
ＲＳＴにリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,1
18参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア
浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用い
た磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステー
ジＷＳＴ、ＲＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプで
もよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであっても
よい。また、Ｙモータ６１Ａ、６１ＢやＸモータ６２
Ａ、６２Ｂにおいても、ガイドを設けても設けなくと
も、どちらでもよい。

【００８６】各ステージＷＳＴ、ＲＳＴの駆動機構とし
ては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁
石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを
対向させ電磁力により各ステージＷＳＴ、ＲＳＴを駆動
する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニッ
トと電機子ユニットとのいずれか一方をステージＷＳ
Ｔ、ＲＳＴに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットと
の他方をステージＷＳＴ、ＲＳＴの移動面側（ベース）
に設ければよい。

【００８７】以上のように、本願実施形態の露光装置１
０は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含
む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精
度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造さ
れる。これら各種精度を確保するために、この組み立て
の前後には、各種光学系については光学的精度を達成す
るための調整、各種機械系については機械的精度を達成
するための調整、各種電気系については電気的精度を達
成するための調整が行われる。各種サブシステムから露
光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、
機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続
等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への
組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工
程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露
光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行わ
れ、露光装置全体としての各種精度が確保される。な
お、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理さ
れたクリーンルームで行うことが望ましい。

【００８８】半導体デバイス等のマイクロデバイスは、
図８に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計
を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマ
スク（レチクル）を製作するステップ２０２、シリコン
材料からウエハを製造するステップ２０３、前述した実
施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに
露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てス
テップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケー
ジ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製
造される。

【００８９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係るス
テージ装置は、第１駆動装置によりステージ本体を駆動
させた際に発生する反力により移動する移動装置と、少
なくとも一部が第２固定子に接続され、第２駆動装置に
よりステージ本体を駆動させた際に発生する反力をステ
ージ本体とは振動的に分離された部分に伝達する伝達装
置とを備えた構成となっている。これにより、このステ
ージ装置では、装置の簡素化、小型化およびコストダウ
ンに寄与できるという効果を奏する。

【００９０】請求項２に係るステージ装置は、第１駆動
装置によりステージ本体を駆動させた際に発生する反力
により移動する移動装置と、移動装置を挟んで設けら
れ、第２駆動装置によりステージ本体を駆動させた際に
発生する反力をステージ本体とは振動的に分離された部
分に伝達する伝達装置とを備えた構成となっている。こ
れにより、このステージ装置では、ステージ本体の安定
した走行、及び装置の簡素化、小型化およびコストダウ
ンに寄与できるという効果を奏する。

【００９１】請求項３に係るステージ装置は、移動装置
が第１固定子を有する構成となっている。これにより、
このステージ装置では、装置の一層の小型化に寄与でき
るという効果を奏する。

【００９２】請求項４に係るステージ装置は、ステージ
本体が複数設けられる構成となっている。これにより、
このステージ装置では、スループットを大幅に向上させ
ることが可能になるという効果を奏する。

【００９３】請求項５に係るステージ装置は、第１固定
子が複数のステージ本体毎に設けられた移動子に共用さ
れる構成となっている。これにより、このステージ装置
では、装置の一層の簡素化、小型化、およびコストダウ
ンに寄与できる。

【００９４】請求項６に係るステージ装置は、伝達装置
の第３固定子が複数の第３移動子に共用される構成とな
っている。これにより、このステージ装置では、装置の
一層の簡素化、小型化、およびコストダウンに寄与でき
る。

【００９５】請求項７に係るステージ装置は、ステージ
本体の移動時の運動量に基づいて、移動装置の移動時の
運動量を補正する構成となっている。これにより、この
ステージ装置では、運動量保存の関係が維持され、装置
における重心移動を阻止できるという効果が得られる。

【００９６】請求項８に係るステージ装置は、移動装置
がステージ本体の移動を支持する定盤上に設けられる構
成となっている。これにより、このステージ装置では、
装置の一層の小型化および設置作業の効率化を図ること
ができる。

【００９７】請求項９に係る露光装置は、マスクステー
ジと基板ステージとの少なくとも一方のステージとし
て、請求項１から８のいずれか１項に記載されたステー
ジ装置が用いられる構成となっている。これにより、こ
の露光装置では、装置の簡素化、小型化およびコストダ
ウン、さらにはスループットの向上や設置作業の効率化
に寄与できるという効果を奏する。

【００９８】請求項１０に係るステージ駆動方法は、ス
テージ本体を第１方向に駆動した際に発生する反力を用
いて質量体を移動させるステップと、ステージ本体を第
２方向に駆動した際に発生する反力をステージ本体とは
振動的に分離された部分に伝達するステップとを含む手
順となっている。これにより、このステージ駆動方法で
は、装置の簡素化、小型化およびコストダウンに寄与で
きるという効果を奏する。

【００９９】請求項１１に係るステージ駆動方法は、ス
テージ本体を第２方向に駆動した際に発生する反力がス
テージ本体とは振動的に分離された部分に電磁力を用い
て伝達される手順となっている。これにより、このステ
ージ駆動方法では、電磁力により反力を伝達することで
質量体を移動させるためのスペースを確保する必要がな
くなり、装置の簡素化、小型化およびコストダウンに寄
与できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、露
光装置の全体構成を概略的に示す図である。

【図２】本発明に係るウエハステージの外観斜視図
である。

【図３】同ウエハステージの正面図である。

【図４】同ウエハステージを構成するトリムモータ
の一例を示す外観斜視図である。

【図５】露光装置の制御ブロック図である。

【図６】反力によるカウンターマスの移動を説明す
るための概略平面図である。

【図７】本発明に係る伝達装置の別の形態を概略的
に示す図である。

【図８】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフ
ローチャート図である。

【図９】従来技術によるカウンターマスの動作を説
明するための概略平面図である。

【符号の説明】

Ｒレチクル（マスク）ＲＳＴレチクルステージ（マスクステージ）Ｗ、Ｗ１、Ｗ２ウエハ（基板、感光基板）ＷＳＴウエハステージ（基板ステージ、ステージ装
置）１、１Ａ、１Ｂ移動ステージ（ステージ本体）２、２Ａ、２ＢＸガイドバー（Ｘ固定子、第２固定
子）１０露光装置６１Ａ、６１ＢＹモータ（第１駆動装置）６２Ａ、６２ＢＸモータ（第２駆動装置）６４Ａ、６４ＢＹ移動子（第１移動子）６５カウンターマス（移動装置、質量体）６６Ｙ固定子（第１固定子）７２トリムモータ（運動量補正装置）７３ボイスコイルモータ（伝達装置）７５Ａ、７５Ｂ移動子（第３移動子）７６固定子（第３固定子）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2F078 CA02 CA08 CB05 CB09 CB12 5F031 CA02 CA05 CA07 HA53 HA55 HA57 HA58 HA59 JA02 JA06 JA45 JA51 KA06 KA07 KA08 LA02 LA07 LA08 MA27 PA04 5F046 AA23 CC01 CC02 CC18

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持して第１方向および第２方
向に移動するステージ本体を備えたステージ装置であっ
て、第１移動子と第１固定子とを有し、前記ステージ本体を
前記第１方向に駆動する第１駆動装置と、第２移動子と、前記第１移動子に接続された第２固定子
とを有し、前記ステージ本体を前記第２方向に駆動する
第２駆動装置と、前記第１駆動装置により前記ステージ本体を駆動させた
際に発生する反力により移動する移動装置と、少なくとも一部が前記第２固定子に接続され、前記第２
駆動装置により前記ステージ本体を駆動させた際に発生
する反力を前記ステージ本体とは振動的に分離された部
分に伝達する伝達装置とを備えたことを特徴とするステ
ージ装置。
【請求項２】基板を保持して第１方向および第２方
向に移動するステージ本体を備えたステージ装置であっ
て、第１移動子と第１固定子とを有し、前記ステージ本体を
前記第１方向に駆動する第１駆動装置と、第２移動子と第２固定子とを有し、前記ステージ本体を
前記第２方向に駆動する第２駆動装置と、前記第１駆動装置により前記ステージ本体を駆動させた
際に発生する反力により移動する移動装置と、前記移動装置を挟んで設けられ、前記第２駆動装置によ
り前記ステージ本体を駆動させた際に発生する反力を前
記ステージ本体とは振動的に分離された部分に伝達する
伝達装置とを備えたことを特徴とするステージ装置。
【請求項３】請求項１または２記載のステージ装置
において、前記移動装置は、前記第１固定子を有していることを特
徴とするステージ装置。
【請求項４】請求項１から３のいずれかに記載のス
テージ装置において、前記ステージ本体が複数設けられることを特徴とするス
テージ装置。
【請求項５】請求項４記載のステージ装置におい
て、前記第１移動子は、前記複数のステージ本体毎に複数設
けられ、前記第１固定子は、前記複数の移動子に共用されること
を特徴とするステージ装置。
【請求項６】請求項４または５記載のステージ装置
において、前記伝達装置は、前記複数のステージ本体毎にそれぞれ
設けられた複数の第３移動子と、前記ステージ本体とは
振動的に分離された部分に設けられた第３固定子とを有
し、前記第３固定子は、前記複数の第３移動子に共用される
ことを特徴とするステージ装置。
【請求項７】請求項１から６のいずれかに記載のス
テージ装置において、前記ステージ本体の移動時の運動量に基づいて、前記移
動装置の移動時の運動量を補正する運動量補正装置を有
することを特徴とするステージ装置。
【請求項８】請求項１から７のいずれかに記載のス
テージ装置において、前記移動装置は、前記ステージ本体の移動を支持する定
盤上に設けられることを特徴とするステージ装置。
【請求項９】マスクステージに保持されたマスクの
パターンを基板ステージに保持された感光基板に露光す
る露光装置において、前記マスクステージと前記基板ステージとの少なくとも
一方のステージとして、請求項１から８のいずれか１項
に記載されたステージ装置が用いられることを特徴とす
る露光装置。
【請求項１０】基板を保持するステージ本体を第１
方向および第２方向に駆動するステージ駆動方法であっ
て、第１移動子と第１固定子とを有する第１駆動装置により
前記ステージ本体を前記第１方向に駆動した際に発生す
る反力を用いて質量体を移動させるステップと、第２移動子と、前記第１移動子に接続された第２固定子
とを有する第２駆動装置により前記ステージ本体を前記
第２方向に駆動した際に発生する反力を前記ステージ本
体とは振動的に分離された部分に伝達するステップとを
含むことを特徴とするステージ駆動方法。
【請求項１１】請求項１０記載のステージ駆動方法
において、前記ステージ本体を前記第２方向に駆動した際に発生す
る反力は、電磁力を用いて前記ステージ本体とは振動的
に分離された部分に伝達されることを特徴とするステー
ジ駆動方法。