JP5738016B2 - 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5738016B2 JP5738016B2 JP2011050470A JP2011050470A JP5738016B2 JP 5738016 B2 JP5738016 B2 JP 5738016B2 JP 2011050470 A JP2011050470 A JP 2011050470A JP 2011050470 A JP2011050470 A JP 2011050470A JP 5738016 B2 JP5738016 B2 JP 5738016B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure apparatus
- mask
- original
- transport
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る搬送システム1の構成を示す図である。以下、搬送システム1は、液晶表示デバイスの製造ラインに使用され、リソグラフィー工程での露光装置2に対するマスク(原版)3の搬送を実施するものとして説明する。ただし、この搬送システム1は、液晶表示デバイスを製造する露光装置に限らず、例えば、半導体デバイスを製造する露光装置にも採用可能である。搬送システム1は、デバイス製造工場内のクリーンルームに敷設された少なくとも1つの露光装置2に対してマスク3を搬送する無人搬送車4と、この無人搬送車4の走行路5とを有する。なお、以下の各図において、露光装置2の敷設方向(垂直方向)にZ軸を取り、該Z軸に垂直な平面内で、無人搬送車4の走行方向(水平方向)の一方にY軸を取り、該Y軸に直交する他の方向にX軸を取って説明する。
次に、本発明の第2実施形態に係る搬送システムについて説明する。図4は、図1(a)に示す第1実施形態に係る搬送システム1に対応した、本実施形態の搬送システム40の構成を示す側面図である。なお、図4において、図1と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。この搬送システム40の特徴は、露光装置2を敷設する面を通常の床面11ではなく1段下がった床下の床下面41とし、床面11からマスク搬入出部2cの搬入口9までの高さを下げる点にある。なお、図4では、便宜上、露光装置2および搬送ステーション7を床下面41まで下げ、塗布現像装置6は、第1実施形態と同様に床面11に敷設したままとしているが、この配置は、特に限定するものではない。この構成によれば、無人搬送車4は、作業者の歩行路である床面11上を走行路として移動することになる。しかしながら、デバイス製造工程によっては、搬送システム上で無人搬送車の走行と作業者の歩行とが並行しない場合もある。そこで、無人搬送車4のマスク3の受け渡し部とマスク搬入出部2cの搬入口9との高さとが一致するように露光装置2の敷設面を下げれば、この場合も無人搬送車4に従来のような上下駆動機構108を設置する必要がない。一般に、露光装置2を敷設する床面11の床下は、クリーンルーム環境に必要な配線や配管などが引廻された空きスペースがある。本実施形態によれば、この空きスペースのようなクリーンルーム環境における空間を有効活用することができる。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイスなど)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
2 露光装置
3 マスク
4 無人搬送車
5 走行路
9 搬入口
Claims (6)
- 基板を露光し、原版に形成されたパターンを前記基板に転写する少なくとも1つの露光装置に前記原版を搬送する搬送車と、該搬送車が走行する走行路とを有する搬送システムであって、
前記走行路は、
前記露光装置の側壁に沿って、前記露光装置が敷設されている面より高い位置に構成され、
前記走行路と前記露光装置が敷設されている面との間が前記露光装置に対する作業者が歩行可能な空間となるように構成され、
かつ、
前記露光装置が当該露光装置の側壁に設けられた搬入口において前記原版を受け取る位置が、前記搬送車が前記原版を保持して走行する際の前記原版の保持位置から上下駆動機構を介さずに前記原版を受け取ることが可能な位置になるように構成されていることを特徴とする搬送システム。 - 前記露光装置が敷設されている面は、床面であることを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。
- 前記露光装置が敷設されている面は、床面よりも低い面であり、
前記走行路は、前記床面上に設置されることを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。 - 前記搬入口の高さは、前記基板の露光処理の際に前記原版を保持する原版ステージの高さと同一であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の搬送システム。
- 前記露光装置は、前記搬入口から前記原版ステージへ前記原版を水平方向の移動で搬送可能する搬送機構と、該搬送機構の搬送経路に合わせた位置に設置される前記原版を保管する保管部と、を有することを特徴とする請求項4に記載の搬送システム。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の搬送システムにより搬送された原版を使用する露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011050470A JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011050470A JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012190832A JP2012190832A (ja) | 2012-10-04 |
JP2012190832A5 JP2012190832A5 (ja) | 2014-04-10 |
JP5738016B2 true JP5738016B2 (ja) | 2015-06-17 |
Family
ID=47083725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011050470A Active JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5738016B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10014196B2 (en) | 2015-10-20 | 2018-07-03 | Lam Research Corporation | Wafer transport assembly with integrated buffers |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0582019B1 (en) * | 1992-08-04 | 1995-10-18 | International Business Machines Corporation | Fully automated and computerized conveyor based manufacturing line architectures adapted to pressurized sealable transportable containers |
JP3005584B1 (ja) * | 1999-03-18 | 2000-01-31 | 九州日本電気株式会社 | レチクルケ―ス搬送装置 |
JP2010103145A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP5474522B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2014-04-16 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源システム |
-
2011
- 2011-03-08 JP JP2011050470A patent/JP5738016B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012190832A (ja) | 2012-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI503632B (zh) | A conveyance method and apparatus, and an exposure method and apparatus | |
JP4887329B2 (ja) | 基板処理システム | |
JP2006031025A (ja) | 平板表示装置の製造システム及び製造方法 | |
KR101758429B1 (ko) | 리소그래피 장치, 리소그래피 방법, 리소그래피 시스템, 저장 매체 및 물품 제조 방법 | |
CN105892231B (zh) | 光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法 | |
CN1979792A (zh) | 基板输送方法及基板输送装置 | |
KR101997932B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR102022823B1 (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
CN101718954B (zh) | 供给化学液体的单元及使用该单元处理衬底的装置和方法 | |
JP5738016B2 (ja) | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP2011018860A (ja) | 基板搬送方法及び基板搬送装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5241368B2 (ja) | 処理装置及びデバイス製造方法 | |
KR20010041031A (ko) | 기판처리장치와 그 방법 및 노광장치와 그 방법 | |
JP5537380B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2015023149A (ja) | インプリント装置、インプリント方法、プログラム、インプリントシステム、それらを用いた物品の製造方法 | |
JP5741926B2 (ja) | 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体交換方法 | |
JP2015079954A (ja) | リソグラフィシステムおよび物品の製造方法 | |
JP4674467B2 (ja) | 基板搬送方法、基板搬送装置、露光方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2010186996A (ja) | リソグラフィー装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP2009014805A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2006041027A (ja) | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 | |
JP2011047972A (ja) | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
KR20100094361A (ko) | 기판 처리 시스템 | |
JP7216568B2 (ja) | 搬送装置、露光装置及び物品の製造方法 | |
JP6327824B2 (ja) | リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140226 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150324 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150421 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5738016 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |