JP2012190832A5 - - Google Patents
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Description
上記課題を解決するために、本発明は、原版に形成されたパターンを基板に露光する少なくとも1つの露光装置に原版を搬送する搬送車と、該搬送車が走行する走行路とを有する搬送システムであって、露光装置が敷設される面から、露光装置に設置された原版を搬入する搬入口までの高さが、搬送車が走行する面から、搬送車が原版を保持して走行する際の原版の保持位置までの高さよりも高く、搬送車の保持位置と、露光装置が搬入口から原版を受け取る位置とが同じ高さになるように走行路が構成されることを特徴とする。
Claims (7)
- 原版に形成されたパターンを基板に露光する少なくとも1つの露光装置に前記原版を搬送する搬送車と、該搬送車が走行する走行路とを有する搬送システムであって、
前記露光装置が敷設される面から、前記露光装置に設置された前記原版を搬入する搬入口までの高さが、前記搬送車が走行する面から、前記搬送車が前記原版を保持して走行する際の前記原版の保持位置までの高さよりも高く、
前記搬送車の前記保持位置と、前記露光装置が前記搬入口から前記原版を受け取る位置とが同じ高さになるように前記走行路が構成されることを特徴とする搬送システム。 - 前記露光装置が敷設される面は、床面であり、
前記走行路は、前記床面よりも高い位置に構成されることを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。 - 前記走行路は、前記床面との間を前記露光装置に対する作業者が歩行可能な空間とするような高さを有することを特徴とする請求項2に記載の搬送システム。
- 前記露光装置が敷設される面は、床面よりも低い面であり、
前記走行路は、床面上に設置されることを特徴とする請求項1に記載の搬送システム。 - 前記露光装置の内部にて、前記搬入口から前記原版を受け取る位置の高さは、露光処理の際に前記原版を保持する原版ステージの高さと同一であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の搬送システム。
- 前記露光装置は、前記搬入口から前記原版ステージへ前記原版を水平方向の移動で搬送可能する搬送機構と、該搬送機構の搬送経路に合わせた位置に設置される前記原版を保管する保管部と、を有することを特徴とする請求項5に記載の搬送システム。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の搬送システムにより搬送された原版を使用する露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011050470A JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011050470A JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Publications (3)
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| JP2012190832A JP2012190832A (ja) | 2012-10-04 |
| JP2012190832A5 true JP2012190832A5 (ja) | 2014-04-10 |
| JP5738016B2 JP5738016B2 (ja) | 2015-06-17 |
Family
ID=47083725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011050470A Expired - Fee Related JP5738016B2 (ja) | 2011-03-08 | 2011-03-08 | 搬送システム、およびそれを用いたデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP5738016B2 (ja) |
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Family Cites Families (4)
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| JP2010103145A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP5474522B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2014-04-16 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源システム |
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2011
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