TWI577099B - Laser devices and frames - Google Patents

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Osamu Wakabayashi
Junichi Fujimoto
Hideo Iwase
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Description

雷射裝置及框架 〔參照相關申請〕
本申請案係以2011年3月30日所申請之日本專利申請第2011-076294號、2011年7月22日所申請之日本專利申請第2011-160656號、及2011年11月24日所申請之日本專利申請第2011-256489號為基礎主張優先權的專利申請案。
本揭示係關於雷射裝置及框架。
近年來，伴隨半導體製程的微細化，半導體製程之光微影術的轉印圖案的微細化正快速地進展中。下一世代中，要求70nm~45nm的微細加工，更進一步要求32nm以下的微細加工。因此，例如，為了因應32nm以下之微細加工的要求，期盼開發出一種曝光裝置，其組合有用於生成波長13nm左右之極端紫外(EUV)光的裝置與縮小投影反射光學系。
作為用以生成EUV光的裝置，一般來說已知有使用藉由對標的物物質照射雷射光而生成的電漿之LPP(Laser Produced Plasma)式裝置、使用藉由放電所生成的電漿之DPP(Discharge Produced Plasma)式裝置、以及使用軌道放射光之SR(Synchrotron Radiation)式裝置 等三種裝置。(參照美國專利申請公開第2009-0103575號說明書)
本揭示之一觀點的雷射裝置亦可包含：第1模組，包含以振盪雷射光之方式構成的振盪器及用以支持前述振盪器的支持部；第2模組，包含用以傳送前述雷射光的光束傳送器及用以支持前述光束傳送器的支持部；第3模組，用以放大前述雷射光的放大器及用以支持前述放大器的支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別針對前述模組的每個模組載置前述支持部的固定件。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述模組又包含：射入部，用以供射入光從第1外部單元射入；以及射出部，用以供射出光朝第2外部單元射出；前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射入部側的第1位置，前述第2支持部從前述第1位置觀看時是設置於前述射入光之射入方向側的第2位置，前述第3支持部設置於第3位置。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框 架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述模組又包含用以供射出光朝外部單元射出之射出部；前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射出部側的第1位置，前述第2支持部從前述第1位置觀看時是設置於前述射出光之射出方向相反側的第2位置，前述第3支持部設置於第3位置。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述模組又包含：射入部，用以供射入光從第1外部單元射入；以及射出部，用以供射出光朝第2外部單元射出；前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射入部側的第1位置；前述第2支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射出部側的第2位置；前述第3支持部設置於第3位置。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件及分別載置前述第1~第3固定件的第1~第3設置部；前述第1固定件係將前述第1支持部定位於前述框架的規定位置；前述第2固定件，係以可沿著形成於前述第2設置部的階差而移動的方式，載置於前述第2設置部， 且藉由前述第2設置部相對於水平面傾斜，使前述第2固定件被推壓至前述階差，前述第2固定件係藉由將前述第2支持部定位於前述第2固定件的規定位置，而以前述第2支持部可相對於前述框架沿著前述階差的方向移動之方式，支持前述第2支持部；前述第3固定件，係以前述第3支持部可相對於前述框架在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件及分別載置前述第1~第3固定件的第1~第3設置部；前述第1固定件係將前述第1支持部定位於前述框架的規定位置；前述第2固定件，係以可沿著形成於前述第2設置部的階差而移動的方式，載置於前述第2設置部，且藉由前述第2設置部或設置於前述第2固定件的彈性構件，使前述第2固定件被推壓至前述階差，前述第2固定件係藉由將前述第2支持部定位於前述第2固定件的規定位置，而以前述第2支持部可相對於前述框架沿著前述階差的方向移動之方式，支持前述第2支持部；前述第3固定件，係以前述第3支持部可相對於前述框架在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
本揭示之另一觀點的雷射裝置亦可為包含：模組，包含用以傳送雷射光的光束傳送器及用以支持前述光束傳送 器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述第1及第2固定件係設置於前述框架的第1面；前述第3固定件係設置於前述框架的第2面且與前述第1面交叉的面；前述第1固定件係將前述第1支持部定位於規定位置；前述第2固定件，係以前述第2支持部可在沿著靠近前述第1固定件之方向的方向上移動之方式，支持前述第2支持部；前述第3固定件，係以前述第3支持部可在沿著前述第2面的方向上移動之方式，支持前述第3支持部。
本揭示之另一觀點的框架亦可為載置：第1模組，包含以振盪雷射光之方式構成的振盪器及用以支持前述振盪器的支持部；第2模組，包含用以傳送前述雷射光的光束傳送器及用以支持前述光束傳送器的支持部；以及第3模組，用以放大前述雷射光的放大器及用以支持前述放大器的支持部；該框架為針對前述每個模組，分別包含載置前述支持部的固定件。
以下，參照附圖，說明本揭示的數個實施形態，僅作為例子。
以下，參照圖面，詳細說明本揭示的實施形態。以下說明的實施形態表示本揭示的數個例子，非用於限定本揭示的內容。又，各實施形態中所說明的所有構成及動作未 必是作為本揭示之構成及動作所必須者。此外，對相同的構成要素附註相同的參照符號，以省略重複之說明。
內容
1.概要
2.用語的說明
3. EUV光生成系統的整體說明
3.1構成
3.2動作
4.第1實施形態
4.1雷射裝置的構成
4.2模組的配置
4.3主放大器的支持機構
4.4前置放大器的支持機構
4.5光束傳送器的支持機構
4.6主振盪器的支持機構
5.第2實施形態
6.第3實施形態
7.第4實施形態
8.第5實施形態
9.第6實施形態
10.第7實施形態
11.第8實施形態
12.第9實施形態
13.第10實施形態
14.第11實施形態
1.概要
本揭示的數個實施形態中，用以放大雷射光之主放大器等的模組包含腳部，藉由腳部被載置於框架的規定位置而能定位模組。更且，於該模組，亦可安裝設有車輪的伸縮機構，藉由使伸縮機構伸張，使腳部從框架分離，而使模組相對於框架移動。又，可藉由使伸縮機構縮短，將腳部載置於框架的規定位置，而將模組定位於框架的規定位置。
2.用語的說明
以下定義本揭示所使用的用語。雷射光的光路中，「上游」及「下游」係以雷射光的行進方向為基準而定義。亦即，「上游」係指接近雷射光之產生源的主振盪器的一側，「下游」係指接近電漿生成區域的一側。
3. EUV光生成系統的整體說明
3.1構成
第1圖係以示意方式表示例示的LPP式EUV光生成裝置1之構成。EUV光生成裝置1亦可與至少一台雷射裝置3一起使用(以下將包含EUV光生成裝置1及雷射裝置3的系統稱為EUV光生成系統11)。如第1圖所示 且如以下詳細說明，EUV光生成裝置1亦可包含腔室2、標的物供給裝置(例如小滴生成器26)等。腔室2亦可密閉。標的物供給裝置亦可安裝於例如腔室2。由標的物供給裝置所供給之標的物的材料雖亦可包含：錫、鋱、釓、鋰、氙之中之任兩個以上的組合等，但未限於此等材料。
腔室2的壁亦可設置有至少一貫通孔，亦可使從雷射裝置3輸出的脈衝雷射光32通過該貫通孔。或者，腔室2中亦可設置有至少一視窗21，該視窗21係供自雷射裝置3輸出的脈衝雷射光32透過。腔室2的內部亦可配置有例如具有旋轉橢圓面形狀之反射面的EUV聚光鏡23。EUV聚光鏡23可具有第1及第2焦點。EUV聚光鏡23的表面亦可形成有例如：鉬和矽交互層積而成的多層反射膜。EUV聚光鏡23較佳為配置成例如第1焦點位於電漿生成區域25，第2焦點位於根據曝光裝置的規格所規定之所期望的聚光位置(中間焦點(IF)292)。於EUV聚光鏡23的中央部亦可設置貫通孔24。
EUV光生成裝置1亦可進一步含有EUV光生成控制部5、標的物感測器4等。標的物感測器4亦可具有拍攝功能，亦可檢測標的物的存在、軌道、位置等。
再者，EUV光生成裝置1亦可含有使腔室2內部與曝光裝置6內部連通的連接部29。於連接部29內部亦可設置形成有孔徑(aperture)的壁291。壁291亦可配置成使該孔徑位於EUV聚光鏡23的第2焦點位置。
更且，EUV光生成裝置1亦可含有：雷射光行進方向控制部34、雷射光聚光光學系22、以及用以回收標的物27的標的物回收部28等。雷射光行進方向控制部34亦可具備：用以規定雷射光之行進方向的光學元件；和用以控制該光學元件的位置或姿勢等的致動器。
3.2動作
參照第1圖，由雷射裝置3輸出的脈衝雷射光31亦可經過雷射光行進方向控制部34，穿透視窗21而以脈衝雷射光32的型態射入腔室2。脈衝雷射光32亦可沿著至少一個雷射光路徑進入腔室2內，藉由雷射光聚光光學系22反射，而作為脈衝雷射光33照射於至少一個標的物27。
亦可從小滴生成器26將標的物27朝腔室2內部的電漿生成區域25輸出。脈衝雷射光33所含的至少一束脈衝雷射光可照射至標的物27。照射脈衝雷射光之標的物27會電漿化，從該電漿可放射EUV光251。EUV光251亦可藉由EUV聚光鏡23聚光並反射。被EUV聚光鏡23反射的EUV光252亦可通過中間焦點292而輸出至曝光裝置6。此外，脈衝雷射光33所含的複數脈衝雷射光亦可照射至一個標的物27。
EUV光生成控制部5亦可統括EUV光生成系統11整體的控制。EUV光生成控制部5亦可處理由標的物感測器4所拍攝之標的物27的影像資料等。EUV光生成控制 部5亦可控制例如輸出標的物27的時序或標的物27的輸出方向等。又，EUV光生成控制部5亦可控制例如雷射裝置3的雷射振盪時序、脈衝雷射光32行進方向或脈衝雷射光33的聚光位置等。上述的各種控制僅為例示，亦可依需要增加其他的控制。
4.第1實施形態
4.1雷射裝置的構成
第2圖為本揭示之第1實施形態之EUV光生成系統的構成之方塊圖。EUV光生成系統11所含的雷射裝置3亦可含有：主振盪器300、第1~第3前置放大器301~303、第1及第2主放大器304及305、預脈衝雷射部(pre-pulse laser portion)306、以及光路調整部307。
主振盪器300(振盪器)亦可由例如CO2雷射裝置所構成。主振盪器300亦可以生成主脈衝雷射光之種光的方式構成。藉由主脈衝雷射光照射標的物物質，可將標的物物質電漿化。
於主振盪器300的下游側，亦可依序配置有第1前置放大器301、第2前置放大器302、第3前置放大器303、第1主放大器304及第2主放大器305。第1前置放大器301、第2前置放大器302、第3前置放大器303、第1主放大器304及第2主放大器305亦可構成為將由主振盪器300所生成之主脈衝雷射光的種光依序放大，而輸出至光路調整部307。第1前置放大器301、第 2前置放大器302及第3前置放大器303亦可分別由例如厚板(slab)式放大器所構成。第1主放大器304及第2主放大器305亦可分別由例如高速軸流式放大器構成。
於第2前置放大器302的上游側及下游側，亦可分別配置第1及第2光束調節器(BF；Beam Forming)311及312。於第3前置放大器303的上游側及下游側，亦可分別配置有第3及第4光束調節器313及314。
於第1前置放大器301與第1光束調節器311之間，亦可配置第1光束傳送器(BD；Beam Delivery)321。第1光束傳送器321亦可將來自第1前置放大器301的射出光傳送至朝向第1光束調節器311射入的位置。
於第4光束調節器314與第1主放大器304之間，亦可配置第2及第3光束傳送器322及323。第2及第3光束傳送器322及323亦可將來自第4光束調節器314的射出光傳送至朝向第1主放大器304射入的位置。
於第1主放大器304與第2主放大器305之間，亦可配置第3及第4光束傳送器323及324。第3及第4光束傳送器323及324亦可將來自第1主放大器304的射出光傳送至朝向第2主放大器305射入的位置。
於第2主放大器305與光路調整部307之間，亦可配置第4及第5光束傳送器324及325。第4及第5光束傳送器324及325亦可將來自第2主放大器305的射出光傳送至朝向光路調整部307射入的位置。
預脈衝雷射部306亦可以輸出預脈衝雷射光的方式構 成。藉由將預脈衝雷射光照射至標的物27(參照第1圖)，可使標的物27擴散。藉此，可提升主脈衝雷射光對已擴散之標的物之吸收率。由預脈衝雷射部306輸出的預脈衝雷射光亦可射入光路調整部307。射入光路調整部307的主脈衝雷射光及預脈衝雷射光亦可經由第6光束傳送器326射入EUV光生成裝置1。
4.2模組的配置
第3A圖為顯示構成第1實施形態之雷射裝置之模組的具體配置之立體圖。第3B圖為顯示第3A圖之下層部的模組的配置之立體圖。第3C圖為顯示第3A圖之框架的立體圖。如第3C圖所示，此框架亦可組合複數根柱或梁而構成。上述之主振盪器300、第1~第3前置放大器301~303、第1及第2主放大器304及305、預脈衝雷射部306、光路調整部307、第1~第4光束調節器311~314、第1~第5光束傳送器321~325亦可藉框架330支持。此外，第6光束傳送器326及EUV光生成裝置1(參照第2圖)亦可配置成遠離第3A圖所示的構成要素，故第3A圖中未記載第6光束傳送器326。第3A圖中，規定了XYZ之3維正交軸，後述的圖中亦可使用共同的座標軸。XY平面為水平面，Z方向為重力的逆向。
框架330亦可至少由三個框架支持部331~333支持於地面上。框架支持部331~333亦可由例如空氣懸浮裝置(air suspension device)所構成。
如第3A圖所示，第1前置放大器301與第1光束傳送器321亦可收納於一框體。又，第5光束傳送器325、預脈衝雷射部306和光路調整部307亦可收納於另一框體。
主振盪器300、第1前置放大器301、第1光束傳送器321、第2光束傳送器322、第5光束傳送器325、預脈衝雷射部306及光路調整部307亦可配置於雷射裝置3的上層部。如第3B圖所示，第2及第3前置放大器302及303、第1及第2主放大器304及305、第1~第4光束調節器311~314亦可配置於雷射裝置3的下層部。
亦可與主振盪器300鄰接而配置收納有第1前置放大器301與第1光束傳送器321的框體。於收納有第1前置放大器301與第1光束傳送器321之框體的下方，亦可配置第3B圖所示之第1光束調節器311。
如第3B圖所示，亦可與第1光束調節器311鄰接而配置第2前置放大器302。亦可與第2前置放大器302鄰接而配置第2光束調節器312。亦可與第2光束調節器312鄰接而配置第3光束調節器313。亦可與第3光束調節器313鄰接而配置第3前置放大器303。亦可與第3前置放大器303鄰接而配置第4光束調節器314。於第4光束調節器314的上方，亦可配置第3A圖所示之第2光束傳送器322。
如第3A圖所示，亦可與第2光束傳送器322鄰接而配置第3光束傳送器323。亦可與第3光束傳送器323鄰 接且在第2光束傳送器322下方的位置，配置第1主放大器304。又，亦可與第3光束傳送器323鄰接而配置第4光束傳送器324。亦可與第4光束傳送器324鄰接而配置第2主放大器305。在與第4光束傳送器324鄰接且在第2主放大器305的上方，亦可配置收納有第5光束傳送器325、預脈衝雷射部306及光路調整部307的框體。
如第3B圖所示，第2前置放大器302及第3前置放大器303亦可分別以相對於水平面(XY平面)以規定角度θ(例如θ=45°)傾斜的狀態來配置。射入以此方式傾斜配置之前置放大器的主脈衝雷射光，亦可為光束剖面形狀的長度方向相對於前置放大器的傾斜方向為大約一致之例如橢圓形狀的雷射光。在第1實施形態中，亦可藉由第1光束調節器311將光束剖面形狀大致圓形的主脈衝雷射光轉換成光束剖面形狀在一方向較長的雷射光。而且，第1光束調節器311亦可以主脈衝雷射光之光束剖面形狀的長度方向與第2前置放大器302的傾斜方向大約一致的方式，使主脈衝雷射光射入第2前置放大器302。
第2光束調節器312亦可將由第2前置放大器302輸出的主脈衝雷射光恢復成光束剖面形狀大致圓形的雷射光。第3光束調節器313亦可將光束剖面形狀大致圓形的主脈衝雷射光轉換成光束剖面形狀在一方向較長的雷射光。或者，第2光束調節器312亦可使由第2前置放大器302輸出的主脈衝雷射光在維持著光束剖面形狀在一方向較長的雷射光的狀態下直接射入第3光束調節器313。此 時，亦可調節主脈衝雷射光的發散或光束剖面積。而且，第3光束調節器313亦可以主脈衝雷射光之光束剖面的長度方向與第3前置放大器303的傾斜方向一致的方式，使主脈衝雷射光射入第3前置放大器303。第4光束調節器314亦可將由第3前置放大器303輸出的主脈衝雷射光恢復成光束剖面形狀大致圓形的雷射光。
在第2及第3前置放大器302及303、與第1及第2主放大器304及305中，會有需要比主脈衝雷射光更多的能量放大量之情形。因此，會有此等裝置是比主振盪器300及第1前置放大器301大且重的裝置之情形。於是，為了使第2及第3前置放大器302及303、與第1及第2主放大器304及305容易維修，此等裝置亦可配置於雷射裝置3的下層部。
第4圖為顯示構成第1實施形態之雷射裝置的模組之具體的配置之平面圖。主振盪器300、第1~第3前置放大器301~303、第1及第2主放大器304及305、預脈衝雷射部306、光路調整部307、第1~第4光束調節器311~314、第1~第5光束傳送器321~325等的模組亦可構成為可從框架330卸除來維修。例如，主振盪器300、第2及第3前置放大器302及303、第1及第2主放大器304及305亦可構成為相對於設置面平行地(例如：沿著第4圖的XY平面)移動來維修。以下，說明用以將此等模組定位於框架330、或從框架330卸除的構成。
4.3主放大器的支持機構
第5圖為第1主放大器的透視立體圖。第6圖為從第5圖的箭頭VI所示之方向觀看第1主放大器的透視平面圖。第7A圖為從5圖的箭頭VIIA所示之方向觀看第1主放大器的透視前視圖。第8圖為從第5圖的箭頭VIII所示之方向觀看第1主放大器的透視側視圖。
可構成一個模組的第1主放大器304亦可為例如高速軸流式放大器。高速軸流式放大器亦可包含：射入窗401、放電管411~418、鏡421~428和射出窗402。射入窗401亦可為用以供雷射光沿著X方向從第3光束傳送器323(參照第3A圖)射入之透明的窗。射出窗402亦可為用以供雷射光沿著X方向朝第3光束傳送器323射出之透明的窗。
如第6圖所示，高速軸流式放大器亦可包含配置於各放電管411~418外周的一對電極433及434。又，在各放電管411~418的內部，亦可供給含CO2氣體的混合氣體作為雷射介質。
在各放電管411~418中，亦可從未圖示之外部的RF電源裝置將高頻電壓施加於電極433與電極434之間，藉此，激發含CO2氣體的混合氣體，可將通過被激發之區域的雷射光放大。雷射光從射入窗401射入放電管411，藉由鏡421~428(參照第5圖)的各個鏡分別反射，依序通過放電管412~418內而被放大，然後可沿著X方向從射出窗402輸出。
第1主放大器304又包含設置於其下面的腳部(支持部)441~443。腳部至少設置於三處，亦可以3點來支持第1主放大器304。較佳者，腳部441亦可設置在射入窗401及射出窗402側面附近的位置。又，腳部442亦可設置於由射入窗401射入之光在行進方向側之側面附近的位置。再者，腳部443亦可設置在設置腳部441及442之側的相反側。
如第7A圖所示，框架330亦可包含載置腳部441~443的固定件(mount)341~343。亦可藉由腳部441~443分別載置於固定件341~343，而使第1主放大器304支持於框架330。
在固定件341的上面亦可形成圓錐狀凹洞341a。在固定件342的上面，亦可形成剖面為V字狀的槽342a。槽342a亦可在與從射入窗401射入之光的行進方向及從射出窗402射出之光的行進方向平行之方向(X方向)上形成。固定件343的上面亦可為平面狀。
藉由使腳部441載置於固定件341，可抑制腳部441沿著XY平面移動。藉由使腳部442載置於固定件342，使腳部442被支持成可在沿著槽342a的方向上移動。亦即，腳部442可被支持成可在與從射入窗401射入之光的行進方向及從射出窗402射出之光的行進方向平行之方向上移動。腳部443可被支持成藉由載置於固定件343，而能沿著固定件343的上面移動。也就是說，腳部443可被支持成能在水平面內移動。
如第6圖所示，腳部441及442亦可設置在由射入窗401射入之光及由射出窗402射出之光的軸延伸於第1主放大器304內所形成的線的正下方。而且，腳部441亦可設置於射入窗401及射出窗402側，而將第1主放大器304相對於框架330定位。
藉由以上之構成，即便在第1主放大器304因熱而膨脹或變形情況，亦可抑制射入窗401及射出窗402之空間位置變動。更且，可抑制由第1主放大器304射出之光的行進方向對朝第1主放大器304射入之光的行進方向相對地位移。
如第6圖、第7A圖所示，於第1主放大器304亦可安裝複數伸縮機構(昇降機構)461~464，且於此等伸縮機構461~464分別安裝車輪(引導從動件)451~454。此外，第7A圖中，伸縮機構463及464、以及安裝於該等機構的車輪453及454，由於係分別配置在伸縮機構461及462、以及車輪451及452之圖面的深度側，故省略了該圖示。又，於框架330上亦可設置相互平行配置的2條導軌(導件)351及352。以上構成中，亦可藉由使伸縮機構461、462、463、464伸張，而將第1主放大器304設成第7B圖及第8圖所示的狀態。
第7B圖為顯示藉由使伸縮機構461~464伸張而使腳部441~443與框架330呈分離之狀態的前視圖。藉由利用伸縮機構461~464，增加車輪451~454與第1主放大器304之間的距離，固定於第1主放大器304的腳部441 ~443可從固定於框架330的固定件341~343分離。藉此，車輪451~454可行走於導軌351及352上，可使第1主放大器304相對於框架330移動。
再者，如第8圖所示，亦可在框架330的附近，準備台車7。於台車7，亦可設置例如相互平行配置的2條導軌751及752。藉此，可使第1主放大器304從框架330上的位置移動至台車7上的位置，而搬運至所期望的維修區。
又，於台車7上，亦可設置以與固定件341~343同樣方式配置的固定件761~763。固定件761~763亦可形成為第1主放大器304可固定於台車7的形狀。第1主放大器304亦可以藉由使車輪451~454沿著導軌751及752走行，而使腳部441~443以位於分別對應之固定件761~763上的方式移動。於此狀態下，亦可藉由縮短伸縮機構461~464，而減少車輪451~454與第1主放大器304的距離。藉此，可將腳部441~443分別載置於固定件761~763，而將第1主放大器304穩定地載置於台車7上。
4.4前置放大器的支持機構
第9A圖為第2及第3前置放大器的透視立體圖。第9B圖為從第9A圖的箭頭IXB所示的方向觀看第2及第3前置放大器之透視平面圖。在第9A圖及第9B圖中，雖以透視圖顯示第3前置放大器303的內部，並省略第2前 置放大器302內部的圖示，但此等構成亦可相同。
可構成一模組的第3前置放大器303亦可為例如厚板式放大器。厚板式放大器亦可包含：射入窗501、射出窗502、一對凹面鏡503及504、和一對放電電極505及506。
射入窗501亦可為用以讓來自第3光束調節器313(參照第3B圖)的雷射光射入的透明窗。射出窗502亦可為用以供雷射光朝第4光束調節器314射出的透明窗。在放電電極505與506之間，亦可藉由未圖示的電源裝置施加高電壓。在放電電極505與放電電極506之間，亦可配置雷射腔室(未圖示)，其用以讓氣體狀雷射介質在與大氣隔絕的狀態下保持。
一對凹面鏡503及504亦可配置成藉由反射雷射光而使雷射光以Z字形在放電電極505與放電電極506之間行進規定次數，而形成多路光路。亦可在放電電極505與506之間施加高電壓而將氣體狀雷射介質設成激發狀態。由射入窗501射入的主脈衝雷射光亦可在藉凹面鏡503及504反射而以Z字形行進於激發狀態的雷射介質內之際被放大，而從射出窗502輸出。來自射入窗501之射入光的行進方向、與來自射出窗502之射出光的行進方向可大約一致。
與參照第5圖~第8圖說明的第1主放大器304同樣，第3前置放大器303亦可進一步包含設置於第3前置放大器303下面的腳部541~543。腳部541亦可設置於 第3前置放大器303之射出窗502側的側面附近位置。腳部542亦可設置於第3前置放大器303之射入窗501側的側面附近位置。腳部543亦可設置在供設置腳部541及542之側的相反側的側面附近位置。
框架330亦可含有供載置腳部541~543的固定件341~343。固定件341~343的構成亦可與參照第5圖~第8圖說明的構成相同。惟，固定件342的槽342a亦可形成在與來自射入窗501之射入光的行進方向、及來自射出窗502之射出光的行進方向大約一致的方向。另外，固定件341及342的配置亦可調換。
如第9B圖所示，腳部541及542亦可分別設置於來自射出窗502之射出光的軸、與來自射入窗501之射入光的軸延伸於第3前置放大器303內所形成的線的正下方。藉由以上構成，即便在第3前置放大器303因熱而膨脹或變形的情況，亦可抑制射入窗501及射出窗502之空間的位置變動。再者，可抑制由第3前置放大器303射出之光的行進方向對朝第3前置放大器303射入之光的行進方向相對地位移。
如第9A圖所示，於第3前置放大器303亦可安裝複數伸縮機構461~464，且於此等伸縮機構461~464安裝有車輪451~454。又，於框架330亦可設置相互平行配置的兩條導軌351及352。此等構成要素的構成亦可與參照第5圖~第8圖說明的構成相同。再者，與參照第8圖說明的構成同樣，亦可構成將第3前置放大器303載置於 台車來搬運。
4.5光束傳送器的支持機構
第10A圖為第3光束傳送器的透視立體圖。第10B圖為從第10A圖的箭頭XB所示的方向觀看第3光束傳送器之平面圖。
可構成一模組的第3光束傳送器323亦可包含：第1射入窗601、第1射出窗602、第2射入窗603、第2射出窗604、以及第1~第3高反射鏡605~607。
第1射入窗601亦可為用以讓來自第2光束傳送器322(參照第3A圖)的雷射光射入的透明窗。第1射出窗602亦可為用以供雷射光朝第1主放大器304射出的透明窗。第2射入窗603亦可為用以供來自第1主放大器304的雷射光射入的透明窗。第2射出窗604亦可為用以供雷射光朝第4光束傳送器324射出的透明窗。
第1及第2高反射鏡605及606亦可配置成將由第1射入窗601射入的主脈衝雷射光反射，而使反射的主脈衝雷射光從第1射出窗602輸出。第3高反射鏡607亦可配置成將由第2射入窗603射入的主脈衝雷射光反射，而使反射的主脈衝雷射光從第2射出窗604輸出。
來自第1射入窗601之射入光的行進方向、和來自第1射出窗602之射出光的行進方向、和來自第2射入窗603之射入光的行進方向亦可大致平行。來自第2射入窗603之射入光的行進方向和來自第2射出窗604之射出光 的行進方向亦可大致正交。如此，第1~第3高反射鏡605~607亦可以相對於各反射鏡的射入角及反射角成約45度的方式配置。
與參照第5圖~第8圖說明的第1主放大器304同樣，第3光束傳送器323亦可進一步包含設置於第3光束傳送器323下面的腳部641~643。腳部641亦可設置於來自第2射入窗603之射入光的軸、與來自第2射出窗604之射出光的軸延伸於第3光束傳送器323內所形成之各自的線交叉之位置的正下方。亦可設置於例如高反射鏡607的正下方。腳部642亦可在供設置第2射出窗604之側面的相反側的側緣附近，設置在將來自第2射出窗604之射出光的軸延伸所形成之線的正下方。腳部643亦可設在供設置腳部641及642之側面的相反側的側面附近。
框架330(參照第3A圖)亦可包含載置腳部641~643的固定件341~343。固定件341~343的構成亦可與參照第5圖~第8圖說明的構成相同。又，固定件342的槽342a亦可形成於與來自第2射出窗604之射出光的行進方向平行的方向。
與參照第5圖~第8圖說明的構成同樣，於第3光束傳送器323亦可安裝複數伸縮機構及車輪。又，與參照第8圖說明的構成同樣，亦可構成將第3光束傳送器323載置於台車來搬運。此等搬運機構在第3光束傳送器323的重量不大的情況，亦可不設置。
此處，顯示設有用以供雷射光相對於光束傳送器射入 或射出的窗601~604之實施形態。然而，未限於此實施形態，在雷射裝置3之設置空間的乾淨度得以充分保持的情況下，也可不設置此等窗，而是在對應於此等窗的位置設置供雷射光通過的貫通孔。又，無論是否存有窗，在安全考量上亦可在光束傳送器與其他模組之間設置有用以供雷射光通過的配管。
4.6主振盪器的支持機構
第11A圖為主振盪器的透視前視圖。第11B圖為從第11A圖之箭頭XIB所示方向觀看主振盪器的透視平面圖。
可構成一個模組的主振盪器300亦可包含：輸出結合鏡701、高反射鏡702、一對放電電極703及704、Q開關705、和射出窗706。
射出窗706亦可為供雷射光朝第1前置放大器301(參照第3A圖)射出用的透明窗。在放電電極703與704之間，亦可藉由未圖示的電源裝置施加高電壓。在放電電極703與放電電極704之間，亦可配置的雷射腔室(未圖示)，其用以讓氣體狀雷射介質在與大氣隔絕的狀態下保持。
當在放電電極703與704之間從電源裝置施加高電壓時，可在放電電極703與704之間產生放電。藉由該放電的能量，雷射介質會被激發而可移行至高能量準位。被激發的雷射介質，之後移行到低能量準位時，可放出因應該 能量準位差的光。
由被激發的雷射介質放出的光，會往復於構成光共振器的輸出結合鏡701與高反射鏡702之間，每次在通過放電電極703與704之間(雷射增益空間)時可被放大。Q開關705在構成雷射介質的原子多數成為激發狀態為止前保持在光損失大的狀態以抑制振盪，當構成雷射介質的原子多數成為激發狀態時可使光損失降低。藉由設置Q開關705，可生成脈衝狀的雷射光。被放大為高能量的脈衝雷射光，其一部分可透過輸出結合鏡701輸出。通過輸出結合鏡701的脈衝雷射光，可經由射出窗706輸出至第1前置放大器301。
與參照第5圖~第8圖所說明的第1主放大器304同樣，主振盪器300亦可進一步包含配置於主振盪器300下面的腳部741~743。腳部741亦可設置於供設置射出窗706之側面附近的位置。腳部742亦可設置於與供設置射出窗706之側面相反側的側面附近的位置。亦或，腳部741亦可配置於輸出結合鏡701的正下方，腳部742亦可配置於高反射鏡702的正下方。腳部743亦可設置於供設置腳部741及742之側的相反側。
框架330亦可包含供載置腳部741~743的固定件341~343。固定件341~343的構成亦可與參照第5圖~第8圖所說明的構成同樣。固定件342的槽342a亦可形成於與來自射出窗706之射出光的行進方向平行的方向上。
如第11B圖所示，腳部741及742亦可設置在來自射出窗706之射出光的軸延伸於主振盪器300內所形成的線的正下方。腳部741亦可設置在射出窗706側，將主振盪器300對框架330定位。
藉由以上的構成，即便在主振盪器300因熱而膨脹或變形之情況，亦可抑制由射出窗706輸出之射出光的行進方向位移。
於主振盪器300，亦可安裝伸縮機構461~464，於此等伸縮機構461~464，亦可安裝車輪451~454。又，於框架330，亦可設置相互平行配置的2條導軌351及352。此等構成要素的構成亦可與參照第5圖~第8圖所說明的構成同樣。
5.第2實施形態
第12圖為本揭示之第2實施形態的第1主放大器的透視前視圖。第2實施形態中，第1主放大器304亦可包含支持部344~346。於支持部344的下面，亦可形成圓錐狀凹洞341a。於支持部345的下面，亦可形成剖面呈V字狀的槽342a。槽342a亦可形成在與來自射入窗401之射入光的行進方向及來自射出窗402之射出光的行進方向平行的方向。支持部346的下面亦可為平面狀。
另一方面，框架330亦可含有供載置支持部344~346的腳部(固定件)444~446。腳部444~446亦可形成從框架330的下部上面朝上方突出。
如此，第2實施形態在支持部與固定件的関係成為相反的點，係與參照第7A圖說明的第1實施形態不同。關於其他點，亦可與參照第7A圖說明的第1實施形態相同。
6.第3實施形態
第13圖為本揭示之第3實施形態的第1主放大器的透視前視圖。第13圖為顯示使腳部441~443從框架330分離的狀態。第3實施形態中，固定於伸縮機構461~464(伸縮機構463、464未圖示)的板465亦可藉由伸縮機構461~464與車輪451及452一起被壓下。於板465，亦可形成有供腳部441~443貫通的貫通孔。亦可構成為藉由使伸縮機構461~464伸張，而使車輪451~454(車輪453及454未圖示)與第1主放大器304之間的距離分離。由於板465係固定於伸縮機構461~464，所以即便各伸縮機構的伸縮速度不同，亦可將第1主放大器304保持大致水平。關於其他的點，亦可與參照第7B圖說明的第1實施形態相同。
7.第4實施形態
第14圖為本揭示之第4實施形態的第1主放大器的透視立體圖。第4實施形態中，亦可不設置行走於導軌351及352上的車輪。於伸縮機構461~464(伸縮機構464未圖示)，亦可安裝引導從動件455~458(引導從動 件458未圖示)。亦可構成為引導從動件455~458滑走於導軌351及352上。關於其他點，係與參照第5圖說明的第1實施形態相同。
8.第5實施形態
第15圖為本揭示之第5實施形態的第1主放大器的前視圖。第5實施形態中，亦可構成為在未設置導軌的情況下車輪451~454(車輪453及454未圖示)走行於框架330的任意面上。
如15圖所示，於框架330，亦可設置1根導件359。又，於第1主放大器304，亦可設置可沿著導件359移動的引導從動件459。導件359亦可為剖面呈U字狀，引導從動件459亦可構成為在由導件359所挾持的狀態下沿著導件359移動。關於其他點，亦可與參照第7A圖說明的第1實施形態相同。
9.第6實施形態
第16圖為本揭示之第6實施形態的第1主放大器的側視圖。第6實施形態中，於框架330，亦可不設置導軌，而設置車輪371~373。車輪371~373亦可構成為可在框架330上的規定位置旋轉。另一方面，於第1主放大器304的伸縮機構461及463與伸縮機構462及464(未圖示)，亦可分別固定導軌471。導軌471亦可配置於車輪371~373上。亦可構成為伴隨車輪371~373的旋轉， 使第1主放大器304與導軌471一起移動。
再者，於台車7，亦可設置車輪771~773。藉此，亦可使第1主放大器304從框架330上移動到台車7上，以搬運至所期望的維修區。
如此，第6實施形態在導軌與車輪的關係成為相反的點，係與參照第8圖說明的第1實施形態不同。關於其他點，亦可與參照第8圖說明的第1實施形態相同。
10.第7實施形態
第17圖為本揭示之第7實施形態的第1主放大器的側視圖。第7實施形態中，亦可不設置導軌(導件)及車輪(引導從動件)。如第17圖所示，於第1主放大器304的下面，亦可設置氣體噴吹裝置(昇降機構)475。於氣體噴吹裝置475的周圍，亦可設置群部476。藉由從氣體噴吹裝置475噴出高壓氣體，亦可使群部476內側的氣壓上升至比大氣壓更高，而使第1主放大器304上昇。藉此，亦可以微小的力使第1主放大器304從框架330上的位置移動到台車7上的位置。關於其他點，亦可與參照第8圖說明的第1實施形態相同。
11.第8實施形態
第18A圖為顯示本揭示的第8實施形態中用以支持模組的構造之分解立體圖。第18B圖為顯示第8實施形態中用以支持模組的構造之立體圖。第18A圖及第18B圖 中，僅圖示模組的腳部441~443。
第8實施形態中，於固定件361~363的上面，亦可分別形成圓錐狀凹洞361a~363a。此外，凹洞的形狀可為圓錐以外的形狀，例如亦可為半球狀。固定件361亦可藉由銷361c或螺栓固定於固定框架330的設置部361b上。藉此，腳部441亦可被定位成難以沿著水平面移動。
載置台362d亦可藉由銷362c或螺栓固定於框架330。固定件362亦可被載置於載置台362d上。於載置台362d的上面，亦可形成具有階差362e與傾斜的設置部362b。於固定件362的下面，亦可形成與階差362e對應的階差362f。此等階差362e與階差362f亦可由例如長方體狀的鍵(key)以及與其對應之形狀的鍵槽所形成。固定件362亦可不固定於載置台362d。
固定件362載置於載置台362d的設置部362b上時，亦可藉由重力使固定件362隨著設置部362b的傾斜而滑動，藉此將階差362f推壓至階差362e。設置部362b較佳為相對於水平面具有摩擦角以上的傾斜角。固定件362亦可在階差362f被推壓至階差362e的狀態下沿著階差362e移動。藉此，模組的腳部442亦可構成為可沿著階差362e移動。
固定件363可載置於框架330的設置部363b上，亦可固定於設置部363b。亦即，固定件363亦可沿著設置部363b的面移動。藉此，腳部443可被支持成能與固定件363一起在水平面內移動。
根據第8實施形態，由於是藉由形成於固定件361~363的圓錐狀凹洞361a~363a來支持腳部441~443，所以固定件361~363與腳部441~443的接觸部位會成線狀而非點狀，可分散負載。因此，固定件361~363與腳部441~443可抵抗模組的大負載。此外，腳部441~443的前端不須為圓形，只要具有能與圓錐狀的凹洞內面接觸的大小及形狀即可。
又，根據第8實施形態，由於用以載置固定件362的載置台362d的上面傾斜，且形成有階差362e，所以固定件362可被推壓至階差362e。因此，固定件362可沿著階差362e以良好的精度定位。關於其他點，亦可與參照第8圖說明的第1實施形態相同。
12.第9實施形態
第19圖為顯示本揭示的第9實施形態中用以支持模組之固定件的構成之剖面圖。第9實施形態中，亦可使用被載置於不具傾斜的設置部382b上的固定件382，來取代第8實施形態的固定件362及載置台362d(參照第18A圖)。
於設置部382b，亦可形成階差382e。於固定件382的下面，亦可形成與階差382e對應的階差382f。階差382e及382f亦可由例如：藉由銷382c或螺栓固定於設置部382b的鍵382g、以及與鍵382g對應之形狀的鍵槽382h形成。
於固定件382，亦可設置藉由彈性構件朝鍵槽382h的內部推壓的柱塞382i。固定件382被載置於設置部382b時，柱塞382i亦可按壓鍵382g。藉此，階差382f亦可被推壓至階差382e。固定件382亦可在階差382f被推壓至階差382e的狀態下，沿著階差382e(第19圖的深度方向)移動。藉此，模組的腳部442可被支持成能沿著階差382e的方向移動。關於其他點，係與參照第18A圖及第18B圖說明的第8實施形態相同。
13.第10實施形態
第20A圖為顯示本揭示的第10實施形態中用以支持模組的構造之分解立體圖。第20B圖為顯示第10實施形態中用以支持模組的構造之立體圖。第20C圖為從箭頭XXC所示的方向觀看第20B圖的構造之部分剖面圖。第20A圖~第20C圖中，模組內的光學元件及供雷射光通過的窗或配管係省略了圖示。
第10實施形態中，框架330亦可進一步具有板狀部分。於框架330的板狀部側面，亦可設置第3光束傳送器323等的模組。第3光束傳送器323亦可設置成其長度方向沿著重力方向。如參照第10A圖及第10B圖所說明，在第10實施形態中，亦可以框架330的側面支持第3光束傳送器323，來取代以框架330下部的上面支持第3光束傳送器323的下面。
於框架330的板狀部上面，亦可配置供載置第3光束 傳送器323的腳部641及642之固定件391及392。亦可藉由將腳部641載置於固定件391，而使腳部641定位成難以在水平方向移動。藉由將腳部642載置於固定件392，腳部642亦可被支持成能在Y方向移動。
於框架330的板狀部側面，亦可形成固定件393。固定件393亦可為形成於框架330的板狀部側面的凹部。第3光束傳送器323的腳部643亦可構成為亦可配置在與第3光束傳送器323之框架330的板狀部對向之側的面，被推壓至固定件393，並可沿著框架330的板狀部側面之方向移動。推壓腳部643之固定件393的平坦面393b較佳為，如第20C圖所示，與通過固定件391及392之中心的面一致。
為了將腳部643推壓至固定件393，螺栓643a亦可貫通第3光束傳送器323壁面的貫通孔(大徑部643b及小徑部643c)而螺入框架330。在螺栓643a的頭部643d與大徑部643b的底面之間，亦可配置彈簧等的彈性構件643e，亦可將第3光束傳送器323推壓至固定件393。為了將第3光束傳送器323推壓至固定件393，亦可使用磁鐵來取代螺栓643a等。在螺栓643a與小徑部643c之間亦可設置間隙，以使第3光束傳送器323容易沿著框架330的板狀部側面移動。
根據第10實施形態，即便是模組的高度尺寸相對地大於模組的底面尺寸且僅以下面支持時有可能會倒塌的模組，仍可穩定地支持。關於其他點，亦與參照第8圖說明 的第1實施形態相同。
14.第11實施形態
第21圖為顯示本揭示之第11實施形態的EUV光生成系統的構成之方塊圖。EUV光生成系統11a所含的雷射裝置3a亦可包含：主振盪器300a、第1~第3前置放大器301a~303a、第1及第2主放大器304及305、預脈衝雷射部306和光路調整部307。
第22A圖為顯示構成第11實施形態之雷射裝置的模組之具體的配置之立體圖。第22B圖為顯示第22A圖之下層部的模組的配置之立體圖。第22C圖為顯示第22A圖的框架之立體圖。
主振盪器300a與第1前置放大器301a亦可收納於一個框體。第11實施形態中，第2及第3前置放大器302a及303a亦可皆由與第1及第2主放大器304及305相同的高速軸流式放大器構成。因此，亦可不設置第1實施形態的第1~第4光束調節器311~314。
第11實施形態中，於第1及第2前置放大器301a及302a之間，亦可配置第7光束傳送器327。於第2及第3前置放大器302a及303a之間，亦可配置第7及第8光束傳送器327及328。於第3前置放大器303a與第1主放大器304之間，亦可配置第8、第2及第3光束傳送器328、322及323。
根據第11實施形態，可將雷射裝置3a構成緊密小型 化(compact)。第11實施形態之各種模組的支持機構亦可與第1實施形態的支持機構相同。
上述的說明僅只是為了例示，而非用於限制。因此，該當技術領域的業者顯然可在不脫離附加之申請專利範圍的情況下對本揭示的實施形態進行變更。
本說明書及附加的申請專利範圍整體所使用的用語，應解釋為「非限定式」用語。例如，「包含」或「被包含」之用語應解釋為「不限於記載為包含」。「具有」之用語應解釋為「不限於記載為具有」。又，本說明及附加的申請專利範圍所記載的修飾句「一個」應解釋為意指「至少一個」或「一個或一個以上」。
1‧‧‧EUV光生成裝置
2‧‧‧腔室
3、3a‧‧‧雷射裝置
4‧‧‧標的物感測器
5‧‧‧EUV光生成控制部
6‧‧‧曝光裝置
7‧‧‧台車
11、11a‧‧‧EUV光生成系統
21‧‧‧視窗
22‧‧‧雷射光聚光光學系
23‧‧‧EUV聚光鏡
24‧‧‧貫通孔
25‧‧‧電漿生成區域
26‧‧‧小滴生成器
27‧‧‧標的物
28‧‧‧標的物回收部
29‧‧‧連接部
31、32、33‧‧‧脈衝雷射光
34‧‧‧雷射光行進方向控制部
251、252‧‧‧EUV光
291‧‧‧壁
292‧‧‧中間焦點
300、300a‧‧‧主振盪器
301、301a‧‧‧第1前置放大器
302、302a‧‧‧第2前置放大器
303、303a‧‧‧第3前置放大器
304‧‧‧第1主放大器
305‧‧‧第2主放大器
306‧‧‧預脈衝雷射部
307‧‧‧光路調整部
311‧‧‧第1光束調節器
312‧‧‧第2光束調節器
313‧‧‧第3光束調節器
314‧‧‧第4光束調節器
321‧‧‧第1光束傳送器
322‧‧‧第2光束傳送器
323‧‧‧第3光束傳送器
324‧‧‧第4光束傳送器
325‧‧‧第5光束傳送器
326‧‧‧第6光束傳送器
327‧‧‧第7光束傳送器
328‧‧‧第8光束傳送器
330‧‧‧框架
331~333‧‧‧框架支持部
341~343‧‧‧固定件
341a‧‧‧凹洞
342a‧‧‧槽
344~346‧‧‧支持部
351、352‧‧‧導軌(導件)
359‧‧‧導件
361~363‧‧‧固定件
361a~363a‧‧‧凹洞
361b~363b‧‧‧設置部
361c、362c‧‧‧銷
362d‧‧‧載置台
362e‧‧‧階差
362f‧‧‧階差
371~373‧‧‧車輪(引導從動件)
382‧‧‧固定件
382b‧‧‧設置部
382c‧‧‧銷
382e‧‧‧階差
382f‧‧‧階差
382g‧‧‧鍵
382h‧‧‧鍵槽
382i‧‧‧柱塞
391~393‧‧‧固定件
393b‧‧‧平坦面
401‧‧‧射入窗
402‧‧‧射出窗
411~418‧‧‧放電管
421~428‧‧‧鏡
433、434‧‧‧電極
441~443‧‧‧腳部(支持部)
444~446‧‧‧腳部(固定件)
451~453‧‧‧車輪(引導從動件)
455~459‧‧‧引導從動件
461~464‧‧‧伸縮機構
465‧‧‧板
471‧‧‧導軌
475‧‧‧氣體噴吹裝置
476‧‧‧群部
501‧‧‧射入窗
502‧‧‧射出窗
503‧‧‧凹面鏡
505、506‧‧‧放電電極
541~543‧‧‧腳部(支持部)
601‧‧‧第1射入窗
602‧‧‧第1射出窗
603‧‧‧第2射入窗
604‧‧‧第2射出窗
605‧‧‧第1高反射鏡
606‧‧‧第2高反射鏡
607‧‧‧第3高反射鏡
641~643‧‧‧腳部(支持部)
643a‧‧‧螺栓
643b‧‧‧大徑部
643c‧‧‧小徑部
643d‧‧‧頭部
643e‧‧‧彈性構件
701‧‧‧輸出結合鏡
702‧‧‧高反射鏡
703、704‧‧‧放電電極
705‧‧‧Q開關
706‧‧‧射出窗
741~743‧‧‧腳部(支持部)
751、752‧‧‧導軌
761~763‧‧‧固定件
771~773‧‧‧車輪
第1圖為示意地顯示例示之LPP式EUV光生成系統的構成。
第2圖為顯示本揭示之第1實施形態的EUV光生成系統的構成之方塊圖。
第3A圖為顯示構成第1實施形態之雷射裝置的模組之具體的配置之立體圖。
第3B圖為顯示第3A圖之下層部的模組的配置之立體圖。
第3C圖為顯示第3A圖之框架的立體圖。
第4圖為顯示構成第1實施形態之雷射裝置的模組之具體的配置之平面圖。
第5圖為第1主放大器的透視立體圖。
第6圖為從第5圖的箭頭VI所示之方向觀看第1主放大器的平面圖。
第7A圖為從第5圖的箭頭VIIA所示之方向觀看第1主放大器的前視圖。
第7B圖為使伸縮機構伸張之狀態的第1主放大器之前視圖。
第8圖為從第5圖的箭頭VIII所示之方向觀看第1主放大器的側視圖。
第9A圖為第2及第3前置放大器的透視立體圖。
第9B圖為從第9A圖的箭頭IXB所示之方向觀看第2及第3前置放大器的平面圖。
第10A圖為第3光束傳送器的透視立體圖。
第10B圖為從第10A圖的箭頭XB所示之方向觀看第3光束傳送器的平面圖。
第11A圖為主振盪器的前視圖。
第11B圖為從第11A圖的箭頭XIB所示之方向觀看主振盪器的平面圖。
第12圖為本揭示之第2實施形態的第1主放大器的前視圖。
第13圖為本揭示之第3實施形態的第1主放大器的前視圖。
第14圖為本揭示之第4實施形態的第1主放大器的透視立體圖。
第15圖為本揭示之第5實施形態的第1主放大器的前視圖。
第16圖為本揭示之第6實施形態的第1主放大器的側視圖。
第17圖為本揭示之第7實施形態的第1主放大器的側視圖。
第18A圖為顯示本揭示之第8實施形態中用以支持模組的構造之分解立體圖。
第18B圖為顯示第8實施形態中用以支持模組的構造之立體圖。
第19圖為顯示本揭示的第9實施形態中用以支持模組的第2固定件之剖面圖。
第20A圖為顯示本揭示的第10實施形態中用以支持模組的構造之分解立體圖。
第20B圖為顯示第10實施形態中用以支持模組的構造之立體圖。
第20C圖為從箭頭XXC所示之方向觀看第20B圖所示之構造的部分剖面圖。
第21圖為顯示本揭示之第11實施形態的EUV光生成系統的構成之方塊圖。
第22A圖為顯示構成第11實施形態的雷射裝置之模組的具體配置之立體圖。
第22B圖為顯示第22A圖之下層部的模組的配置之立體圖。
第22C圖為顯示第22A圖之框架的立體圖。
304‧‧‧第1主放大器
330‧‧‧框架
333‧‧‧框架支持部
341‧‧‧固定件
341a‧‧‧凹洞
342‧‧‧固定件
342a‧‧‧槽
343‧‧‧固定件
351、352‧‧‧導軌(導件)
401‧‧‧射入窗
402‧‧‧射出窗
411~418‧‧‧放電管
421~428‧‧‧鏡
441~443‧‧‧腳部(支持部)
451~453‧‧‧車輪(引導從動件)
461~463‧‧‧伸縮機構

Claims (7)

  1. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件，前述模組又包含：射入部，用以供射入光從第1外部單元射入；以及射出部，用以供射出光朝第2外部單元射出，前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射入部側的第1位置，前述第2支持部從前述第1位置觀看時是設置於前述射入光之射入方向側的第2位置，前述第3支持部設置於第3位置，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於規定位置，前述第2固定件，係以前述第2支持部可沿著前述射入光的射入方向之方向移動的方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  2. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及 框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件，前述模組又包含用以供射出光朝外部單元射出之射出部，前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射出部側的第1位置，前述第2支持部從前述第1位置觀看時是設置於前述射出光之射出方向相反側的第2位置，前述第3支持部設置於第3位置，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於規定位置，前述第2固定件，係以前述第2支持部可沿著前述射出光的射出方向之方向移動的方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  3. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述模組又包含：射入部，用以供射入光從第1外部單元射入；以及射出部，用以供射出光朝第2外部單元射出， 前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射入部側的第1位置，前述第2支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射出部側的第2位置，前述第3支持部設置於第3位置，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於規定位置，前述第2固定件，係以前述第2支持部可沿著前述射出光的射出方向之方向移動的方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  4. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件；前述模組又包含：射入部，用以供射入光從第1外部單元射入；以及射出部，用以供射出光朝第2外部單元射出，前述第1支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射入部側的第1位置，前述第2支持部從前述模組的重心觀看時是設置於前述射出部側的第2位置， 前述第3支持部設置於第3位置，前述第1固定件係將前述第2支持部定位於規定位置，前述第2固定件，係以前述第1支持部可沿著前述射入光的射入方向之方向移動的方式，支持前述第1支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  5. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件及分別載置前述第1~第3固定件的第1~第3設置部，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於前述框架的規定位置，前述第2固定件，係以可沿著形成於前述第2設置部的階差而移動的方式，載置於前述第2設置部，且藉由前述第2設置部相對於水平面傾斜，使前述第2固定件被推壓至前述階差，前述第2固定件係藉由將前述第2支持部定位於前述第2固定件的規定位置，而以前述第2支持部可相對於前述框架沿著前述階差的方向移動之方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可相對於前述 框架在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  6. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以放大雷射光的放大器及用以支持前述放大器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件及分別載置前述第1~第3固定件的第1~第3設置部，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於前述框架的規定位置，前述第2固定件，係以可沿著形成於前述第2設置部的階差而移動的方式，載置於前述第2設置部，且藉由前述第2設置部或設置於前述第2固定件的彈性構件，使前述第2固定件被推壓至前述階差，前述第2固定件係藉由將前述第2支持部定位於前述第2固定件的規定位置，而以前述第2支持部可相對於前述框架沿著前述階差的方向移動之方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可相對於前述框架在水平面內移動之方式，支持前述第3支持部。
  7. 一種雷射裝置，其特徵為包含：模組，包含用以傳送雷射光的光束傳送器及用以支持前述光束傳送器的第1~第3支持部；以及框架，其係供載置前述模組，前述框架包含分別載置前述第1~第3支持部的第1~第3固定件，前述第1及第2固定件係設置於前述框架的第1面， 前述第3固定件係設置於前述框架的第2面且與前述第1面交叉的面，前述第1固定件係將前述第1支持部定位於規定位置，前述第2固定件，係以前述第2支持部可在沿著靠近前述第1固定件之方向的方向上移動之方式，支持前述第2支持部，前述第3固定件，係以前述第3支持部可在沿著前述第2面的方向上移動之方式，支持前述第3支持部。
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