JP2009088358A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 光源からの光を用いて被照明領域を照明する照明光学系であって、
   前記光源と前記照明光学系の瞳との間に配置されて光の偏光状態を制御する第１偏光制御ユニットと、
   前記第１偏光制御ユニットと前記瞳との間に配置されて光の偏光状態を制御する第２偏光制御ユニットとを備え、
   前記瞳における領域は、複数の部分領域を含み、前記複数の部分領域は、最も面積が大きい部分領域を含む第１グループと、前記最も面積が大きい部分領域とは異なる部分領域を含む第２グループとに分類され、
   前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループ及び前記第２グループのうち前記第２グループに属する部分領域における偏光状態を制御する、
   ことを特徴とする照明光学系。
2. 前記第２偏光制御ユニットは、前記第１偏光制御ユニットと前記瞳との間であって前記瞳の近傍に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
3. 前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループに属する部分領域に入射させる光が通過する部分に開口を有する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
4. 前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループに属する部分領域に入射させる光が通過する部分に、光の偏光状態を変化させない光学素子を有する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
5. 複数の前記第１偏光制御ユニットが選択的に使用することができるように設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明光学系。
6. 複数の前記第２偏光制御ユニットが選択的に使用することができるように設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学系。
7. 原版のパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
   該原版の被照明領域を照明するように構成された請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学系と、
   該原版のパターンの像を該基板に投影する投影光学系と、
   を備えることを特徴とする露光装置。
8. デバイス製造方法であって、
   請求項７に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
   該基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
9. 光源からの光を用いて被照明領域を照明する照明光学系の瞳と前記光源との間に配置され、光の偏光状態を制御する偏光制御ユニットであって、
   前記瞳における領域は複数の部分領域を含み、前記複数の部分領域は最も面積が大きい部分領域を含む第１グループと、前記最も面積が大きい部分領域とは異なる部分領域を含む第２グループとに分類され、
   前記偏光制御ユニットは、
   前記第２グループのみに属する部分領域における偏光状態を制御することを特徴とする偏光制御ユニット。