JP2005142382A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. Ｆ _２ レーザ光を用いて、マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に露光する露光装置であって、
   Ｆ _２ レーザ光源と、
   前記投影光学系の少なくとも１部を密閉して収容するチャンバーと、
   前記チャンバー内に不活性ガスを送る送風手段、および、前記不活性ガスを温度調整する温度調整手段を有し、前記チャンバーに対して前記不活性ガスを循環させる循環系と、
   前記温度調整手段の下流で前記不活性ガスの温度を検出する温度センサーと、
   前記チャンバー内の目標温度および前記温度センサーの検出結果に基づいて、前記温度調整手段を制御する制御手段と、を備え、
   前記制御手段は、温度変動に伴う圧力変動が許容範囲に収まるように決定された温度勾配に対応して、前記温度調整手段を制御することを特徴とする露光装置。
2. 前記許容範囲は、前記投影光学系の耐圧範囲に基づくことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記温度勾配は、単位時間あたりの温度変動を表すことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記温度勾配は、前記チャンバーの体積、および、循環する前記不活性ガスの流量のうち少なくとも１つに基づいて決定されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の露光装置。
5. 前記温度調整手段は、冷却器および加熱器を含み、
   前記循環系は、前記冷却器と前記加熱器の間に配置されたフィルターを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の露光装置。
6. 請求項１から５のいずれか１つに記載の露光装置を用いて、基板を露光するステップと、
   露光された前記基板を現像するステップと、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。