JP2018159828A - 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の実施の形態に係る露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板またはフォトマスク用基板等をいう。
露光装置100においては、透光板162を通して光源部163から基板Wに真空紫外線が照射されることにより露光処理が行われる。しかしながら、処理室120内の酸素濃度が高い場合、酸素分子が真空紫外線を吸収して酸素原子に分離するとともに、分離した酸素原子が他の酸素分子と再結合することによりオゾンが発生する。この場合、基板Wに到達する真空紫外線が減衰する。真空紫外線の減衰は、約230nmよりも長い波長の紫外線の減衰に比べて大きい。
図8は、図1の制御部110の構成を示す機能ブロック図である。図8に示すように、制御部110は、閉塞制御部1、昇降制御部2、排気制御部3、給気制御部4、濃度取得部5、濃度比較部6、気流制御部7、照度取得部8、露光量算出部9、露光量比較部10および投光制御部11を含む。
図9〜図12は、露光装置100の動作を説明するための模式図である。図9〜図12においては、処理室120内およびハウジング161内の構成の理解を容易にするために、一部の構成要素の図示が省略されるとともに、処理室120およびハウジング161の輪郭が一点鎖線で示される。図13および図14は、図8の制御部110により行われる露光処理の一例を示すフローチャートである。以下、図9〜図12を参照しながら制御部110による露光処理を説明する。
図15は、図1の露光装置100を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。以下に説明する基板処理装置200においては、ブロック共重合体の誘導自己組織化(DSA)を利用した処理が行われる。具体的には、基板Wの被処理面上に誘導自己組織化材料を含む処理液が塗布される。その後、誘導自己組織化材料に生じるミクロ相分離により基板Wの被処理面上に2種類の重合体のパターンが形成される。2種類の重合体のうち一方のパターンが溶剤により除去される。
本発明に係る露光装置100においては、処理室120の上部開口121に取り付けられた透光板162を通して、光源部163により処理室120内に収容された基板Wに真空紫外線が照射される。また、噴出部191および排気部192により透光板162の一面に沿った不活性ガスの流れが層流として形成される。
(a)上記実施の形態において、噴出管191aに一方向に沿って並ぶ複数の噴出孔191hが形成されるが、本発明はこれに限定されない。図17は、他の実施の形態における噴出管191aの構成を示す側面図である。図17に示すように、他の実施の形態においては、図6(a)の複数の噴出孔191hに代えて、一方向に沿って延びるスリット191tが噴出管191aに形成される。この場合においても、スリット191tを通して噴出管191aの内部と外部とが連通する。これにより、スリット191tから断面帯状の不活性ガスを噴出することができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
Claims (16)
- 開口を有し、基板を収容する処理室と、
前記処理室の前記開口に取り付けられた透光性の窓部材と、
前記窓部材を通して前記処理室内の基板に真空紫外線を照射する光源部と、
前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成する気流形成部とを備える、露光装置。 - 前記窓部材の前記一面は、前記処理室の内部空間に面し、
前記気流形成部は、前記処理室内において前記窓部材の前記一面に沿った不活性ガスの流れを形成する、請求項1記載の露光装置。 - 前記気流形成部は、
前記処理室内に前記窓部材の前記一面に沿うように不活性ガスを噴出する噴出部と、
前記処理室内の不活性ガスを排出する排気部とを含む、請求項2記載の露光装置。 - 前記噴出部は、前記窓部材の一面に平行に延びかつ不活性ガスを噴出する噴出口を有する噴出管を含む、請求項3記載の露光装置。
- 前記噴出部は、前記噴出管の外周を囲むように設けられる保持部材をさらに含み、
前記保持部材は、前記窓部材の一面に平行に延びる第1のスリットを有し、前記噴出管の前記噴出口から噴出される不活性ガスが前記保持部材の前記第1のスリットを通して前記窓部材の前記一面に沿って噴出される、請求項4記載の露光装置。 - 前記噴出管は、前記噴出口として前記窓部材の前記一面に平行に並びかつ不活性ガスを噴出する複数の噴出孔を有する、請求項4または5記載の露光装置。
- 前記噴出管は、前記噴出口として前記窓部材の前記一面に平行に延びかつ不活性ガスを噴出する第2のスリットを有する、請求項4または5記載の露光装置。
- 前記噴出部と前記排気部とは、前記窓部材の前記一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置される、請求項3〜7のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記噴出部は、前記窓部材の前記一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置される第1および第2の噴出部を含み、
前記排気部は、前記第1および第2の噴出部に重ならないように配置される、請求項3〜7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記気流形成部は、前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの層流を形成する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光源部は、面状の断面を有する真空紫外線を出射するように構成される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光源部による真空紫外線の出射面積は、基板の面積よりも大きい、請求項11記載の露光装置。
- 基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光する請求項1〜12のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える、基板処理装置。 - 処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項13記載の基板処理装置。
- 処理室の開口に取り付けられた透光性の窓部材を通して、光源部により前記処理室内に収容された基板に真空紫外線を照射するステップと、
気流形成部により前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成するステップとを含む、露光方法。 - 塗布処理部により基板の被処理面に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光装置により露光する請求項15記載の露光方法と、
前記露光装置により露光された基板の被処理面に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む、基板処理方法。
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