JP6845058B2 - 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施の形態に係る露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板またはフォトマスク用基板等をいう。
露光装置100においては、透光板162を通して光源部163から基板Wに真空紫外線が照射されることにより露光処理が行われる。しかしながら、処理室120内の酸素濃度が高い場合、酸素分子が真空紫外線を吸収して酸素原子に分離するとともに、分離した酸素原子が他の酸素分子と再結合することによりオゾンが発生する。この場合、基板Wに到達する真空紫外線が減衰する。真空紫外線の減衰は、約230nmよりも長い波長の紫外線の減衰に比べて大きい。
図8は、図1の制御部110の構成を示す機能ブロック図である。図8に示すように、制御部110は、閉塞制御部1、昇降制御部2、排気制御部3、給気制御部4、濃度取得部5、濃度比較部6、気流制御部7、照度取得部8、露光量算出部9、露光量比較部10および投光制御部11を含む。
図9〜図12は、露光装置100の動作を説明するための模式図である。図9〜図12においては、処理室120内およびハウジング161内の構成の理解を容易にするために、一部の構成要素の図示が省略されるとともに、処理室120およびハウジング161の輪郭が一点鎖線で示される。図13および図14は、図8の制御部110により行われる露光処理の一例を示すフローチャートである。以下、図9〜図12を参照しながら制御部110による露光処理を説明する。
図15は、図1の露光装置100を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。以下に説明する基板処理装置200においては、ブロック共重合体の誘導自己組織化(DSA)を利用した処理が行われる。具体的には、基板Wの被処理面上に誘導自己組織化材料を含む処理液が塗布される。その後、誘導自己組織化材料に生じるミクロ相分離により基板Wの被処理面上に2種類の重合体のパターンが形成される。2種類の重合体のうち一方のパターンが溶剤により除去される。
本発明に係る露光装置100においては、処理室120の上部開口121に取り付けられた透光板162を通して、光源部163により処理室120内に収容された基板Wに真空紫外線が照射される。また、噴出部191および排気部192により透光板162の一面に沿った不活性ガスの流れが層流として形成される。
(a)上記実施の形態において、噴出管191aに一方向に沿って並ぶ複数の噴出孔191hが形成されるが、本発明はこれに限定されない。図17は、他の実施の形態における噴出管191aの構成を示す側面図である。図17に示すように、他の実施の形態においては、図6(a)の複数の噴出孔191hに代えて、一方向に沿って延びるスリット191tが噴出管191aに形成される。この場合においても、スリット191tを通して噴出管191aの内部と外部とが連通する。これにより、スリット191tから断面帯状の不活性ガスを噴出することができる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(9)参考形態
(9−1)第1の参考形態に係る露光装置は、開口を有し、基板を収容する処理室と、処理室の開口に取り付けられた透光性の窓部材と、窓部材を通して処理室内の基板に真空紫外線を照射する光源部と、窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成する気流形成部とを備える。
この露光装置においては、処理室の開口に取り付けられた透光性の窓部材を通して、光源部により処理室内に収容された基板に真空紫外線が照射される。また、気流形成部により窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れが形成される。
この構成によれば、長時間にわたって真空紫外線が窓部材に照射される場合でも、窓部材に発生する熱が不活性ガスの流れにより放散される。また、不活性ガスは、基板に照射される真空紫外線をほとんど吸収しない。そのため、基板の露光効率を低下させることなく窓部材の温度が上昇することを防止することができる。これにより、窓部材を透過して基板に照射される真空紫外線の照度が低下することを防止することができる。また、窓部材の温度上昇による昇華物の生成が防止される。その結果、露光処理の精度および効率を維持することができる。
(9−2)窓部材の一面は、処理室の内部空間に面し、気流形成部は、処理室内において窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成してもよい。この場合、処理室の内部空間に接する窓部材の面の温度上昇が防止されるので、処理室内で昇華物が生成されることが防止される。それにより、昇華物の付着による窓部材の透過率の低下が防止されるとともに、処理室内の汚染が防止される。
(9−3)気流形成部は、処理室内に窓部材の一面に沿うように不活性ガスを噴出する噴出部と、処理室内の不活性ガスを排出する排気部とを含んでもよい。この場合、噴出部から噴出される不活性ガスが排気部により排出されることにより、処理室内において不活性ガスの流れをより容易に形成することができる。また、窓部材からの熱を含む不活性ガスが処理室の外部に排出されるので、窓部材の温度上昇が効率的に防止される。
(9−4)噴出部は、窓部材の一面に平行に延びかつ不活性ガスを噴出する噴出口を有する噴出管を含んでもよい。この場合、窓部材の一面の全体に沿った不活性ガスの流れを容易に形成することができる。
(9−5)噴出部は、噴出管の外周を囲むように設けられる保持部材をさらに含み、保持部材は、窓部材の一面に平行に延びる第1のスリットを有し、噴出管の噴出口から噴出される不活性ガスが保持部材の第1のスリットを通して窓部材の一面に沿って噴出されてもよい。この場合、窓部材の一面に平行に延びる噴出管を不活性ガスの流れを妨げることなく容易に保持することができる。
(9−6)噴出管は、噴出口として窓部材の一面に平行に並びかつ不活性ガスを噴出する複数の噴出孔を有してもよい。この場合、噴出管は、複数の噴出孔から窓部材の一面に平行に延びる断面帯状の不活性ガスを噴出することができる。
(9−7)噴出管は、噴出口として窓部材の一面に平行に延びかつ不活性ガスを噴出する第2のスリットを有してもよい。この場合、噴出管は、窓部材の一面に平行に延びる断面帯状の不活性ガスを噴出することができる。
(9−8)噴出部と排気部とは、窓部材の一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置されてもよい。この場合、噴出部から噴出される不活性ガスが窓部材の一面に沿って窓部材の全体を通過した後、排気部により排出される。これにより、窓部材の一面の全体に沿った不活性ガスの流れを容易にかつ効率よく形成することができる。
(9−9)噴出部は、窓部材の一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置される第1および第2の噴出部を含み、排気部は、第1および第2の噴出部に重ならないように配置されてもよい。この構成によれば、窓部材が大型である場合でも、互いに対抗する第1および第2の噴出部により窓部材の一面の全体に沿った不活性ガスの流れを形成することができる。そのため、より大きい寸法を有する基板の露光処理の精度および効率を容易に維持することができる。
(9−10)気流形成部は、窓部材の一面に沿った不活性ガスの層流を形成してもよい。この場合、窓部材の一面に沿った不活性ガスの層流により窓部材に発生する熱を放散することができる。
(9−11)光源部は、面状の断面を有する真空紫外線を出射するように構成されてもよい。この場合、窓部材を通して広範囲に真空紫外線が出射される。そのため、基板の露光処理を短時間で終了することができる。また、窓部材の全体から発生する熱が不活性ガスの流れにより放散されるので、窓部材の広範囲に真空紫外線が照射される場合でも、窓部材の温度が上昇することが防止される。これにより、露光処理の精度を維持しつつ効率を向上させることができる。
(9−12)光源部による真空紫外線の出射面積は、基板の面積よりも大きくてもよい。この場合、基板の全面露光を行うことができるので、基板の露光をより短時間で終了することができる。これにより、露光処理の効率をより向上させることができる。
(9−13)第2の参考形態に係る基板処理装置は、基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、熱処理部により熱処理された基板を露光する第1の参考形態に係る露光装置と、露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える。
この基板処理装置においては、塗布処理部により基板に処理液が塗布されることにより基板に膜が形成される。塗布処理部により膜が形成された基板が熱処理部により熱処理される。熱処理部により熱処理された基板が上記の露光装置により露光される。露光装置により露光された基板に現像処理部により溶剤が供給されることにより基板の膜が現像される。
露光装置においては、窓部材に発生する熱が不活性ガスの流れにより放散される。そのため、基板の露光効率を低下させることなく窓部材の温度が上昇することを防止することができる。これにより、窓部材を透過して基板に照射される真空紫外線の照度が低下することを防止することができる。また、窓部材の温度上昇による昇華物の生成が防止される。その結果、露光処理の精度および効率を維持することができる。
(9−14)処理液は、誘導自己組織化材料を含んでもよい。この場合、誘導自己組織化材料を含む処理液が塗布された基板が熱処理されることにより、基板の一面上でミクロ相分離が生じる。また、ミクロ相分離により2種類の重合体のパターンが形成された基板が露光および現像される。これにより、2種類の重合体のうちの一方が除去され、微細化されたパターンを形成することができる。
(9−15)第3の参考形態に係る露光方法は、処理室の開口に取り付けられた透光性の窓部材を通して、光源部により処理室内に収容された基板に真空紫外線を照射するステップと、気流形成部により窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成するステップとを含む。
この露光方法によれば、窓部材に発生する熱が不活性ガスの流れにより放散される。そのため、基板の露光効率を低下させることなく窓部材の温度が上昇することを防止することができる。これにより、窓部材を透過して基板に照射される真空紫外線の照度が低下することを防止することができる。また、窓部材の温度上昇による昇華物の生成が防止される。その結果、露光処理の精度および効率を維持することができる。
(9−16)第4の参考形態に係る基板処理方法は、塗布処理部により基板の被処理面に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、熱処理部により熱処理された基板を露光装置により露光する第3の参考形態に係る露光方法と、露光装置により露光された基板の被処理面に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む。
この基板処理方法によれば、膜の形成後でかつ現像前の基板が真空紫外線により露光される。露光方法においては、窓部材に発生する熱が不活性ガスの流れにより放散される。そのため、基板の露光効率を低下させることなく窓部材の温度が上昇することを防止することができる。これにより、窓部材を透過して基板に照射される真空紫外線の照度が低下することを防止することができる。また、窓部材の温度上昇による昇華物の生成が防止される。その結果、露光処理の精度および効率を維持することができる。
Claims (15)
- 開口を有し、基板を収容する処理室と、
前記処理室の前記開口に取り付けられた透光性の窓部材と、
前記処理室の上方に配置され、前記窓部材を通して下方の前記処理室内の基板に真空紫外線を照射する光源部と、
前記処理室内において、基板の搬入または基板の搬出の際に基板が第1の位置にあり、前記光源部による基板への真空紫外線の照射の際に基板が前記第1の位置よりも上方の第2の位置にあるように基板を前記第1の位置と前記第2の位置とで昇降させる昇降部と、
上方に移動した基板と前記窓部材とにより形成された空間に、前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成する気流形成部とを備え、
前記気流形成部は、不活性ガスを前記窓部材の一面に平行な方向に噴出する噴出口が形成された噴出管を有する噴出部を含み、
前記噴出口は、前記窓部材の一面に平行に延びるように連続的にまたは断続的に形成された、露光装置。 - 前記窓部材の前記一面は、前記処理室の内部空間に面し、
前記気流形成部は、前記処理室内において前記窓部材の前記一面に沿った不活性ガスの流れを形成する、請求項1記載の露光装置。 - 前記噴出部は、前記処理室内に前記窓部材の前記一面に沿うように不活性ガスを噴出し、
前記気流形成部は、前記処理室内の不活性ガスを排出する排気部をさらに含む、請求項2記載の露光装置。 - 前記噴出部は、前記噴出管の外周を囲むように設けられる保持部材をさらに含み、
前記保持部材は、前記窓部材の一面に平行に延びる第1のスリットを有し、前記噴出管の前記噴出口から噴出される不活性ガスが前記保持部材の前記第1のスリットを通して前記窓部材の前記一面に沿って噴出される、請求項3記載の露光装置。 - 前記噴出管は、前記噴出口として前記窓部材の前記一面に平行に並びかつ不活性ガスを噴出する複数の噴出孔を有する、請求項3または4記載の露光装置。
- 前記噴出管は、前記噴出口として前記窓部材の前記一面に平行に延びかつ不活性ガスを噴出する第2のスリットを有する、請求項3または4記載の露光装置。
- 前記噴出部と前記排気部とは、前記窓部材の前記一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置される、請求項3〜6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記噴出部は、前記窓部材の前記一面に接する空間を挟んで互いに対向するように配置される第1および第2の噴出部を含み、
前記排気部は、前記第1および第2の噴出部に重ならないように配置される、請求項3〜6のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記気流形成部は、前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの層流を形成する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光源部は、面状の断面を有する真空紫外線を出射するように構成される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光源部による真空紫外線の出射面積は、基板の面積よりも大きい、請求項10記載の露光装置。
- 基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光する請求項1〜11のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える、基板処理装置。 - 処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項12記載の基板処理装置。
- 処理室内へ基板を搬入し、第1の位置に載置するステップと、
基板を前記第1の位置から上方の第2の位置に移動させるステップと、
前記処理室の開口に取り付けられた透光性の窓部材を通して、前記処理室の上方に配置された光源部により下方の前記処理室内の前記第2の位置に載置された基板に真空紫外線を照射するステップと、
前記窓部材の一面に平行に延びるように気流形成部の噴出部の噴出管に連続的にまたは断続的に形成された噴出口から不活性ガスを前記窓部材の一面に平行な方向に噴出することにより、上方に移動した基板と前記窓部材とにより形成された空間に、前記窓部材の一面に沿った不活性ガスの流れを形成するステップと、
基板を前記第2の位置から前記第1の位置に移動させるステップと、
前記第1に載置された基板を前記処理室から搬出するステップとを含む、露光方法。 - 塗布処理部により基板の被処理面に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光装置により露光する請求項14記載の露光方法と、
前記露光装置により露光された基板の被処理面に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む、基板処理方法。
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