JP2947018B2 - パターン露光方法及び露光装置 - Google Patents
パターン露光方法及び露光装置Info
- Publication number
- JP2947018B2 JP2947018B2 JP23967893A JP23967893A JP2947018B2 JP 2947018 B2 JP2947018 B2 JP 2947018B2 JP 23967893 A JP23967893 A JP 23967893A JP 23967893 A JP23967893 A JP 23967893A JP 2947018 B2 JP2947018 B2 JP 2947018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inert gas
- work
- optical mask
- pattern exposure
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置に
使用されるカラーフィルター等のパターンを形成するた
めのパターン露光方法及び露光装置に関する。
使用されるカラーフィルター等のパターンを形成するた
めのパターン露光方法及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、光重合型感光材を露光するに
際し、酸素による光重合反応阻害を防止する目的で、露
光前に該感光材を予めポリビニルアルコール、ポバール
等の透光性の樹脂膜で被覆する樹脂膜被覆方式か、又は
不活性ガス、具体的には窒素ガスを該感光材周囲に充満
させて、空気中の酸素を窒素Ｎ2 で置換する不活性ガス
置換方式によって酸素を遮断して露光する露光方法が採
用されている。
際し、酸素による光重合反応阻害を防止する目的で、露
光前に該感光材を予めポリビニルアルコール、ポバール
等の透光性の樹脂膜で被覆する樹脂膜被覆方式か、又は
不活性ガス、具体的には窒素ガスを該感光材周囲に充満
させて、空気中の酸素を窒素Ｎ2 で置換する不活性ガス
置換方式によって酸素を遮断して露光する露光方法が採
用されている。
【０００３】上記のような樹脂膜被覆方式は確実な方法
ではあるが、樹脂塗布、乾燥工程等を必要とし、その工
程に掛かる時間が長くなる欠点を有しており、それに比
較して不活性ガス置換方式は、比較的に簡潔な操作で行
なうことができる。
ではあるが、樹脂塗布、乾燥工程等を必要とし、その工
程に掛かる時間が長くなる欠点を有しており、それに比
較して不活性ガス置換方式は、比較的に簡潔な操作で行
なうことができる。
【０００４】図８、図９は、従来のプロキシミティー
（近接）露光方式におけるパターン露光に使用される露
光ステーションの概要側断面図と平面図であり、従来の
上記不活性ガス置換方式による酸素遮断操作の場合は、
図８、マスク装着フレーム１２に水平に装着固定された
マスク１と、該マスク１に対して平行に下側に離間対向
してワークステージ１５上に位置決め載置されたワーク
４との対向間隙に、外側より窒素ガスを噴出して窒素ガ
スを注入することによって置換するものであり、比較的
簡潔な操作で行なうことができるものであるが、マスク
１とワーク４の界面に存在する空気中の酸素を短時間で
均一に窒素Ｎ2 に置換することがなかなか困難である。
（近接）露光方式におけるパターン露光に使用される露
光ステーションの概要側断面図と平面図であり、従来の
上記不活性ガス置換方式による酸素遮断操作の場合は、
図８、マスク装着フレーム１２に水平に装着固定された
マスク１と、該マスク１に対して平行に下側に離間対向
してワークステージ１５上に位置決め載置されたワーク
４との対向間隙に、外側より窒素ガスを噴出して窒素ガ
スを注入することによって置換するものであり、比較的
簡潔な操作で行なうことができるものであるが、マスク
１とワーク４の界面に存在する空気中の酸素を短時間で
均一に窒素Ｎ2 に置換することがなかなか困難である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のような不活性ガ
スによる置換、具体的には窒素ガス置換による酸素遮断
方式においては、図８に示すように、マスク１と、それ
に平行に離間対向するワーク４との間の側方に設置され
たノズル１３から窒素ガスＮ2 を噴出させ、噴出した窒
素ガスＮ2 は、その周辺の空気を巻き込みながら、マス
ク１とワーク４との間隙に流れ込む。
スによる置換、具体的には窒素ガス置換による酸素遮断
方式においては、図８に示すように、マスク１と、それ
に平行に離間対向するワーク４との間の側方に設置され
たノズル１３から窒素ガスＮ2 を噴出させ、噴出した窒
素ガスＮ2 は、その周辺の空気を巻き込みながら、マス
ク１とワーク４との間隙に流れ込む。
【０００６】この場合、マスク１とワーク４との離間対
向相当部分の領域サイズは、例えば３００ｍｍ×３００
ｍｍ〜５００ｍｍ×５００ｍｍであり、それに対してそ
のマスク１とワーク４との間の近接間隔は、数ｍｍ〜十
数ｍｍと狭いため、マスク１とワーク４との対向間隙内
に流れ込む窒素ガスＮ2 の流れが悪く、したがってマス
ク１とワーク４のそれぞれ界面に吸着している酸素やそ
の周囲の酸素を精度よく窒素Ｎ2 に置換するためには、
マスク１とワーク４との対向間隙内の窒素ガスＮ2 の流
れを良くして、マスク１とワーク４との対向間隙内にノ
ズル１３によって噴出供給する窒素供給量の分布をなる
べく短時間で均一にすることが必要であり、短時間で効
率良く均一に置換操作する技術として本願出願人は先に
特願平５−７２０７２号を出願している。
向相当部分の領域サイズは、例えば３００ｍｍ×３００
ｍｍ〜５００ｍｍ×５００ｍｍであり、それに対してそ
のマスク１とワーク４との間の近接間隔は、数ｍｍ〜十
数ｍｍと狭いため、マスク１とワーク４との対向間隙内
に流れ込む窒素ガスＮ2 の流れが悪く、したがってマス
ク１とワーク４のそれぞれ界面に吸着している酸素やそ
の周囲の酸素を精度よく窒素Ｎ2 に置換するためには、
マスク１とワーク４との対向間隙内の窒素ガスＮ2 の流
れを良くして、マスク１とワーク４との対向間隙内にノ
ズル１３によって噴出供給する窒素供給量の分布をなる
べく短時間で均一にすることが必要であり、短時間で効
率良く均一に置換操作する技術として本願出願人は先に
特願平５−７２０７２号を出願している。
【０００７】本発明は、プロキシミティー（近接）露光
方式におけるパターン露光において不活性ガス置換方式
により酸素の遮断操作を行なう際に、マスク及びワーク
の界面、若しくは界面直近に存在する酸素をできるだけ
迅速に、且つ効率良く均一な分布状態の不活性ガスに置
換できるようにすることにある。
方式におけるパターン露光において不活性ガス置換方式
により酸素の遮断操作を行なう際に、マスク及びワーク
の界面、若しくは界面直近に存在する酸素をできるだけ
迅速に、且つ効率良く均一な分布状態の不活性ガスに置
換できるようにすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は、
パターン露光用の光学マスクとワークとを互いに平行に
対向させ、該光学マスクとワークとの離間対向間隙の外
側より間隙内にエアーノズルから不活性ガスを噴出させ
て光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処
理した後、該光学マスクをワークの感光材面に近接乃至
接触させて露光する露光方法において、エアーノズルか
らの不活性ガス噴出量分布又は／及び不活性ガス噴射角
度を適宜調整して光学マスクとワークとの離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の２次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光することを
特徴とするパターン露光方法である。
パターン露光用の光学マスクとワークとを互いに平行に
対向させ、該光学マスクとワークとの離間対向間隙の外
側より間隙内にエアーノズルから不活性ガスを噴出させ
て光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処
理した後、該光学マスクをワークの感光材面に近接乃至
接触させて露光する露光方法において、エアーノズルか
らの不活性ガス噴出量分布又は／及び不活性ガス噴射角
度を適宜調整して光学マスクとワークとの離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の２次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光することを
特徴とするパターン露光方法である。
【０００９】また、本発明の第２の発明は、露光用光源
を備え、且つパターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に離間乃至近接若しくは接触対向動作させる
それぞれマスクフレーム及びワークステージと、該光学
マスクとワークとの離間対向間隙の外側に不活性ガス噴
出用のエアーノズルを備えたパターン露光装置におい
て、エアーノズルは、その不活性ガス噴射角度と不活性
ガス噴出量分布のいずれか一方又は両方を適宜調整可能
であることを特徴とするパターン露光装置である。
を備え、且つパターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に離間乃至近接若しくは接触対向動作させる
それぞれマスクフレーム及びワークステージと、該光学
マスクとワークとの離間対向間隙の外側に不活性ガス噴
出用のエアーノズルを備えたパターン露光装置におい
て、エアーノズルは、その不活性ガス噴射角度と不活性
ガス噴出量分布のいずれか一方又は両方を適宜調整可能
であることを特徴とするパターン露光装置である。
【００１０】また、本発明の第３の発明は、上記パター
ン露光装置において、平行に離間乃至近接若しくは接触
対向する光学マスクとワークとの外側周囲に２個乃至４
個以上の酸素濃度計を備え、エアーノズルの不活性ガス
噴射角度を調整するエアーノズル噴射角度回転手段と、
エアーノズルの不活性ガス噴出量分布を調整する不活性
ガス噴出量分布調整手段のいずれか一方若しくは両方を
備え、前記酸素濃度計による濃度検出信号に基づいて前
記エアーノズル噴射角度回転手段又は／及び不活性ガス
噴出量分布調整手段を動作して不活性ガス噴射角度又は
／及び不活性ガス噴出量分布を調整するようにしたこと
を特徴とするパターン露光装置である。
ン露光装置において、平行に離間乃至近接若しくは接触
対向する光学マスクとワークとの外側周囲に２個乃至４
個以上の酸素濃度計を備え、エアーノズルの不活性ガス
噴射角度を調整するエアーノズル噴射角度回転手段と、
エアーノズルの不活性ガス噴出量分布を調整する不活性
ガス噴出量分布調整手段のいずれか一方若しくは両方を
備え、前記酸素濃度計による濃度検出信号に基づいて前
記エアーノズル噴射角度回転手段又は／及び不活性ガス
噴出量分布調整手段を動作して不活性ガス噴射角度又は
／及び不活性ガス噴出量分布を調整するようにしたこと
を特徴とするパターン露光装置である。
【００１１】
【実施例】本発明における第１の発明の露光方法を、実
施例に従って以下に詳細に説明すれば、図１は本発明の
不活性ガス置換方式による酸素遮断操作を行なって光学
マスクからワークに対してパターン露光する場合におけ
る本発明方法の一実施例におけるパターン露光方法を示
す側断面図である。
施例に従って以下に詳細に説明すれば、図１は本発明の
不活性ガス置換方式による酸素遮断操作を行なって光学
マスクからワークに対してパターン露光する場合におけ
る本発明方法の一実施例におけるパターン露光方法を示
す側断面図である。
【００１２】エアーノズル３を適宜回転させて、そのエ
アー噴出口３ａの回転方向（図１のエアーノズル３近傍
に記した矢印方向）における位相を適宜角度に設定し
て、光学マスク１とワーク４との離間対向間隙内に噴出
させる不活性ガスＮ2 （噴出エアーａ）の噴射角度（光
学マスク面に対する噴射角度、若しくはワーク面に対す
る噴射角度）を調整した後に、不活性ガスＮ2 を適宜時
間（例えば数秒間〜数分間）噴出させてパターン露光を
行なう方法である。
アー噴出口３ａの回転方向（図１のエアーノズル３近傍
に記した矢印方向）における位相を適宜角度に設定し
て、光学マスク１とワーク４との離間対向間隙内に噴出
させる不活性ガスＮ2 （噴出エアーａ）の噴射角度（光
学マスク面に対する噴射角度、若しくはワーク面に対す
る噴射角度）を調整した後に、不活性ガスＮ2 を適宜時
間（例えば数秒間〜数分間）噴出させてパターン露光を
行なう方法である。
【００１３】図１において、マスクフレーム２に装着さ
れた光学マスク（光学的マスク）１と、それに平行に離
間対向するワーク４（例えばガラス基板上に光重合硬化
型感光材を塗布したもの）との対向間隙の左右外側近傍
に、それぞれ１本ずつ２本一対の窒素ガスＮ2 噴出用の
エアーノズル３（例えば中空バー状のもの）を設け、該
エアーノズル３のワーク４と対向する一方の部位に窒素
ガスＮ2 を噴出させる小孔状又は細いスリット状のエア
ー噴出口３ａを設ける。
れた光学マスク（光学的マスク）１と、それに平行に離
間対向するワーク４（例えばガラス基板上に光重合硬化
型感光材を塗布したもの）との対向間隙の左右外側近傍
に、それぞれ１本ずつ２本一対の窒素ガスＮ2 噴出用の
エアーノズル３（例えば中空バー状のもの）を設け、該
エアーノズル３のワーク４と対向する一方の部位に窒素
ガスＮ2 を噴出させる小孔状又は細いスリット状のエア
ー噴出口３ａを設ける。
【００１４】図２は図１の概要平面図であり、窒素ガス
Ｎ2 の噴出量（噴出エアーａの噴出量）は中央部で多い
ことが好ましく、エアー噴出口３ａの小孔の口径又はス
リット幅は、中央部から外側にかけて順次細くすること
が好ましいが、本発明においてはこれに限定するもので
はない。
Ｎ2 の噴出量（噴出エアーａの噴出量）は中央部で多い
ことが好ましく、エアー噴出口３ａの小孔の口径又はス
リット幅は、中央部から外側にかけて順次細くすること
が好ましいが、本発明においてはこれに限定するもので
はない。
【００１５】該エアー噴出口３ａからのエアー噴出量
は、該噴出口３ａの小孔の口径、又はスリット幅を適宜
調整することによって可能であり、例えば、エアーノズ
ル３（中空パイプ本体）の周壁部に貫設した螺子孔部
に、各種口径又はスリット幅の小孔又はスリットを貫設
したノズルアタッチメント３ｂを取付け取外し可能に螺
着してエアー噴出口３ａを形成し、このノズルアタッチ
メント３ｂを適宜交換することによってエアー噴出口３
ａの口径又はスリット幅を調整するようにしてもよい
し、あるいはエアー噴出口３ａの内側に適宜マニュアル
にて若しくは自動的に調整可能な噴出量調整バルブを内
装することによって可能である。
は、該噴出口３ａの小孔の口径、又はスリット幅を適宜
調整することによって可能であり、例えば、エアーノズ
ル３（中空パイプ本体）の周壁部に貫設した螺子孔部
に、各種口径又はスリット幅の小孔又はスリットを貫設
したノズルアタッチメント３ｂを取付け取外し可能に螺
着してエアー噴出口３ａを形成し、このノズルアタッチ
メント３ｂを適宜交換することによってエアー噴出口３
ａの口径又はスリット幅を調整するようにしてもよい
し、あるいはエアー噴出口３ａの内側に適宜マニュアル
にて若しくは自動的に調整可能な噴出量調整バルブを内
装することによって可能である。
【００１６】例えば、一実施例において、カラーフィル
ター製造等に使用される光学マスク１は、通常４５０ｍ
ｍ×４５０ｍｍ以上のサイズであり、上記エアーノズル
３を使用する際におけるマスク１とワーク４との対向間
隙は２０ｍｍ以下、好ましくは１０ｍｍ以下である。
ター製造等に使用される光学マスク１は、通常４５０ｍ
ｍ×４５０ｍｍ以上のサイズであり、上記エアーノズル
３を使用する際におけるマスク１とワーク４との対向間
隙は２０ｍｍ以下、好ましくは１０ｍｍ以下である。
【００１７】窒素ガスＮ2 噴出用のエアーノズル３の断
面形状は何ら制限は無いが、外径は極力小さいことが好
ましく、例えば１０ｍｍ未満が好ましいがこれに限定さ
れるものではない。
面形状は何ら制限は無いが、外径は極力小さいことが好
ましく、例えば１０ｍｍ未満が好ましいがこれに限定さ
れるものではない。
【００１８】次に、エアーノズル３からの窒素ガスＮ2
の噴出工程から露光工程までを、図１、図２、図３（側
断面図）に従って以下に順を追って説明する。
の噴出工程から露光工程までを、図１、図２、図３（側
断面図）に従って以下に順を追って説明する。
【００１９】図１において、光学マスク（光学的マス
ク）１と、それに平行に離間対向するワーク４（例えば
ガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布したもの）と
の対向間隙の外側近傍に設置されている１対のエアーノ
ズル３，３のそれぞれエアー噴出口３ａ（ノズルアタッ
チメント３ｂ）より、ガス噴出流速を高速にして窒素ガ
スＮ2 （噴出エアーａ）を、適宜噴射角度にて（例えば
光学マスク１とワーク４とに対して平行方向、若しくは
光学マスク１又は／及びワーク４に向けて）噴出させ
る。なお、エアーノズル３の移動速度は、例えば１００
ｍｍ／秒〜２００ｍｍ／秒が適当であり、移動を終了す
るまでの窒素ガスＮ2 の噴出時間は、およそ３秒程度で
ある。
ク）１と、それに平行に離間対向するワーク４（例えば
ガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布したもの）と
の対向間隙の外側近傍に設置されている１対のエアーノ
ズル３，３のそれぞれエアー噴出口３ａ（ノズルアタッ
チメント３ｂ）より、ガス噴出流速を高速にして窒素ガ
スＮ2 （噴出エアーａ）を、適宜噴射角度にて（例えば
光学マスク１とワーク４とに対して平行方向、若しくは
光学マスク１又は／及びワーク４に向けて）噴出させ
る。なお、エアーノズル３の移動速度は、例えば１００
ｍｍ／秒〜２００ｍｍ／秒が適当であり、移動を終了す
るまでの窒素ガスＮ2 の噴出時間は、およそ３秒程度で
ある。
【００２０】続いて、エアー噴出を停止した後に、ある
いはエアー噴出を継続した状態で、図３に示すように、
直ちに光学マスク１とワーク４とを接近させてプロキシ
ミティー（近接）状態にして、適宜アライメント工程に
よって光学マスク１とワーク４との互いの対向面内での
相対的位置決め（露光のための見当整合）を素早く行っ
た後に、直ちに紫外線露光、若しくは電子線露光する。
いはエアー噴出を継続した状態で、図３に示すように、
直ちに光学マスク１とワーク４とを接近させてプロキシ
ミティー（近接）状態にして、適宜アライメント工程に
よって光学マスク１とワーク４との互いの対向面内での
相対的位置決め（露光のための見当整合）を素早く行っ
た後に、直ちに紫外線露光、若しくは電子線露光する。
【００２１】なお、プロキシミティー状態にした後のマ
スク１とワーク４との対向間隙は、例えば０．１ｍｍ以
下であり、この近接間隙を保持した状態における露光工
程に要する数秒間では、その光学マスク１とワーク４と
の近接対向間隙内に外気の流れはほとんどみられないも
のである。
スク１とワーク４との対向間隙は、例えば０．１ｍｍ以
下であり、この近接間隙を保持した状態における露光工
程に要する数秒間では、その光学マスク１とワーク４と
の近接対向間隙内に外気の流れはほとんどみられないも
のである。
【００２２】露光が終了した後は、マスク１とワーク４
とを互いに離反させて、元の平行な離間対向状態（図１
参照）に戻す。なお、ワークステージ５上のワーク４
は、適宜次工程に搬送される。
とを互いに離反させて、元の平行な離間対向状態（図１
参照）に戻す。なお、ワークステージ５上のワーク４
は、適宜次工程に搬送される。
【００２３】なお、エアーノズル３は、ワーク４がワー
クステージ５上に搬入される以前にも適宜窒素ガスＮ2
を噴出させることは可能である。
クステージ５上に搬入される以前にも適宜窒素ガスＮ2
を噴出させることは可能である。
【００２４】上記第１の発明のパターン露光方法におけ
る他の実施例としては、図１に示す光学マスク１とワー
ク４との離間対向間隙の外側に、検出センサー先端部を
備えた酸素濃度計６を設け、不活性ガスＮ2 を噴出させ
ながら、光学マスク１とワーク４との離間対向間隙近傍
の酸素濃度を検出して、その検出信号（又は検出濃度
値）に基づいて、エアーノズル３からの不活性ガスの噴
出量や噴射角度を適宜に調整するようにするものであ
る。
る他の実施例としては、図１に示す光学マスク１とワー
ク４との離間対向間隙の外側に、検出センサー先端部を
備えた酸素濃度計６を設け、不活性ガスＮ2 を噴出させ
ながら、光学マスク１とワーク４との離間対向間隙近傍
の酸素濃度を検出して、その検出信号（又は検出濃度
値）に基づいて、エアーノズル３からの不活性ガスの噴
出量や噴射角度を適宜に調整するようにするものであ
る。
【００２５】上記酸素濃度計６は、図１、図２、図３に
示すように、例えばワークステージ５の一部に切欠部５
ａを設け、該切欠部５ａ内に酸素濃度計６が嵌挿するよ
うに設置するか、あるいは図示しないがマスクフレーム
２側に支持して取付けるようにしてもよい。
示すように、例えばワークステージ５の一部に切欠部５
ａを設け、該切欠部５ａ内に酸素濃度計６が嵌挿するよ
うに設置するか、あるいは図示しないがマスクフレーム
２側に支持して取付けるようにしてもよい。
【００２６】次に、本発明における第２の発明の露光装
置を、実施例に従って以下に詳細に説明する。図４は、
本発明装置の一実施例の概要側断面図であり、マスクフ
レーム２と、それと平行に離間対向して、互いに相対的
に接近乃至は離反動作するするワークステージ５とを備
える。
置を、実施例に従って以下に詳細に説明する。図４は、
本発明装置の一実施例の概要側断面図であり、マスクフ
レーム２と、それと平行に離間対向して、互いに相対的
に接近乃至は離反動作するするワークステージ５とを備
える。
【００２７】該マスクフレーム２とワークステージ５の
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム２とワーク
ステージ５との両方に対して垂直方向の適宜ガイド（図
示せず）に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム２とワーク
ステージ５との両方に対して垂直方向の適宜ガイド（図
示せず）に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
【００２８】マスクフレーム２は、四角形状の露光用窓
部２ａを備え、該マスクフレーム２の下面にマスク１を
吸着固定するためのエアー吸着によるマスク装着手段２
０を備え、該マスク装着手段２０は、マスクフレーム２
の下面に孔設されたスリット状、長孔状、小孔状の複数
の吸着孔２１と、該吸着孔２１に連通するエアー通路２
２と、エアー吸引管２３とを備え、エアー吸引管２３よ
り適宜バキュームポンプ（図示せず）にてエアーを吸引
することによって吸着孔２１のバキューム力によってマ
スク１をマスクフレーム下面に吸着固定するものであ
る。なお、吸着孔２１の周囲には、適宜弾力性のあるゴ
ム製、プラスチック製のリング状のシール材（図示せ
ず）を設け、吸着孔２１とマスク面との間で吸引エアー
の洩れが生じないようにすることは可能である。
部２ａを備え、該マスクフレーム２の下面にマスク１を
吸着固定するためのエアー吸着によるマスク装着手段２
０を備え、該マスク装着手段２０は、マスクフレーム２
の下面に孔設されたスリット状、長孔状、小孔状の複数
の吸着孔２１と、該吸着孔２１に連通するエアー通路２
２と、エアー吸引管２３とを備え、エアー吸引管２３よ
り適宜バキュームポンプ（図示せず）にてエアーを吸引
することによって吸着孔２１のバキューム力によってマ
スク１をマスクフレーム下面に吸着固定するものであ
る。なお、吸着孔２１の周囲には、適宜弾力性のあるゴ
ム製、プラスチック製のリング状のシール材（図示せ
ず）を設け、吸着孔２１とマスク面との間で吸引エアー
の洩れが生じないようにすることは可能である。
【００２９】前記マスクフレーム２の露光用窓部２ａ上
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源、若しくは紫外線、電子線照射用の走査光源２
８を備える。
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源、若しくは紫外線、電子線照射用の走査光源２
８を備える。
【００３０】ワークステージ５は、その上面に平坦面を
備え、該平坦面には、ワーク４を吸着固定するためのエ
アー吸着手段１４を備え、該エアー吸着手段２４は、ワ
ークステージ５上面に孔設された複数の吸引孔２５と、
該吸引孔２５と連通するエアー流路２６と、エアー吸引
管２７とを備え、エアー吸引管２７よりエアーを吸引す
ることによって吸着孔２５のバキューム力によってワー
ク４をワークステージ５上に装着固定するものである。
備え、該平坦面には、ワーク４を吸着固定するためのエ
アー吸着手段１４を備え、該エアー吸着手段２４は、ワ
ークステージ５上面に孔設された複数の吸引孔２５と、
該吸引孔２５と連通するエアー流路２６と、エアー吸引
管２７とを備え、エアー吸引管２７よりエアーを吸引す
ることによって吸着孔２５のバキューム力によってワー
ク４をワークステージ５上に装着固定するものである。
【００３１】図５は本発明装置の他の実施例の概要側断
面図であり、マスクフレーム２と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ５とを備え、マスクフレーム２には、該マ
スクフレーム２の下面にマスク１を装着固定するための
メカニカルクランプによるマスク装着手段３０を備え
る。
面図であり、マスクフレーム２と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ５とを備え、マスクフレーム２には、該マ
スクフレーム２の下面にマスク１を装着固定するための
メカニカルクランプによるマスク装着手段３０を備え
る。
【００３２】該マスク装着手段３０は、マスクフレーム
２の下面と相対する平行なクランプ板３１と、該クラン
プ板３１を上下動作させる作動シャフト３２と、該シャ
フト３２を駆動動作させる駆動源３３を備える。
２の下面と相対する平行なクランプ板３１と、該クラン
プ板３１を上下動作させる作動シャフト３２と、該シャ
フト３２を駆動動作させる駆動源３３を備える。
【００３３】作動シャフト３２は、例えばエアーシリン
ダーの作動ロッドであり、前記クランプ板３１を該作動
シャフト３２に取付けることによって、クランプ板３１
を上下動作可能にして、マスクフレーム２下面とクラン
プ板３１との間にマスク１を挟み込んで装着固定するも
のである。
ダーの作動ロッドであり、前記クランプ板３１を該作動
シャフト３２に取付けることによって、クランプ板３１
を上下動作可能にして、マスクフレーム２下面とクラン
プ板３１との間にマスク１を挟み込んで装着固定するも
のである。
【００３４】また、例えば、前記作動シャフト３２は、
モーターにて駆動回転するネジシャフトであり前記クラ
ンプ板３１を該ネジシャフトに螺着し、マスクフレーム
２の一部に適宜垂直ガイド（図示せず）を設けることに
よって、ネジシャフトの正回転、逆回転によってクラン
プ板３１を上下動作させることができ、マスクフレーム
２下面とクランプ板３１との間にマスク１を挟み込んで
装着固定するようにしてもよい。
モーターにて駆動回転するネジシャフトであり前記クラ
ンプ板３１を該ネジシャフトに螺着し、マスクフレーム
２の一部に適宜垂直ガイド（図示せず）を設けることに
よって、ネジシャフトの正回転、逆回転によってクラン
プ板３１を上下動作させることができ、マスクフレーム
２下面とクランプ板３１との間にマスク１を挟み込んで
装着固定するようにしてもよい。
【００３５】次に、本発明装置の一実施例において、エ
アーノズル３のエアー噴出量分布を調整するためのエア
ー噴出量調整機構、及びエアー噴射角度を調整するため
の回転機構について以下に説明すれば、図６は２本１対
のエアーノズル３，３のうちの１本のエアーノズル３の
エアー噴出量調整機構を示す概要平面断面図、図７は１
本のエアーノズル３のエアー噴射角度を調整するための
回転機構を示す概要平面図である。
アーノズル３のエアー噴出量分布を調整するためのエア
ー噴出量調整機構、及びエアー噴射角度を調整するため
の回転機構について以下に説明すれば、図６は２本１対
のエアーノズル３，３のうちの１本のエアーノズル３の
エアー噴出量調整機構を示す概要平面断面図、図７は１
本のエアーノズル３のエアー噴射角度を調整するための
回転機構を示す概要平面図である。
【００３６】エアー噴出量調整機構は、図６に示すよう
に、エアーノズル３の一端部及び他端部は、ワークステ
ージ５を昇降可能に支持する装置本体フレームに一体に
支持されたブラケット（図示せず）に取付け支持されて
いる。
に、エアーノズル３の一端部及び他端部は、ワークステ
ージ５を昇降可能に支持する装置本体フレームに一体に
支持されたブラケット（図示せず）に取付け支持されて
いる。
【００３７】エアーノズル３の周壁部には、そのエアー
ノズル３の長手方向に沿って、等間隔等の適宜間隔に、
エアー噴出口３ａが貫設されたノズルアタッチメント３
ｂが螺着されている。
ノズル３の長手方向に沿って、等間隔等の適宜間隔に、
エアー噴出口３ａが貫設されたノズルアタッチメント３
ｂが螺着されている。
【００３８】該ノズルアタッチメント３ｂに貫設したエ
アー噴出口３ａは、そのエアーノズル３の中空部３ｃに
向かって拡がるテーパー孔３ｄを備え、該テーパー孔３
ｄと対向するエアーノズル３の周壁部には螺子孔３ｅを
備え、該螺子孔３ｅに、該テーパー孔３ｄ内周面に密に
対応する先細り先端部４１を備えた螺子シャフト４０が
回転可能に螺着され、該螺子シャフト４０の末端部に
は、該螺子シャフト４０の長手方向を回転軸とする駆動
伝達ギア４２が取付け固定され、該伝達ギア４２に駆動
ギア４３が噛合され、該駆動ギア４３を電動モーター、
若しくはロータリーエアーシリンダー等の駆動源４４に
よって適宜回転数で正回転、及び逆回転させることによ
って螺子シャフト４０を回転させて進退動作させて、そ
の先細り先端部４１を前記テーパー孔３ｄ内周面に対し
て接近乃至離間させて、適宜エアー噴出量を調整するも
のである。
アー噴出口３ａは、そのエアーノズル３の中空部３ｃに
向かって拡がるテーパー孔３ｄを備え、該テーパー孔３
ｄと対向するエアーノズル３の周壁部には螺子孔３ｅを
備え、該螺子孔３ｅに、該テーパー孔３ｄ内周面に密に
対応する先細り先端部４１を備えた螺子シャフト４０が
回転可能に螺着され、該螺子シャフト４０の末端部に
は、該螺子シャフト４０の長手方向を回転軸とする駆動
伝達ギア４２が取付け固定され、該伝達ギア４２に駆動
ギア４３が噛合され、該駆動ギア４３を電動モーター、
若しくはロータリーエアーシリンダー等の駆動源４４に
よって適宜回転数で正回転、及び逆回転させることによ
って螺子シャフト４０を回転させて進退動作させて、そ
の先細り先端部４１を前記テーパー孔３ｄ内周面に対し
て接近乃至離間させて、適宜エアー噴出量を調整するも
のである。
【００３９】次に、エアー噴射角度を調整するための回
転機構は、図７に示すように、エアーノズル３の一端部
と他端部がそれぞれベアリング５１を介して軸受部５
０，５０に回転可能に軸支して取付けられている。
転機構は、図７に示すように、エアーノズル３の一端部
と他端部がそれぞれベアリング５１を介して軸受部５
０，５０に回転可能に軸支して取付けられている。
【００４０】それぞれ前記軸受部５０，５０は、ワーク
ステージ５を昇降可能に支持する装置本体フレームに一
体に支持されたブラケット（図示せず）に取付け支持さ
れている。
ステージ５を昇降可能に支持する装置本体フレームに一
体に支持されたブラケット（図示せず）に取付け支持さ
れている。
【００４１】エアーノズル３の一端部はエアー（不活性
ガス）を流入させるホースと接続した流入管４５を備
え、その他端部は、エアーノズル３の長手方向を回転軸
方向とする駆動伝達ギア４２が取付け固定され、該伝達
ギア４２に駆動ギア４３が噛合され、該駆動ギア４３を
適宜変速ギアを介して電動モーター、若しくはロータリ
ーエアーシリンダー等の駆動源４４によって１回転以内
で正回転、及び逆回転させることによってエアーノズル
３を回転させ、適宜エアー噴射角度を調整するものであ
る。
ガス）を流入させるホースと接続した流入管４５を備
え、その他端部は、エアーノズル３の長手方向を回転軸
方向とする駆動伝達ギア４２が取付け固定され、該伝達
ギア４２に駆動ギア４３が噛合され、該駆動ギア４３を
適宜変速ギアを介して電動モーター、若しくはロータリ
ーエアーシリンダー等の駆動源４４によって１回転以内
で正回転、及び逆回転させることによってエアーノズル
３を回転させ、適宜エアー噴射角度を調整するものであ
る。
【００４２】
【作用】本発明は、露光直前において、光学マスクとワ
ークとの離間対向間隙内に不活性ガスを噴出させて不活
性ガス置換処理する際に、適宜不活性ガス噴出量分布を
適宜調整するか、あるいは適宜不活性ガス噴射角度を適
宜調整した上で、光学マスクとワークとの対向界面に対
する不活性ガスの噴出置換操作を行なうことによって、
対向界面に対してできるかぎり均一な不活性ガスの２次
元的分布をもった置換操作ができ、界面、及び界面直近
に存在する空気、即ち光重合硬化反応を阻害する酸素を
強制的に且つ従来よりも均一に剥ぎ取る作用があり、従
来よりも節約された比較的少量の不活性ガス（窒素ガス
Ｎ2 ）の使用量によって、短時間に均一且つ高濃度の不
活性ガス（窒素ガスＮ2 ）雰囲気を作ることができ、従
来よりも精度のあるガス置換操作ができるものである。
ークとの離間対向間隙内に不活性ガスを噴出させて不活
性ガス置換処理する際に、適宜不活性ガス噴出量分布を
適宜調整するか、あるいは適宜不活性ガス噴射角度を適
宜調整した上で、光学マスクとワークとの対向界面に対
する不活性ガスの噴出置換操作を行なうことによって、
対向界面に対してできるかぎり均一な不活性ガスの２次
元的分布をもった置換操作ができ、界面、及び界面直近
に存在する空気、即ち光重合硬化反応を阻害する酸素を
強制的に且つ従来よりも均一に剥ぎ取る作用があり、従
来よりも節約された比較的少量の不活性ガス（窒素ガス
Ｎ2 ）の使用量によって、短時間に均一且つ高濃度の不
活性ガス（窒素ガスＮ2 ）雰囲気を作ることができ、従
来よりも精度のあるガス置換操作ができるものである。
【００４３】
【発明の効果】本発明のパターン露光方法及び露光装置
は、プロキシミティー（近接）露光方式におけるパター
ン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮断操
作を行なう際において、光学マスク及びワークの界面、
若しくは界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で
効率良く均一に不活性ガスに置換できる効果があり、カ
ラーフィルタパターンの露光形成等の各種パターン形成
に効果的である
は、プロキシミティー（近接）露光方式におけるパター
ン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮断操
作を行なう際において、光学マスク及びワークの界面、
若しくは界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で
効率良く均一に不活性ガスに置換できる効果があり、カ
ラーフィルタパターンの露光形成等の各種パターン形成
に効果的である
【図１】本発明のパターン露光方法及び露光装置を説明
する概要側断面図である。
する概要側断面図である。
【図２】本発明のパターン露光方法及び露光装置を説明
する概要平面図である。
する概要平面図である。
【図３】本発明のパターン露光方法及び露光装置の動作
を説明する概要平面図である。
を説明する概要平面図である。
【図４】本発明のパターン露光装置の一実施例を説明す
る概要側断面図である。
る概要側断面図である。
【図５】本発明のパターン露光装置の他の実施例を説明
する概要平面図である。
する概要平面図である。
【図６】本発明のパターン露光装置のエアーノズルのエ
アー噴出量調整機構を説明する概要平面断面図である。
アー噴出量調整機構を説明する概要平面断面図である。
【図７】本発明のパターン露光装置のエアーノズルのエ
アー噴射角度調整機構を説明する概要平面図である。
アー噴射角度調整機構を説明する概要平面図である。
【図８】従来のパターン露光方法及び露光装置を説明す
る概要側断面図である。
る概要側断面図である。
【図９】従来のパターン露光方法及び露光装置を説明す
る概要平面図である。
る概要平面図である。
ａ…噴出エアー １…光学マスク ２…マスクフレーム
２ａ…露光用窓部 ３…エアーノズル ３ａ…エアー噴出口 ３ｂ…ノズル
アタッチメント ３ｃ…中空部 ３ｄ…テーパー孔 ３ｅ…螺子孔 ４…
ワーク ５…ワークステージ ５ａ…切欠部 ６…酸素濃度計 １２…マスクフレーム １３…ノズル １５…ワークス
テージ ２０…マスク装着手段 ２１…吸引孔 ２２…エアー流
路 ２３…吸引管 ２４…装着固定手段 ２５…吸引孔 ２６…エアー流路
２７…吸引管 ２８…露光用光源 ３０…マスク装着手段 ３１…クラ
ンプ板 ３２…作動シャフト ３３…駆動源 ４０…螺子シャフ
ト ４１…先細り先端部 ４２…駆動伝達ギア ４３…駆動ギア ４４…駆動源
５０…軸受部 ５１…ベアリング ５２…駆動伝達ギア ５３…駆動ギ
ア ５４…駆動源 ５５…不活性ガス流入管
２ａ…露光用窓部 ３…エアーノズル ３ａ…エアー噴出口 ３ｂ…ノズル
アタッチメント ３ｃ…中空部 ３ｄ…テーパー孔 ３ｅ…螺子孔 ４…
ワーク ５…ワークステージ ５ａ…切欠部 ６…酸素濃度計 １２…マスクフレーム １３…ノズル １５…ワークス
テージ ２０…マスク装着手段 ２１…吸引孔 ２２…エアー流
路 ２３…吸引管 ２４…装着固定手段 ２５…吸引孔 ２６…エアー流路
２７…吸引管 ２８…露光用光源 ３０…マスク装着手段 ３１…クラ
ンプ板 ３２…作動シャフト ３３…駆動源 ４０…螺子シャフ
ト ４１…先細り先端部 ４２…駆動伝達ギア ４３…駆動ギア ４４…駆動源
５０…軸受部 ５１…ベアリング ５２…駆動伝達ギア ５３…駆動ギ
ア ５４…駆動源 ５５…不活性ガス流入管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/20 101
Claims (3)
- 【請求項１】パターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に対向させ、該光学マスクとワークとの離間
対向間隙の外側より間隙内にエアーノズルから不活性ガ
スを噴出させて光学マスクとワークとの対向界面を不活
性ガス置換処理した後、該光学マスクをワークの感光材
面に近接乃至接触させて露光する露光方法において、エ
アーノズルからの不活性ガス噴出量分布又は／及び不活
性ガス噴射角度を適宜調整して光学マスクとワークとの
離間対向間隙の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させ
ることにより、光学マスクとワークとの平行対向面内で
の不活性ガス噴出量の２次元的分布を均一にしつつ、光
学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処理し
た後、紫外線パターン露光若しくは電子線パターン露光
することを特徴とするパターン露光方法。 - 【請求項２】露光用光源を備え、且つパターン露光用の
光学マスクとワークとを互いに平行に離間乃至近接若し
くは接触対向動作させるそれぞれマスクフレーム及びワ
ークステージと、該光学マスクとワークとの離間対向間
隙の外側に不活性ガス噴出用のエアーノズルを備えたパ
ターン露光装置において、エアーノズルは、その不活性
ガス噴射角度と不活性ガス噴出量分布のいずれか一方又
は両方を適宜調整可能であることを特徴とするパターン
露光装置。 - 【請求項３】前記パターン露光装置において、平行に離
間乃至近接若しくは接触対向する光学マスクとワークと
の外側周囲に２個乃至４個以上の酸素濃度計を備え、エ
アーノズルの不活性ガス噴射角度を調整するエアーノズ
ル噴射角度回転手段と、エアーノズルの不活性ガス噴出
量分布を調整する不活性ガス噴出量分布調整手段のいず
れか一方若しくは両方を備え、前記酸素濃度計による濃
度検出信号に基づいて前記エアーノズル噴射角度回転手
段又は／及び不活性ガス噴出量分布調整手段を動作して
不活性ガス噴射角度又は／及び不活性ガス噴出量分布を
調整するようにしたことを特徴とするパターン露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23967893A JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23967893A JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0792317A JPH0792317A (ja) | 1995-04-07 |
| JP2947018B2 true JP2947018B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=17048288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23967893A Expired - Lifetime JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2947018B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140111782A1 (en) * | 2012-10-23 | 2014-04-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Lithography apparatus, method for lithography and stage system |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3498255B2 (ja) * | 1996-06-17 | 2004-02-16 | 東芝機械株式会社 | 枚葉式減圧ｃｖｄ装置 |
| TW563002B (en) * | 1999-11-05 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured by the method |
| US7508487B2 (en) | 2000-06-01 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| JP4318926B2 (ja) * | 2003-01-27 | 2009-08-26 | 大日本印刷株式会社 | 露光方法及び露光装置 |
| KR20080094937A (ko) * | 2006-02-13 | 2008-10-27 | 후지필름 가부시키가이샤 | 컬러필터의 제조 방법, 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 갖는표시장치 |
| JP5537466B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置 |
| WO2016107714A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Asml Holding N.V. | Reticle cooling by non-uniform gas flow |
| CN107976868B (zh) * | 2016-10-21 | 2020-02-18 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法 |
| JP6845058B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2021-03-17 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
| JP6962022B2 (ja) * | 2017-06-19 | 2021-11-05 | コニカミノルタ株式会社 | 活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP23967893A patent/JP2947018B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140111782A1 (en) * | 2012-10-23 | 2014-04-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Lithography apparatus, method for lithography and stage system |
| US9632437B2 (en) * | 2012-10-23 | 2017-04-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Lithography apparatus, method for lithography and stage system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0792317A (ja) | 1995-04-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2947018B2 (ja) | パターン露光方法及び露光装置 | |
| JP3254574B2 (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
| JP2007000865A (ja) | 塗布液塗布装置及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法 | |
| JP6985102B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
| KR102616530B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
| US5662821A (en) | Method and device for producing a screen printing stencil | |
| TWI778154B (zh) | 雷射加工裝置 | |
| US11179876B2 (en) | Transfer apparatus and transfer method | |
| JPH06196401A (ja) | 基板端縁洗浄装置 | |
| CN110587147A (zh) | 激光加工装置 | |
| JP5417725B2 (ja) | パターン塗布装置およびそれを用いたパターン塗布方法 | |
| JPH06277600A (ja) | スライドビード塗布装置および方法 | |
| JPH02251903A (ja) | インクジェット装置を用いたレンズ塗装方法及び装置 | |
| US11801629B2 (en) | Transfer apparatus | |
| JP7221642B2 (ja) | 転写装置 | |
| TWI720355B (zh) | 轉印裝置 | |
| JPH06337521A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP3907491B2 (ja) | パターン形成装置 | |
| US10596752B2 (en) | Transfer apparatus | |
| JPH0726847U (ja) | パターン露光装置 | |
| JP2004279513A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JPH06216025A (ja) | 露光装置 | |
| JP2708337B2 (ja) | 基板端縁洗浄装置 | |
| JPH11300251A (ja) | 硬基板塗布装置 | |
| JP2004184800A (ja) | パターン形成装置およびパターン形成方法 |