JP6962022B2 - 活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置に関する。

インクジェット方式の画像形成装置は、インク滴を基材（用紙等）に塗布することにより、基材表面に画像を形成する。インクジェット方式の画像形成装置において用いられるインク（材料）には、例えば、紫外線（ＵＶ：Ultra Violet）の照射により硬化するＵＶ硬化性インクがある。

画像形成装置において、ＵＶを基材に照射するＵＶ照射装置では、基材表面に存在する空気（境界層）中の酸素による硬化阻害が発生してしまう問題がある。

この硬化阻害を改善するために、特許文献１には、ＵＶ硬化性インクの硬化阻害物質である酸素を含む空気を排除するガス（不活性ガス。例えば、窒素ガス）を、ＵＶ硬化性インクが塗布された基材に供給する方法が提案されている。

特許第５７２６６５３号公報

しかしながら、特許文献１に開示されたＵＶ照射装置において窒素ガスを基材表面に単に供給するのでは、供給された窒素ガスが基材表面に滞留せずに流れ出てしまい、窒素ガスによる空気の排除（窒素パージと呼ぶこともある）が十分に行わない場合がある。例えば、エアー吸引により基材を搬送する吸着搬送部を備える画像形成装置では、搬送ベルト表面のうち、基材に覆われていない部分から窒素ガスが吸引され、基材中央部と基材端部とで窒素濃度が異なってしまう問題がより顕著に発生してしまう。

本発明は、窒素ガス（不活性ガス）によって空気を効率良く排除して、ＵＶ（活性エネルギー線）照射を行うことができる活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る活性エネルギー線照射装置は、
基材を搬送する搬送路に対向して配置される活性エネルギー線照射装置であって、
活性エネルギー線の照射によって硬化する材料が供給された基材に対して不活性ガスを供給して、前記基材の表面に前記不活性ガスによる境界層を形成する不活性ガス供給部と、
前記不活性ガス供給部の搬送方向下流に配置され、前記境界層が形成された前記基材に対して活性エネルギー線を照射する照射部と、
を具備し、
前記不活性ガス供給部は、前記基材に対して搬送方向に前記不活性ガスを噴出口から噴出させる噴出ノズルを備え、
前記不活性ガス供給部は、前記基材の表面に均等に前記境界層が形成されるように、前記噴出ノズルから噴出される前記不活性ガスの流速を、前記噴出口の長手方向で異ならせる際に、前記基材の表面における、前記不活性ガスを前記基材に向けて前記長手方向に偏向させる方向である偏向方向に近い位置に対する前記長手方向の流速を、前記基材の表面における前記偏向方向から遠い位置に対する前記長手方向の流速より速くして、前記不活性ガスの偏向方向を調整する。

本発明の一態様に係る画像形成装置は、上記活性エネルギー線照射装置を備える。
また、本発明の一態様に係る活性エネルギー線照射装置は、
基材を搬送する搬送路に対向して配置される活性エネルギー線照射装置であって、
活性エネルギー線の照射によって硬化する材料が供給された基材に対して不活性ガスを供給して、前記基材の表面に前記不活性ガスによる境界層を形成する不活性ガス供給部と、
前記不活性ガス供給部の搬送方向下流に配置され、前記境界層が形成された前記基材に対して活性エネルギー線を照射する照射部と、
を具備し、
前記不活性ガス供給部は、前記基材に対して搬送方向に前記不活性ガスを噴出口から噴出させる噴出ノズルを備え、
前記不活性ガス供給部は、前記基材の表面に均等に前記境界層が形成されるように、前記噴出ノズルから噴出される前記不活性ガスの流速を、前記噴出口の長手方向で異ならせる際に、前記基材の移動に応じて、前記長手方向として高さ方向における前記流速の異ならせ方を変更する。

本発明によれば、窒素ガスによって空気を効率良く排除して、ＵＶ照射を行うことができる。

本実施の形態に係る画像形成装置の全体構成を概略的に示す図である。 本実施の形態に係るＵＶ照射装置の構成を概略的に示す図である。 本実施の形態に係る基材に対して水平方向に配置された噴出ノズルによる窒素供給動作の一例を示す図である。 本実施の形態に係る基材に対して垂直方向に配置された噴出ノズルによる窒素供給動作の一例を示す図である。 本実施の形態に係る基材に対して垂直方向に配置された噴出ノズルによる窒素供給動作の一例を示す図である。 本実施の形態に係る画像形成装置の他の構成を概略的に示す図である。

以下、本実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。

［画像形成装置の構成］
図１は、画像形成装置１の全体構成を概略的に示す図である。図１に示す画像形成装置１は、インクジェット方式の画像形成装置である。画像形成装置１は、ＵＶ照射装置１００と、搬送部２００と、画像形成部３００とを具備する。

なお、本発明は、ＵＶを照射する場合に限定されず、ＵＶ以外の他の活性エネルギー線を照射する装置（つまり、活性エネルギー線照射装置）であってもよい。

搬送部２００は、例えば、搬送ベルト２０１で構成され、少なくとも、ローラー２０２、２０３にループ状に張架される。例えば、ローラー２０２、２０３の少なくとも一方は駆動ローラーで構成され、搬送ベルト２０１は、反時計回りに駆動され、搬送ベルト２０１上に保持された基材Ｐ（図示せず）は、図１に示す右側（上流側）から左側（下流側）へ搬送される。なお、搬送部２００は、ベルトに限らず、ドラムによって構成されてもよい。

また、搬送部２００において、搬送ベルト２０１の表面には、複数の吸着穴が（例えば、メッシュ状に）形成される。また、搬送部２００は、搬送ベルト２０１の背面（基材Ｐを保持する面の反対の面）側に吸引部２０４を備える。吸引部２０４は、例えば、吸引ファンであり、駆動することにより、搬送ベルト２０１の表面の空気を吸引し、搬送ベルト２０１を搬送される基材Ｐを搬送ベルト２０１に吸着させる。すなわち、搬送部２００は、吸引部２０４によるエアー吸引によって基材Ｐを搬送ベルト２０１に吸着させて搬送する。

画像形成部３００は、インクジェットヘッド３０１Ｙ、３０１Ｍ、３０１Ｃ、３０１Ｋを備え、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｋ（ブラック）の各色のＵＶ硬化性インクを、搬送部２００によって搬送されてくる基材Ｐの表面に供給（付与）する。

ＵＶ照射装置１００は、画像形成部３００によってＵＶ硬化性インクが供給された基材Ｐに対してＵＶを照射して、ＵＶ硬化性インクを硬化させる。

［ＵＶ照射装置の構成］
図２は、本発明の実施の形態に係るＵＶ照射装置１００の構成を概略的に示す図である。

図２において、ＵＶ照射対象である基材Ｐは、搬送部２００に保持され、図１の右側（搬送方向上流側）から左側（搬送方向下流側）に向かって搬送される。また、基材Ｐには、搬送方向上流側（図１の右側）に設けられた画像形成部３００（図１を参照）においてＵＶ硬化性インクが供給されている。

ＵＶ照射装置１００は、基材Ｐを搬送する搬送部２００の搬送路と対向して配置される。すなわち、ＵＶ照射装置１００は、搬送される基材ＰのＵＶ硬化性インクが供給された面（図２では上面）と対向する位置に配置される。ＵＶ照射装置１００は、ＵＶ照射装置１００の下を通過する基材Ｐに対してＵＶを照射することにより、基材Ｐに供給されているＵＶ硬化性インクを硬化させる。

ＵＶ照射装置１００は、基材Ｐの搬送方向上流側（図２の右側）から順に、遮断部１０１、境界層剥離部１０２、窒素供給部１０３（不活性ガス供給部に対応）、照射部１０４、層流確保部１０５を備える。

遮断部１０１は、ＵＶ照射装置１００の外部からの空気の流入を防ぐように、搬送されてくる基材Ｐに向かって気体（例えば、空気）を噴射する。すなわち、遮断部１０１は、ＵＶ照射装置１００の外部から流入される空気を遮断するエアカーテンの機能を有する。

具体的には、遮断部１０１には、流体供給路１１１が設けられる。流体供給路１１１の一端は、図示しない配管を介して空気の供給源に接続されている供給口１１２である。流体供給路１１１の他端は、供給口１１２を介して供給された空気を基材Ｐの表面に向けて噴射する噴射口１１３である。噴射口１１３から基材Ｐの表面に向けて吹き出される空気により、ＵＶ照射装置１００の外部（図２では右側）からの空気の流入を抑えることができる。

境界層剥離部１０２は、ＵＶ硬化性インクが供給された基材Ｐの表面に形成された境界層を剥離（破壊）する。具体的には、境界層剥離部１０２には、排気流路１２１が設けられる。排気流路１２１は、基材Ｐの搬送路（搬送ベルト２０１（又は基材Ｐの表面）とＵＶ照射装置１００の搬送ベルト２０１に対向する面との間の空間）内の基材Ｐから剥離された空気を含む境界層内外の空気を排気する。排気流路１２１の一端は、基材Ｐの表面に対向して開口した吸い込み口１２２である。排気流路１２１の他端は、例えば、排気ポンプ又は排気ファン（図示せず）に接続される排気口１２３である。

搬送路内のＵＶ照射装置１００と基材Ｐとの間の空間に存在する空気は、境界層剥離部１０２による排気によって、ＵＶ照射装置１００の境界層剥離部１０２の基材Ｐに対向する壁面に沿って排気流路１２１に流れていく。つまり、境界層剥離部１０２の基材Ｐに対向する壁面に沿って層流が発生する。

窒素供給部１０３は、境界層剥離部１０２において境界層を剥離した後の基材Ｐに対して窒素（Ｎ_２）を供給して、基材Ｐの表面に境界層（以下、「窒素境界層」と呼ぶ）を形成する。

具体的には、窒素供給部１０３には、窒素供給路１３１が設けられている。窒素供給路１３１の一端は、窒素の供給源となる窒素発生器（図示せず）に接続されている供給口１３２である。窒素供給路１３１の他端は、基材Ｐの表面に対向して開口し、窒素を基材Ｐの表面に噴出させる噴出部１３３（噴出ノズル）である。

窒素供給部１０３は、窒素境界層の形成時に窒素を基材Ｐの表面に向かって噴出させることにより、遮断部１０１と同様、基材Ｐの周辺に残存する空気の照射部１０４への流入を防ぐエアカーテンとして機能する。また、窒素供給部１０３には、基材Ｐの表面上に形成される窒素境界層を安定させるための層流確保部１３４が設けられている。

また、窒素供給部１０３の噴出部１３３は、基材Ｐに対して搬送方向に窒素ガスを噴出口から噴出させる噴出ノズルを備える。窒素供給部１０３は、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層が形成されるように、噴出ノズルから噴出される窒素ガスの速度（流速）を、噴出口の長手方向で異ならせる。

例えば、噴出部１３３は、噴出口の長手方向に並べられた複数の噴出ノズルを備え、各々の噴出ノズルから噴出される窒素ガスの速度（以下、噴出速度と呼ぶ）は、図示しない制御部によって可変にそれぞれ設定される。なお、窒素供給部１０３における窒素供給動作の詳細については後述する。

なお、本発明は、窒素ガスに限定されず、窒素ガス以外の他の不活性ガスを供給する構成部（つまり、不活性ガス供給部）であってもよい。

照射部１０４は、搬送される基材Ｐ（窒素境界層が形成された基材Ｐ）の表面にＵＶを照射し、基材Ｐに供給されたＵＶ硬化性インクを硬化させる。照射部１０４は、例えば、ＵＶＬＥＤ（Ultra Violet Light Emitting Diode）によって構成されてもよい。

層流確保部１０５は、基材Ｐの表面上に形成される窒素境界層を安定させるために設けられる。すなわち、ＵＶ照射装置１００において、照射部１０４の上流側および下流側に層流確保部１３４、１０５を設けることにより、照射部１０４のＵＶ照射区間における窒素境界層を安定させることができる。これにより、照射部１０４は、硬化阻害物質である空気（酸素）を排除した状態でＵＶ照射することができるので、照射部１０４におけるＵＶ照射の効率を向上させることができる。

［窒素供給動作］
次に、上述したＵＶ照射装置１００の窒素供給部１０３における窒素供給動作について詳細に説明する。

まず、噴出部１３３の複数の噴出ノズルが基材Ｐの幅方向（搬送方向と直交する方向）に並べて配置される場合の窒素供給動作について説明する。つまり、噴出部１３３の噴出口の長手方向は、複数の噴出ノズルが並べられる基材Ｐの幅方向である。

図３は、基材Ｐの幅方向に配置された複数の噴出ノズルによる窒素供給動作の一例を示す図である。

図３では、窒素供給部１０３の噴出部１３３は、４個の噴出ノズル１〜４を備える。噴出ノズル１〜４は、基材Ｐの幅方向に並べて配置されている。また、図３に示すように、噴出ノズル１〜４の各々は、基材Ｐに対して搬送方向に窒素ガスを噴出させる。

窒素供給部１０３は、噴出ノズル１〜４から噴出される窒素ガスの噴出速度を個別に調整可能である。具体的には、窒素供給部１０３は、基材Ｐの幅方向における中央部（破線で示す）に対する噴出速度を、基材Ｐの幅方向における端部に対する噴出速度よりも速くする。図３では、窒素ガスの噴出方向が基材Ｐの中央部付近である噴出ノズル２，３における噴出速度は、窒素ガスの噴出方向が噴出ノズル２，３よりも端部側である噴出ノズル１，４における噴出速度よりも速くなる。

ここで、流体（窒素ガス）が噴出される方向（風向き）は、流速がより速い方向に偏向する特徴がある。よって、図３に示すように、基材Ｐの中央部に噴出される窒素ガスの噴出速度が、基材Ｐの端部に噴出される窒素ガスの噴出速度よりも速い場合、噴出部１３３から噴出される窒素ガスの全体の風向き（偏向方向）は、基材Ｐの中央部の方向に偏向される。

例えば、図１に示すように搬送部２００が搬送ベルト２０１の吸着穴（図３では図示せず）からのエアー吸引によって基材Ｐを吸引して搬送する場合には搬送ベルト２０１が基材Ｐに覆われていない箇所、つまり、基材Ｐの幅方向の両端から窒素ガスが吸引されやすくなる。これに対して、上述したように、窒素供給部１０３は、基材Ｐの中央部に窒素ガスを偏向するように複数の噴出ノズルの噴出速度を調整する。つまり、窒素供給部１０３は、複数の噴出ノズルのうち、窒素ガスを噴出する噴出方向が基材Ｐの中央部（つまり、偏向方向）に近い噴出ノズルの噴出速度を、噴出方向が基材Ｐの中央部（偏向方向）から遠い噴出ノズルの噴出速度より速くする。換言すると、窒素供給部１０３は、基材Ｐの表面における偏向方向（つまり、窒素ガスを基材Ｐに向けて基材Ｐの幅方向に偏向させる方向）に近い位置（ここでは中央部）に対する窒素ガスの流速を、基材Ｐの表面における偏向方向から遠い位置（ここでは端部）に対する流速より速くする。

これにより、噴出部１３３から供給される窒素ガスは、基材Ｐの中央部付近に向けて噴出されるので、基材Ｐの幅方向の両端への窒素ガスの広がりが抑えられ、窒素ガスが基材Ｐの表面に滞留しやすくなる。よって、基材Ｐの表面に滞留せずに流れ出てしまう窒素ガスを低減し、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層を形成することができるので、基材Ｐの中央部と端部とで窒素濃度が異なることを防ぎ、窒素供給部１０３は、ＵＶ硬化性インクの硬化阻害物質である酸素を含む空気を効率良く排除することができる。

なお、図３では、噴出ノズルが４個備えられる場合について説明したが、噴出部１３３が備える噴出ノズルの個数は４個に限定されず、他の個数の噴出ノズルを備えてもよい。例えば、図３に示す４個の噴出ノズルの噴出速度が２段階（中央部と端部の２段階）に設定されたのに対して、噴出部１３３が５個以上の噴出ノズルを備える場合には、基材Ｐの中央部に対する噴出速度ほどより速くなるように３段階以上に設定されてもよい。

また、窒素供給部１０３は、例えば、基材Ｐの幅方向のサイズに応じて、各噴出ノズルから噴出される窒素ガスの噴出速度を調整してもよい。

次に、噴出部１３３の複数の噴出ノズルが高さ方向（ＵＶ照射装置１００の上下方向）に並べて配置される場合の窒素供給動作について説明する。つまり、噴出部１３３の噴出口の長手方向は、複数の噴出ノズルが並べられる高さ方向である。

図４Ａ及び図４Ｂは、高さ方向に配置された複数の噴出ノズルによる窒素供給動作の一例を示す図である。

図４Ａ及び図４Ｂでは、窒素供給部１０３の噴出部１３３は、２個の噴出ノズルａ，ｂを備える。噴出ノズルａ，ｂの各々は、高さ方向に並べて配置され、基材Ｐに対して搬送方向に窒素ガスを噴出させる。すなわち、上側に配置された噴出ノズルａは、基材Ｐの搬送方向下流側（図４Ａ及び図４Ｂの左側）に窒素ガスを噴出させ、下側に配置された噴出ノズルｂは、基材Ｐの搬送方向上流側（図４Ａ及び図４Ｂの右側）に窒素ガスを噴出させている。

また、図４Ｂは、基材Ｐが図４Ａに示す位置から更に下流に搬送された状態を示す。

窒素供給部１０３は、噴出ノズルａ，ｂから噴出される窒素ガスの噴出速度を個別に調整可能である。具体的には、窒素供給部１０３は、複数の噴出ノズルａ，ｂのうち、窒素ガスを偏向する方向に窒素ガスを噴出する噴出ノズルにおける噴出速度をより速くする。

例えば、図４Ａに示すように、窒素供給部１０３は、下側に配置された噴出ノズルｂの噴出速度を、上側に配置された噴出ノズルａの噴出速度よりも速くすることにより、噴出部１３３から噴出される窒素ガスの全体の風向き（偏向方向）を、基材Ｐの搬送方向上流側（図４Ａの右側）に偏向する。

一方、図４Ｂに示すように、窒素供給部１０３は、上側に配置された噴出ノズルａの噴出速度を、下側に配置された噴出ノズルｂの噴出速度よりも速くすることにより、噴出部１３３から噴出される窒素ガスの全体の風向き（偏向方向）を、基材Ｐの搬送方向下流側（図４Ｂの左側）に偏向する。

つまり、窒素ガス供給部１０３は、噴出ノズルａ，ｂ間の噴出速度の相対速度差を変更することにより、窒素ガスの偏向方向を調整することができる。

ここで、窒素パージにおいて、基材Ｐの先端又は後端の窒素濃度は、他の箇所と比較して低くなりやすく、窒素パージの効率が悪くなる傾向がある。

そこで、窒素供給部１０３は、基材Ｐの移動に応じて、高さ方向における噴出ノズルから噴出される窒素ガスの流速の異ならせ方を変更する。例えば、窒素供給部１０３は、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、搬送方向において、搬送部２００による基材Ｐの先端を追尾するように、基材Ｐの移動（搬送タイミング）に応じて噴出ノズルａ，ｂ間の噴出速度の相対速度差を変更してもよい。つまり、窒素供給部１０３は、複数の噴出ノズルのうち、窒素ガスを噴出する噴出方向が基材Ｐの先端（つまり、偏向方向）に近い噴出ノズル（図４Ａでは噴出ノズルｂ、図４Ｂでは噴出ノズルａ）の噴出速度を、噴出方向が基材Ｐの先端（偏向方向）から遠い噴出ノズル（図４Ａでは噴出ノズルａ、図４Ｂでは噴出ノズルｂ）の噴出速度より速くする。すなわち、窒素供給部１０３は、基材Ｐの表面における偏向方向（つまり、窒素ガスを基材Ｐに向けて高さ方向に偏向させる方向）に近い位置（例えば、基材Ｐの先端又は後端）に対する窒素ガスの流速を、基材Ｐの表面における偏向方向から遠い位置に対する流速より速くする。換言すると、窒素供給部１０３は、各噴出ノズルａ，ｂから噴出される窒素ガスの流速を調整することにより、基材Ｐの搬送方向に対する、窒素ガスが噴出される角度（つまり、窒素ガスの供給方向）を調整する。

これにより、噴出部１３３は、基材Ｐの移動に応じて、基材Ｐの先端を追尾して窒素ガスを供給することにより、基材Ｐの先端の窒素濃度を高く維持することができる。

なお、図４Ａ及び図４Ｂでは、窒素ガスの追尾対象を基材Ｐの先端とする場合について説明したが、窒素ガスの追尾対象は基材Ｐの先端に限定されず、先端と同様に、窒素パージの効率が悪くなりやすい基材Ｐの後端でもよい。

また、窒素供給部１０３は、基材Ｐの先端を追尾可能な位置まで追尾して窒素ガスを供給した後も、基材Ｐの先端よりも後ろの面に対して窒素ガスを供給し続ければよい。また、窒素供給部１０３は、基材Ｐの先端を追尾した後に、窒素ガスの偏向方向を搬送方向上流側に戻して、基材Ｐの後端を追尾して窒素ガスを供給してもよい。

このように、窒素パージの効率が悪くなる傾向にある基材Ｐの先端及び後端に供給される窒素ガスを増やすことで、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層を形成することができるので、窒素供給部１０３は、ＵＶ硬化性インクの硬化阻害物質である酸素を含む空気を効率良く排除することができる。

なお、図４Ａ及び図４Ｂでは、噴出ノズルが２個備えられる場合について説明したが、噴出部１３３が備える噴出ノズルの個数は２個に限定されず、３個以上でもよい。例えば、図４Ａ及び図４Ｂに示す２個の噴出ノズルの噴出速度が２段階に設定されたのに対して、噴出部１３３が３個以上の噴出ノズルを備える場合には、各噴出ノズルの噴出速度が３段階以上に設定されてもよい。

また、噴出ノズルａの噴出速度及び噴出ノズルｂの噴出速度は、双方を可変させてもよく、何れか一方を可変させてもよい。すなわち、噴出ノズルａの噴出速度と噴出ノズルｂの噴出速度との相対的な差（相対速度差）を調整可能であればよい。

このように、本実施の形態によれば、ＵＶ照射装置１００において、窒素供給部１０３は、窒素ガスを基材Ｐに噴出させる複数の噴出ノズルを備える。また、窒素供給部１０３は、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層が形成されるように、複数の噴出ノズルから噴出される窒素ガスの噴出速度をそれぞれ調整する。

これにより、窒素供給部１０３において、基材Ｐの表面に窒素ガスを十分に滞留させることができるので、基材Ｐの表面の空気（酸素）を効率良く除去することができる。以上より、本実施の形態によれば、ＵＶ照射装置１００は、窒素ガスによって空気を効率良く排除して、ＵＶ照射を行うことができる。

また、ＵＶ照射装置１００は、複数の噴出ノズルにおける窒素ガスの噴出速度の調整によって基材Ｐ表面に窒素ガスを十分に滞留させることができる。これにより、ＵＶ照射装置１００では、基材Ｐ表面に滞留する窒素ガスを増加させるために、例えば、窒素ガスの供給量を増加させる必要が無いので、窒素ガスを供給する装置（図示せず）のサイズの増大を抑えることができる。また、ＵＶ照射装置１００では、基材Ｐ表面に滞留する窒素ガスを増加させるために、例えば、搬送部２００における吸引を弱める必要が無いので、基材Ｐの安定した搬送を維持することができる。

また、仮に、噴出ノズルからの噴出方向を可変にするために、噴出ノズル（または窒素供給路）の位置を物理的に移動させる場合には、装置のサイズが増大し、かつ、基材Ｐの移動に応じて噴出ノズルをリアルタイムで移動させる必要があるので処理が複雑化する。これに対して、ＵＶ照射装置１００では、複数の噴出ノズルの各々における窒素ガスの噴出方向は一定（不変）であり、複数の噴出ノズルにおける窒素ガスの噴出速度の調整によって基材Ｐ表面上における窒素ガスの供給方向が変更される。すなわち、本実施の形態によれば、窒素供給部１０３は、窒素ガスの噴出速度の調整のみで窒素ガスの供給方向を変更することができるので、装置の増大及び処理の複雑化を回避することができる。

なお、画像形成装置１においてＵＶ照射装置の構成は図１に示す構成に限定されない。図５は、画像形成装置１の他の構成を概略的に示す図である。なお、図５において、図１と同様の構成には同一の符号を付し、その説明を省略する。図５に示すＵＶ照射装置１００ａは、窒素供給部１０３と、照射部１０４とを備える。このように、ＵＶ照射装置は、少なくとも窒素供給部１０３と照射部１０４とを備えることにより、窒素ガスによって空気を効率良く排除して、ＵＶ照射を行うことができる。

また、図１では、ＵＶ照射装置１００の搬送部２００が吸引部２０４を備える場合について説明したが、ＵＶ照射装置１００は、吸引部２０４を備えない構成でもよい。

また、図３に示す基材Ｐに対して水平方向に配置される噴出ノズル１〜４、及び、図４Ａ及び図４Ｂに示す基材Ｐに対して垂直方向に配置される噴出ノズルａ，ｂは、それぞれ別途設けられてもよい。または、各噴出ノズルに対して、基材Ｐの幅方向（図３を参照）及び搬送方向（図４Ａ及び図４Ｂを参照）の双方における窒素ガスの供給方向を考慮した噴出速度が設定されてもよい。

また、上記実施の形態では、窒素供給部１０３の噴出部１３３が複数の噴出ノズルを備える構成について説明したが、噴出ノズルの構成はこれに限定されない。例えば、噴出部１３３は、単一の噴出ノズルを備える構成でもよい。この場合、例えば、噴出ノズルは、噴出口の長手方向においてスリット幅を調整することにより窒素ガスの流速を異ならせる構成を有する。そして、窒素供給部１０３は、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層が形成されるように、噴出ノズルから噴出される窒素ガスの流速を、噴出口の長手方向で異ならせればよい。

例えば、窒素供給部１０３は、噴出口の長手方向を基材Ｐの幅方向とした場合、基材Ｐの幅方向における中央部に対する窒素ガスの流速を、基材Ｐの幅方向における端部に対する窒素ガスの流速よりも速くすればよい。これにより、上記実施の形態（例えば、図３を参照）と同様、噴出部１３３から供給される窒素ガスは、基材Ｐの中央部付近に向けて噴出されるので、窒素ガスが基材Ｐの表面に滞留しやすくなる。

同様に、窒素供給部１０３は、噴出口の長手方向を高さ方向とした場合、基材Ｐの移動に応じて、高さ方向における窒素ガスの流速の異ならせ方を変更すればよい。例えば、窒素供給部１０３は、上記実施の形態と同様、基材Ｐの移動に応じて、基材Ｐの先端又は後端を追尾して窒素ガスを供給することにより（例えば、図４Ａ及び図４Ｂ）、基材Ｐの先端又は後端の窒素濃度を高く維持することができる。

このように、本発明では、窒素供給部１０３は、噴出ノズルの構成によらず、基材Ｐの表面に均等に窒素境界層が形成されるように、噴出ノズルから噴出される窒素ガスの流速を、噴出口の長手方向で異ならせる構成を備えることで、ＵＶ硬化性インクの硬化阻害物質である酸素を含む空気を効率良く排除することができる。

その他、上記実施の形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の一例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその要旨、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。

１ 画像形成装置
１００，１００ａ ＵＶ照射装置
１０１ 遮断部
１０２ 境界層剥離部
１０３ 窒素供給部
１０４ 照射部
１０５，１３４ 層流確保部
１１１ 流体供給路
１１２，１３２ 供給口
１１３ 噴射口
１２１ 排気流路
１２２ 吸い込み口
１２３ 排気口
１３１ 窒素供給路
１３３ 噴出部
２００ 搬送部
２０１ 搬送ベルト
２０２，２０３ ローラー
２０４ 吸引部
３００ 画像形成部
３０１ インクジェットヘッド

Claims (8)

1. 基材を搬送する搬送路に対向して配置される活性エネルギー線照射装置であって、
   活性エネルギー線の照射によって硬化する材料が供給された基材に対して不活性ガスを供給して、前記基材の表面に前記不活性ガスによる境界層を形成する不活性ガス供給部と、
   前記不活性ガス供給部の搬送方向下流に配置され、前記境界層が形成された前記基材に対して活性エネルギー線を照射する照射部と、
   を具備し、
   前記不活性ガス供給部は、前記基材に対して搬送方向に前記不活性ガスを噴出口から噴出させる噴出ノズルを備え、
   前記不活性ガス供給部は、前記基材の表面に均等に前記境界層が形成されるように、前記噴出ノズルから噴出される前記不活性ガスの流速を、前記噴出口の長手方向で異ならせる際に、前記基材の表面における、前記不活性ガスを前記基材に向けて前記長手方向に偏向させる方向である偏向方向に近い位置に対する前記長手方向の流速を、前記基材の表面における前記偏向方向から遠い位置に対する前記長手方向の流速より速くして、前記不活性ガスの偏向方向を調整する、
   活性エネルギー線照射装置。
2. 前記長手方向は前記基材の幅方向である、
   請求項１に記載の活性エネルギー線照射装置。
3. 前記不活性ガス供給部は、前記基材の幅方向における中央部に対する前記流速を、前記基材の前記幅方向における端部に対する前記流速よりも速くする、
   請求項１に記載の活性エネルギー線照射装置。
4. 前記長手方向は高さ方向である、
   請求項１に記載の活性エネルギー線照射装置。
5. 前記不活性ガス供給部は、前記基材の移動に応じて、前記高さ方向における前記流速の異ならせ方を変更する、
   請求項４に記載の活性エネルギー線照射装置。
6. 前記搬送路はエアー吸引によって前記基材を搬送ベルトに吸着させて搬送する、
   請求項１から５の何れか一項に記載の活性エネルギー線照射装置。
7. 請求項１から６の何れか一項に記載の活性エネルギー線照射装置を備える画像形成装置。
8. 基材を搬送する搬送路に対向して配置される活性エネルギー線照射装置であって、
   活性エネルギー線の照射によって硬化する材料が供給された基材に対して不活性ガスを供給して、前記基材の表面に前記不活性ガスによる境界層を形成する不活性ガス供給部と、
   前記不活性ガス供給部の搬送方向下流に配置され、前記境界層が形成された前記基材に対して活性エネルギー線を照射する照射部と、
   を具備し、
   前記不活性ガス供給部は、前記基材に対して搬送方向に前記不活性ガスを噴出口から噴出させる噴出ノズルを備え、
   前記不活性ガス供給部は、前記基材の表面に均等に前記境界層が形成されるように、前記噴出ノズルから噴出される前記不活性ガスの流速を、前記噴出口の長手方向で異ならせる際に、前記基材の移動に応じて、前記長手方向として高さ方向における前記流速の異ならせ方を変更する、
   活性エネルギー線照射装置。

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