JPH06196401A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶剤による洗浄部と薄膜部との境界を移動さ
せずに、かつ有効エリア内の膜厚の均一性を損なうこと
なく、溶剤のしみこみに起因する盛り上がりを効果的に
無くす。 【構成】 表面に薄膜が形成されるとともに基板保持手
段で保持された角型基板１の端縁の表面側に、溶剤を吐
出して不要薄膜を溶解する第２の溶剤ノズル２６ｂを設
け、かつ、気体を吐出して溶解物を角型基板１の端縁よ
りも外方に吹き飛ばす第２のガスノズル２７ｂを、角型
基板１に対する第２の溶剤ノズル２６ｂによる溶剤吐出
位置よりも第２の溶剤ノズル２６ｂの移動方向後方側に
気体を吐出するように設け、角型基板１の端縁の薄膜を
溶解除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト塗布液
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤
といった薄膜が表面に形成された液晶表示装置用のガラ
ス基板やフォトマスク用のガラス基板、半導体装置製造
用の半導体ウエハ、もしくはサーマルヘッド製造用のセ
ラミックス基板などの基板に対し、その薄膜形成後の基
板の端縁に溶剤を吐出して、基板端縁の不要薄膜を溶解
除去する基板端縁洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような薄膜が形成された基板は、
その製造工程等において、基板の表面に薄膜が形成され
た後、各種処理工程を経る間に、カセットに挿抜された
り、搬送機構に保持されたりする。このとき、基板の端
縁がカセット内の収納溝や搬送機構のチャック部に接触
することにより、基板の端縁の薄膜が剥離して発塵源に
なることが知られている。

【０００３】また、回転塗布時に裏面まで回り込んだ薄
膜の一部がそのまま乾燥して残存すると、後工程の装置
を汚染したり、露光時に基板が傾いて部分的に焦点が合
わない場合を生じ、歩留りが低下する問題があった。殊
に、近年では、基板に施される加工が微細化する傾向に
あり、より一層歩留り低下の原因となりやすい問題があ
った。

【０００４】このような基板端縁の不要薄膜を洗浄除去
する装置として、従来、特開平３−７８７７７号公報に
開示されているものが知られている。この従来例によれ
ば、基板の周縁部の上面および下面に対して第１および
第２の管から溶剤を供給し、その溶剤および溶解物を第
３の管から排出するように構成されている。

【０００５】ところが、この種の構成では、図８に示す
ように、ノズル５２から基板５３に供給した溶剤５４が
基板５３の中央側に形成された薄膜５５にしみこみ、溶
剤が吐出された洗浄部分と薄膜部分との境界部におい
て、溶剤で一旦溶解された薄膜材が盛り上がる欠点があ
った。このような盛り上がり部分５６の高さは、例え
ば、薄膜５５の厚みを１μｍとした場合で３μｍ以上に
もなり、そのまま後工程に移行すると、盛り上がり部分
５６を除去することが困難になるため、別途、例えば、
盛り上がり部分５６を特に露光するなどといったよう
に、盛り上がり部分５６を除去するための特別な処理が
必要となって生産性が低下することになってしまう。

【０００６】また、本願出願人は、基板端縁の不要薄膜
を洗浄除去するために、次のような基板端縁洗浄装置を
先に提案した（特願平３−３５７１３１号）。

【０００７】この提案した基板端縁洗浄装置によれば、
基板保持手段によって保持されている基板の端縁の表裏
両面それぞれに向けて溶剤を吐出する溶剤ノズルと、気
体を吐出して溶剤ノズルから吐出された溶剤によって溶
解された溶解物を外方に吹き飛ばすガスノズルとを設
け、溶剤ノズルおよびガスノズルを、基板の端縁に沿わ
せて移動させ、溶剤および溶解物をガスノズルで吹き飛
ばしている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た基板端縁洗浄装置であっても、先と同様に図８に示す
ような盛り上がり部分５６が生じ得る。また、かかる装
置において、ガスノズルから吹き出される気体の流量を
多く、流速を速くして、盛り上がり部分の発生を軽減す
ることが試みられたが、ガスノズルからそのように強く
気体を吹き出すと、その影響を受けて、基板の中央側に
形成されている薄膜の均一性が悪化してしまう。また、
上述の装置においては、溶剤ノズルとガスノズルとが基
板の端縁に沿った方向（図８における紙面垂直方向）に
関して同一の位置に設けられているため、ガスノズルか
ら強く気体を吹き出すと、その気体により溶剤の流れが
外方に押されて移動し、溶剤が基板に当たる位置が、基
板端縁寄りに移動してしまい、洗浄除去されるべき端縁
の不要薄膜の除去が不十分になり、また盛り上がり部分
の発生防止も不十分であった。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、溶剤の流れを移動させることがなく、
すなわち、不要薄膜の除去が十分に行え、しかも基板の
中央側に形成されている薄膜の均一性を乱すことなく、
溶剤のしみこみに起因する盛り上がりを効果的に無くす
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の基板端縁洗浄装
置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜
が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板
保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少
なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルを基板の端縁に沿わ
せて相対的に移動する移動手段と、溶剤ノズルと一体的
に移動可能に、かつ、基板に対する溶剤ノズルによる溶
剤吐出位置よりも溶剤ノズルの前記基板に対する相対移
動方向後方側に気体を吐出するように設けられて、溶解
物を基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを
備えて構成する。

【００１１】使用する溶剤としては、フォトレジスト塗
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロル
エチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタ
ン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロ
ゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエ
ーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキ
サイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解
する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ
ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトン
などを用いることができ、そして、これらの液体中に基
板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良
い。ガスノズルから供給する気体としては、窒素ガスな
どの不活性ガスやヘリウムガス、ネオンガス、アルゴン
ガス、あるいは空気等を用いることができる。

【００１２】

【作用】本発明の基板端縁洗浄装置の構成によれば、表
面に均一に薄膜を形成した基板を基板保持手段に保持
し、その基板の端縁に沿わせて移動手段により溶剤ノズ
ルおよびガスノズルを相対的に直線移動し、溶剤ノズル
から基板の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を
吐出して基板の端縁の薄膜を溶解し、溶剤を吐出した後
の箇所にガスノズルから気体を吐出して、溶剤が薄膜側
にしみこんで盛り上がろうとするのを防止するととも
に、溶剤および溶解物を基板の端縁よりも外方に吹き飛
ばして除去することができる。

【００１３】ガスノズルにより気体を吐出する位置は、
溶剤ノズルによる溶剤吐出位置よりも溶剤ノズルの基板
に対する相対移動方向後方側であるので、気体が溶剤の
流れを移動させることはない。

【００１４】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。

【００１５】図１は、本発明の第１実施例に係る基板端
縁洗浄装置の概略斜視図であり、回転塗布によって表面
に薄膜が形成された角型基板１を載置保持する基板保持
手段２の横一側方に基板端縁洗浄具３が備えられて、基
板端縁洗浄装置４が構成されている。

【００１６】図２の一部切欠側面図に示すように、基台
Ｂに、第１のエアーシリンダ５と一対のガイド６，６を
介してモータ支持台７が昇降可能に設けられ、そのモー
タ支持台７上に第１の電動モータ８が設けられるととも
に、第１の電動モータ８のモータ軸８ａに角型基板１を
載置する基板載置プレート９が中空筒軸１０を介して一
体的に設けられ、基板載置プレート９上に載置した角型
基板１を90°づつ回転できるように基板保持手段２が構
成されている。

【００１７】基板載置プレート９の上面に吸着孔１１…
が形成されるとともに、基板載置プレート９内に吸着孔
１１…それぞれに連通する第１の連通孔１２が形成さ
れ、更に、中空筒軸１０を回転可能に保持する軸受部材
１３に吸気管１４が接続されるとともに内部に第２の連
通孔１５が形成され、また、その第２の連通孔１５と同
一高さレベルにおいて、中空筒軸１０に径方向を向いた
第３の連通孔１６が形成され、軸受部材１３の内周面に
上下方向に所定間隔を隔ててＯ−リング１７，１７が設
けられて第２の連通孔１５と第３の連通孔１６とを連通
する環状の空間が形成され、基板載置プレート９上に載
置された角型基板１を真空吸着によって保持するように
構成されている。

【００１８】前記基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１８
と、その洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて
直線移動する移動手段１９と、洗浄具本体１８を角型基
板１の端縁に対して遠近変位する位置調整手段２０とか
ら構成されている。

【００１９】箱形状の第１の支持枠２１に、角型基板１
の端縁に対して遠近する方向に固定位置を微調整可能に
アングル形状の第２の支持枠２２が取り付けられるとと
もに、その第２の支持枠２２に、上下方向に固定位置を
微調整可能に第３の支持枠２３が取り付けられ、その第
３の支持枠２３に第４および第５の支持枠２４，２５が
一体的に取り付けられ、第３の支持枠２３に、角型基板
１の端縁の裏面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第
１の溶剤ノズル２６ａと、気体を吐出して溶解物を角型
基板１の端縁よりも外方に吹き飛ばす第１のガスノズル
２７ａとが設けられ、一方、第４の支持枠２４に、角型
基板１の端縁の表面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解す
る第２の溶剤ノズル２６ｂが設けられるとともに、第５
の支持枠２５に、気体を吐出して溶解物を角型基板１の
端縁よりも外方に吹き飛ばす第２のガスノズル２７ｂが
設けられ、角型基板１の端縁を洗浄する前記洗浄具本体
１８が構成されている。

【００２０】前記基台Ｂに、一対のガイド２８，２８と
第２のエアーシリンダ２９とを介して、角型基板１に対
して遠近する方向に駆動移動可能に取付台３０が設けら
れ、洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に対して遠近変
位させ、洗浄具本体１８を角型基板１の長辺側端縁に沿
わせて移動する状態と、短辺側端縁に沿わせて移動する
状態とに切換えることができるように前記位置調整手段
２０が構成されている。

【００２１】前記取付台３０に、主動プーリー３１と従
動プーリー３２とが取り付けられ、両プーリー３１，３
２にベルト３３が巻回されるとともに主動プーリー３１
に第２の電動モータ３４が連動連結され、そして、ベル
ト３３に第１の支持枠２１が一体的に取り付けられると
ともに、ガイド３５を介して直線的に移動するように案
内され、洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて
直線移動するように前記移動手段１９が構成されてい
る。

【００２２】第３の支持枠２３に、排気路形成部材３６
が設けられ、この排気路形成部材３６の、第１および第
２の溶剤ノズル２６ａ，２６ｂ、ならびに、第１および
第２のガスノズル２７ａ，２７ｂ側の箇所に、外拡がり
の排気口３７が形成されるとともに、排気路形成部材３
６に、排気手段（図示せず）に接続された排気管３８が
接続され、気体とともにそれによって吹き飛ばされた溶
解物を吸引排出し、吹き飛ばされた溶解物が不測に角型
基板１の外面に飛散付着することを確実に防止できるよ
うに構成されている。なお、排気口３７の基板端縁方向
の長さは、対応する第１および第２のガスノズル２７
ａ，２７ｂの基板端縁方向の長さよりも長く構成されて
いる。

【００２３】前記排気管３８、第１および第２溶剤ノズ
ル２６ａ，２６ｂそれぞれに接続された溶剤供給管３９
ａ，３９ｂ、ならびに、第１および第２ガスノズル２７
ａ，２７ｂそれぞれに接続されたガス供給管４０ａ，４
０ｂは、洗浄具本体１８の移動を許容するようにいずれ
も可撓性を有する材料で構成されている。

【００２４】以下、第２の溶剤ノズル２６ｂおよび第２
のガスノズル２７ｂを例にして説明するが、第１の溶剤
ノズル２６ａおよび第１のガスノズル２７ａも同様に構
成されるものである。

【００２５】第２のガスノズル２７ｂは、図３の（ａ）
の斜視図、図３の（ｂ）の側面図、および、図３の
（ｃ）の平面図に示すように、箱型形状に構成されると
ともに、その角型基板１の端縁に沿う方向の吐出口中央
箇所の内部に、テフロン樹脂等のパッキング４１を設
け、これによりそのパッキング４１の部分からは気体を
吐出しないようにして、第２のガスノズル２７ｂから吐
出される気体の流れを２つに分割するように構成されて
いる。

【００２６】第２のガスノズル２７ｂのパッキングの上
方相当箇所、すなわち、第２のガスノズル２７ｂからの
気体の吐出がない箇所に第２の溶剤ノズル２６ｂが設け
られ（第１の溶剤ノズル２６ａの場合は第１のガスノズ
ル２７ａのパッキングの下方相当箇所になる）、かつ、
第２の溶剤ノズル２６ｂによる角型基板１に対する溶剤
吐出位置Ａ［図３の（ｃ）に黒点で示している］と、第
２のガスノズル２７ｂによる角型基板１に対する気体吐
出位置Ｂ［図３の（ｃ）に実線で示している］とが、角
型基板１の端縁から等距離の位置になるように設定され
ている。この実施例では、基板が角型基板１であり、そ
の各辺の端縁は直線であるので、溶剤吐出位置Ａと気体
吐出位置Ｂとは角型基板１上で直線上に位置する。

【００２７】この構成により、第２の溶剤ノズル２６ｂ
と第２のガスノズル２７ｂとを角型基板１の端縁に沿っ
て往復移動するときに、その移動方向で溶剤吐出位置の
前後の箇所に気体を吐出し、第２の溶剤ノズル２６ｂか
ら吐出される溶剤を気体によって押して移動させること
無く、その溶剤により薄膜を洗浄除去しようとする端縁
側の部分（以下、洗浄部という）と、その内側（角型基
板１の中央側）であって薄膜を除去しない部分（以下、
薄膜部という）との境界に気体を正確に吐出するように
なっている。

【００２８】図４の（ａ）は第２実施例の平面図であ
り、第２のガスノズル２７ｂの内部の中央箇所に、角型
基板１の端縁に沿う方向に長いパッキング４１ａが設け
られ、そのパッキング４１ａの上方相当箇所に、４本の
第２の溶剤ノズル２６ｂ…が設けられている。

【００２９】図４の（ｂ）は第３実施例の平面図であ
り、第２のガスノズル２７ｂの内部に、角型基板１の端
縁に沿う方向に所定間隔を隔ててパッキング４１ｂ…が
設けられ、そのパッキング４１ｂ…それぞれの上方相当
箇所に、４本の第２の溶剤ノズル２６ｂ…が設けられて
いる。

【００３０】図４の（ｃ）は第４実施例の平面図であ
り、棒状の第２のガスノズル２７ｂ…が角型基板１の端
縁に沿う方向に所定間隔を隔てて設けられ、かつ、隣合
う第２のガスノズル２７ｂ，２７ｂの間それぞれに第２
の溶剤ノズル２６ｂが設けられている。

【００３１】図５は第５実施例の平面図であり、中空で
箱形状の筒体４２の内部に、角型基板１の端縁に沿う方
向に所定間隔を隔ててパッキング４１ｃ…が設けられ、
その内部空間が５個の空間に仕切られ、その内の中央部
と両端それぞれの合計３個の空間が第２のガスノズル２
７ｂに構成され、残りの２個の空間が補助のガスノズル
４３，４３に構成され、その補助のガスノズル４３，４
３それぞれの上方相当箇所に第２の溶剤ノズル２６ｂが
設けられている。

【００３２】前記第２のガスノズル２７ｂ…および補助
のガスノズル４３，４３に、図６の溶剤および気体の供
給構成の回路図に示すように、第１の自動開閉弁４４を
介装したメインガス供給管４５が、それぞれ第１の流量
調節弁４６を介装した分岐ガス供給管４７を介して接続
され、一方、第２の溶剤ノズル２６ｂ，２６ｂに、第２
の自動開閉弁４８および第２の流量調節弁４９を介装し
たメイン溶剤供給管５０が分岐溶剤供給管５１を介して
接続されている。

【００３３】この第５実施例の構成によれば、角型基板
１の表面に形成された薄膜の種類に応じて、第１の流量
調節弁４６により第２のガスノズル２７ｂ…から気体吐
出位置Ｂに吐出する気体の流量を調節するとともに、第
２の流量調節弁４９…により第２の溶剤ノズル２６ｂ，
２６ｂから溶剤吐出位置Ａに吐出する溶剤の流量を調節
している。そして更に、本実施例においては、溶剤吐出
位置Ａに対しても第２の流量調節弁４９，４９により補
助のガスノズル４３，４３から吐出する気体の流量を調
節して少量の気体を供給し、吐出する溶剤の量を多くし
たときに、その溶剤が薄膜側に必要以上に拡がることを
防止することができるようになっている。この補助のガ
スノズル４３，４３から吐出する気体の量は極めて少量
で、溶剤を押すには至らないもので、前述したように溶
剤の薄膜側への拡散を阻止できるに足る程度のものであ
る。

【００３４】なお、上記第２ないし第５の実施例におい
ては、洗浄具本体１８について、第１の実施例と異なる
部分のみ説明したが、その他の構成部分は第１の実施例
と同一である。

【００３５】上記実施例では、基板保持手段２に対して
洗浄具本体１８を移動するように構成しているが、洗浄
具本体１８を固定し、その洗浄具本体１８に対して基板
保持手段２を移動するように構成しても良く、要する
に、第１および第２の溶剤ノズル２６ａ，２６ｂ、なら
びに、第１および第２のガスノズル２７ａ，２７ｂと角
型基板１とを相対的に直線移動するように構成するもの
であれば良い。

【００３６】また、洗浄具本体１８を直交する方向に移
動可能に２個設け、一方を長辺用に、そして、他方を短
辺用にして、一挙に長短両端縁の不要薄膜を溶解除去
し、その後、角型基板１を 180°回転させ、残りの長短
両端縁の不要薄膜を溶解除去できるように構成しても良
い。この場合には、前述した位置調整手段２０は不用で
ある。

【００３７】また、上記実施例では、基板端縁の表裏両
面に溶剤を吐出するように構成しているが、例えば、回
転可能に保持された角型基板１の下方側に溶剤を供給
し、角型基板１の裏面に回り込んで形成される薄膜を溶
解除去するように構成した裏面洗浄タイプの回転塗布装
置で回転塗布により薄膜が形成された角型基板１に対し
ては、角型基板１の端縁の表面側にのみ溶剤を吐出する
ように構成するとか、あるいは、角型基板１の端縁の裏
面側にのみ溶剤を吐出して表面張力により表面側に回り
込ませるように構成するなど、角型基板１の端縁の表裏
両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するように
構成すれば良い。

【００３８】また、上記実施例では、移動手段１９は、
洗浄具本体１８を角型基板１の端縁に沿わせて直線往復
移動するようになっている。したがって、第１および第
２の溶剤ノズル２６ａ，２６ｂによる溶剤吐出位置Ａに
対して、その移動方向前後の位置に第１および第２のガ
スノズル２７ａ，２７ｂから気体を吐出するように構成
し、角型基板１の端縁に沿って往復移動するときに対処
できるようにしているが、往復移動しない場合であれ
ば、第１および第２の溶剤ノズル２６ａ，２６ｂの移動
方向後方側にのみ設けるようにしても良い。図７はこの
場合の実施例を示す。ここでは、第２の溶剤ノズル２６
ｂおよび第２のガスノズル２７ｂは角型基板１に対して
図中左右方向に移動するので、第２のガスノズル２７ｂ
はその移動方向後方側である図中右側に設けられてい
る。

【００３９】また、上記実施例では、角型基板１につい
て説明したが、本発明は各型以外の基板、例えば、円形
の半導体ウエハを処理する場合に対しても適用できる。
その場合も、溶剤ノズルの基板に対する相対移動方向後
方側に気体を吐出するガスノズルを設けるなどにより、
溶剤を吐出した後の箇所に気体を吐出するように構成す
れば良い。この場合、基板上での溶剤吐出位置および気
体吐出位置は、円形基板の端縁に沿って円弧を描く形に
なる。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の基板端縁洗浄装置によれば、基板の端縁に沿わせて移
動手段により溶剤ノズルおよびガスノズルを相対的に直
線移動し、溶剤ノズルから基板の表裏両面の少なくとも
いずれか一方に溶剤を吐出して基板の端縁の薄膜を溶解
し、溶剤を吐出した後の箇所にガスノズルから気体を吐
出して、盛り上がりを防止するとともに、溶剤および溶
解物を外方に吹き飛ばすから、溶剤を気体によって押す
ことが無く、溶剤による洗浄部と薄膜部との境界を移動
させることを確実に回避でき、しかも、吐出する気体の
流量を境界の移動の心配無く好適な状態に容易に調整で
きるから、溶剤の流れを移動させることがなく、基板の
端縁の所望部分の不用薄膜の除去を十分に行うことがで
きる。しかも、基板の中央側に形成されている薄膜の均
一性を乱すことがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板端縁洗浄装置の
概略斜視図である。

【図２】一部切欠全体側面図である。

【図３】（ａ）は要部の斜視図、（ｂ）は側面図、そし
て、（ｃ）は平面図である。

【図４】（ａ）は第２実施例の平面図、（ｂ）は第３実
施例の平面図、そして、（ｃ）は第４実施例の平面図で
ある。

【図５】第５実施例の平面図である。

【図６】溶剤および気体の供給構成の回路図である。

【図７】第６実施例の平面図である。

【図８】従来例を示す断面図である。

【符号の説明】 １…角型基板 ２…基板保持手段 １９…移動手段 ２６ａ…第１の溶剤ノズル ２６ｂ…第２の溶剤ノズル ２７ａ…第１のガスノズル ２７ｂ…第２のガスノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉野 裕文 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る４丁 目天神北町１番地の１ 大日本スクリーン 製造株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が形成された基板を保持する
   基板保持手段と、 その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の
   表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不
   要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、 前記溶剤ノズルを前記基板の端縁に沿わせて相対的に移
   動する移動手段と、 前記溶剤ノズルと一体的に移動可能に、かつ、前記基板
   に対する前記溶剤ノズルによる溶剤吐出位置よりも、前
   記溶剤ノズルの前記基板に対する相対移動方向後方側に
   気体を吐出するように設けられて、溶解物を前記基板の
   端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、 を備えた基板端縁洗浄装置。