JP2948055B2 - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents
基板端縁洗浄装置Info
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- Japan
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- solvent
- edge
- exhaust pipe
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回転塗布によって、フ
ォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフ
ィルター用の染色剤といった薄膜が表面に形成された液
晶用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板、半導
体ウエハなどの基板に対し、その薄膜形成後の基板の端
縁に溶剤を吐出して、基板の端縁に付着した不要薄膜を
溶解除去するために、回転塗布によって表面に薄膜が形
成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板
保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少
なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤
および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁
洗浄装置に関する。
ォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフ
ィルター用の染色剤といった薄膜が表面に形成された液
晶用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板、半導
体ウエハなどの基板に対し、その薄膜形成後の基板の端
縁に溶剤を吐出して、基板の端縁に付着した不要薄膜を
溶解除去するために、回転塗布によって表面に薄膜が形
成された基板を載置保持する基板保持手段と、その基板
保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少
なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤
および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁
洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述のような基板端縁洗浄装置として
は、従来、特公平３−７８７７７号公報に開示されてい
るものがあった。この従来例によれば、表面に薄膜が形
成された基板の周縁部の上面と下面に対向して第１の管
と第２の管が設けられるとともに、第１および第２の管
の間の間隙部でかつ基板端部の延長上に第３の管が設け
られ、第１および第２の管から基板の周縁部の上面と下
面に溶剤を供給するとともに、それらの溶剤ならびに溶
解除去された不要薄膜を第３の管から吸引排出できるよ
うに構成されている。
は、従来、特公平３−７８７７７号公報に開示されてい
るものがあった。この従来例によれば、表面に薄膜が形
成された基板の周縁部の上面と下面に対向して第１の管
と第２の管が設けられるとともに、第１および第２の管
の間の間隙部でかつ基板端部の延長上に第３の管が設け
られ、第１および第２の管から基板の周縁部の上面と下
面に溶剤を供給するとともに、それらの溶剤ならびに溶
解除去された不要薄膜を第３の管から吸引排出できるよ
うに構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た基板端縁洗浄装置では、第１および第２の管の開口端
と第３の管の開口端とが近接しているものの、排気時に
その吸引力を十分作用させることができず、また、第３
の管内において、気流の乱れを生じ、第１および第２の
管から吐出された溶剤をすぐに排出しにくく、基板の端
縁に近い位置で不測に残り、その残った溶剤が基板の端
部に付着してフォトレジストの塗布面に侵入し、基板に
塗布された膜厚の均一性を低下する欠点があった。
た基板端縁洗浄装置では、第１および第２の管の開口端
と第３の管の開口端とが近接しているものの、排気時に
その吸引力を十分作用させることができず、また、第３
の管内において、気流の乱れを生じ、第１および第２の
管から吐出された溶剤をすぐに排出しにくく、基板の端
縁に近い位置で不測に残り、その残った溶剤が基板の端
部に付着してフォトレジストの塗布面に侵入し、基板に
塗布された膜厚の均一性を低下する欠点があった。
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、排気管による吸引力を良好に作用でき
るようにして、溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶
解された不要薄膜を良好に吸引排出できるようにするこ
とを目的とする。
たものであって、排気管による吸引力を良好に作用でき
るようにして、溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶
解された不要薄膜を良好に吸引排出できるようにするこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するため
に、回転塗布によって表面に薄膜が形成された基板を載
置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって
保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を
溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された
溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板
端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端
縁を挟んで上下両方に設け、前記排気管の開口端を前記
基板保持手段に保持された前記基板の端縁よりも中央側
に突出させるとともに、基板に対して非接触状態で基板
の中央側に向けて開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、
前記排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設け
て構成する。
板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するため
に、回転塗布によって表面に薄膜が形成された基板を載
置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって
保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を
溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから吐出された
溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを備えた基板
端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端
縁を挟んで上下両方に設け、前記排気管の開口端を前記
基板保持手段に保持された前記基板の端縁よりも中央側
に突出させるとともに、基板に対して非接触状態で基板
の中央側に向けて開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、
前記排気管の開口端よりも内奥側に位置する状態で設け
て構成する。
【０００６】請求項２に係る発明の基板端縁洗浄装置
は、上述のような目的を達成するために、回転塗布によ
って表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保
持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基
板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズ
ルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物
を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置にお
いて、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両
方に設け、前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保
持された前記基板の端縁よりも中央側に突出させるとと
もに、基板に対して非接触状態で基板の中央側に向けて
開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口
端よりも内奥側に位置する状態で設け、かつ前記排気管
と溶剤ノズルとを一体に基板の端縁に沿って移動可能に
構成する。
は、上述のような目的を達成するために、回転塗布によ
って表面に薄膜が形成された基板を載置保持する基板保
持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基
板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズ
ルと、その溶剤ノズルから吐出された溶剤および溶解物
を吸引排出する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置にお
いて、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両
方に設け、前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保
持された前記基板の端縁よりも中央側に突出させるとと
もに、基板に対して非接触状態で基板の中央側に向けて
開放し、前記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口
端よりも内奥側に位置する状態で設け、かつ前記排気管
と溶剤ノズルとを一体に基板の端縁に沿って移動可能に
構成する。
【０００７】使用する溶剤としては、フォトレジスト塗
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロル
エチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタ
ン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロ
ゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエ
ーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキ
サイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解
する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ
ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトン
などを用いることができ、そして、これらの液体中に基
板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良
い。
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロル
エチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタ
ン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロ
ゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエ
ーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキ
サイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解
する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ
ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトン
などを用いることができ、そして、これらの液体中に基
板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良
い。
【０００８】
【作用】請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置の構成
によれば、回転塗布によって表面に均一に薄膜を形成し
た基板を基板保持手段に載置保持し、その基板の表裏両
面の端縁に排気管の開口端よりも内奥側で上下両方に設
けられた溶剤ノズルから溶剤を吐出して基板の端縁の薄
膜を溶解し、その溶解した不要薄膜ならびに溶剤を排気
管を通じて即座に吸引排出して除去することができる。
によれば、回転塗布によって表面に均一に薄膜を形成し
た基板を基板保持手段に載置保持し、その基板の表裏両
面の端縁に排気管の開口端よりも内奥側で上下両方に設
けられた溶剤ノズルから溶剤を吐出して基板の端縁の薄
膜を溶解し、その溶解した不要薄膜ならびに溶剤を排気
管を通じて即座に吸引排出して除去することができる。
【０００９】請求項２に係る発明の基板端縁洗浄装置の
構成によれば、排気管の開口端よりも内奥側の上下両方
に設けられた溶剤ノズルと、排気管とを一体に基板端縁
に沿って移動させながら、上下の溶剤ノズルから溶剤を
吐出して基板の端縁の薄膜を溶解し、その溶解した不要
薄膜ならびに溶剤を排気管を通じて即座に吸引排出して
除去することができる。
構成によれば、排気管の開口端よりも内奥側の上下両方
に設けられた溶剤ノズルと、排気管とを一体に基板端縁
に沿って移動させながら、上下の溶剤ノズルから溶剤を
吐出して基板の端縁の薄膜を溶解し、その溶解した不要
薄膜ならびに溶剤を排気管を通じて即座に吸引排出して
除去することができる。
【００１０】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。図１は、本発明の第１実施例に係る基板端縁
洗浄装置の一部切欠全体概略側面図、図２は全体概略平
面図であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された
角型基板１を載置して真空吸着により保持する基板保持
手段２の周囲４箇所それぞれに、角型基板１の表面およ
び裏面の端縁にそれぞれ溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する上下の溶剤ノズル３…と、溶剤および溶解した不要
薄膜を吸引する排気管４…とが備えられて、基板端縁洗
浄装置５が構成されている。なお、図１では下側の溶剤
ノズル３の図示を省略してある。
説明する。図１は、本発明の第１実施例に係る基板端縁
洗浄装置の一部切欠全体概略側面図、図２は全体概略平
面図であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された
角型基板１を載置して真空吸着により保持する基板保持
手段２の周囲４箇所それぞれに、角型基板１の表面およ
び裏面の端縁にそれぞれ溶剤を吐出して不要薄膜を溶解
する上下の溶剤ノズル３…と、溶剤および溶解した不要
薄膜を吸引する排気管４…とが備えられて、基板端縁洗
浄装置５が構成されている。なお、図１では下側の溶剤
ノズル３の図示を省略してある。
【００１１】図３の要部の側面図、および、図４の要部
の斜視図に示すように、排気管４に、接続チューブ６ａ
とドレンタンク６ｂとを介して真空吸引源６ｃが接続さ
れるとともに、排気管４の開口端４ａが、基板保持手段
２に保持された角型基板１の端縁よりも中央側に突出さ
れるとともに、角型基板１に対して非接触状態で角型基
板１の中央側に向けて開放されている。その突出した上
側部分および下側部分に２本の溶剤ノズル３，３がそれ
ぞれ差し込まれ、各溶剤ノズル３の吐出端が、排気管４
の開口端４ａよりも内奥側に位置され、排気流が高速の
箇所で溶剤を吐出して角型基板１の表裏面の端縁洗浄を
同時に行うように構成されている。
の斜視図に示すように、排気管４に、接続チューブ６ａ
とドレンタンク６ｂとを介して真空吸引源６ｃが接続さ
れるとともに、排気管４の開口端４ａが、基板保持手段
２に保持された角型基板１の端縁よりも中央側に突出さ
れるとともに、角型基板１に対して非接触状態で角型基
板１の中央側に向けて開放されている。その突出した上
側部分および下側部分に２本の溶剤ノズル３，３がそれ
ぞれ差し込まれ、各溶剤ノズル３の吐出端が、排気管４
の開口端４ａよりも内奥側に位置され、排気流が高速の
箇所で溶剤を吐出して角型基板１の表裏面の端縁洗浄を
同時に行うように構成されている。
【００１２】また、排気管４は、その鉛直方向での開口
断面積が開口端４ａから離れる程小さくなるように構成
され、真空吸引源６ｃの排気吸引力が比較的小さくて
も、開口端４ａでの排気流をより高速にできるようにな
っている。
断面積が開口端４ａから離れる程小さくなるように構成
され、真空吸引源６ｃの排気吸引力が比較的小さくて
も、開口端４ａでの排気流をより高速にできるようにな
っている。
【００１３】前記溶剤ノズル３，３および排気管４がノ
ズルブロック７に一体的に取り付けられ、そのノズルブ
ロック７を取り付けた支持アーム８が、固定フレーム９
に付設した上下一対のガイド１０，１０を介して、角型
基板１の端縁に沿って移動可能に設けられている。
ズルブロック７に一体的に取り付けられ、そのノズルブ
ロック７を取り付けた支持アーム８が、固定フレーム９
に付設した上下一対のガイド１０，１０を介して、角型
基板１の端縁に沿って移動可能に設けられている。
【００１４】基板保持手段２に保持された角型基板１の
ひとつの角部に対応する箇所に、正逆転可能な駆動機構
としての電動モータ１１を設けたモータブラケット１２
が立設されるとともに、電動モータ１１の駆動軸に駆動
プーリー１３が連動連結されている。
ひとつの角部に対応する箇所に、正逆転可能な駆動機構
としての電動モータ１１を設けたモータブラケット１２
が立設されるとともに、電動モータ１１の駆動軸に駆動
プーリー１３が連動連結されている。
【００１５】基板保持手段２に保持された角型基板１の
ひとつの角部に対応する箇所に１個の遊転プーリー１４
が、そして、他の３箇所の角部に対応する箇所に２個づ
つの遊転プーリー１４，１４がそれぞれ設けられ、駆動
プーリー１３と遊転プーリー１４…とにわたって一対の
ワイヤー１５，１５が巻回され、そのワイヤー１５，１
５の所定の四箇所それぞれに支持アーム８が連結され、
電動モータ１１の正逆転により、四個の溶剤ノズル３
…、排気管４…それぞれを角型基板１の各辺に沿わせて
往復移動し、角型基板１の端縁を洗浄できるように構成
されている。
ひとつの角部に対応する箇所に１個の遊転プーリー１４
が、そして、他の３箇所の角部に対応する箇所に２個づ
つの遊転プーリー１４，１４がそれぞれ設けられ、駆動
プーリー１３と遊転プーリー１４…とにわたって一対の
ワイヤー１５，１５が巻回され、そのワイヤー１５，１
５の所定の四箇所それぞれに支持アーム８が連結され、
電動モータ１１の正逆転により、四個の溶剤ノズル３
…、排気管４…それぞれを角型基板１の各辺に沿わせて
往復移動し、角型基板１の端縁を洗浄できるように構成
されている。
【００１６】（削除）
【００１７】図５の（ａ）は、本発明に係る基板端縁洗
浄装置の第２実施例を示す要部の側面図、図５の（ｂ）
はその平面図であり、第１実施例と異なるところは次の
通りである。すなわち、排気管４が開口端４ａに近い所
定長さの部分が、角型基板１の面に平行で、かつ、基板
面に直交する方向での長さが等しくなるように構成さ
れ、そして、排気管４の開口端４ａが突出した上側部分
および下側部分にそれぞれ８本の溶剤ノズル３…が差し
込まれている。他の構成は第１実施例と同じであり、同
一図番を付すことにより、その説明は省略する。
浄装置の第２実施例を示す要部の側面図、図５の（ｂ）
はその平面図であり、第１実施例と異なるところは次の
通りである。すなわち、排気管４が開口端４ａに近い所
定長さの部分が、角型基板１の面に平行で、かつ、基板
面に直交する方向での長さが等しくなるように構成さ
れ、そして、排気管４の開口端４ａが突出した上側部分
および下側部分にそれぞれ８本の溶剤ノズル３…が差し
込まれている。他の構成は第１実施例と同じであり、同
一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００１８】上述実施例では、基板端縁洗浄装置をフォ
トレジスト塗布液などによる薄膜形成のための回転塗布
装置とは別に専用に構成し、スループットを向上できる
ように構成しているが、本発明としては、回転塗布装置
内に組み込み、回転塗布装置の基板保持手段を基板端縁
洗浄装置の基板保持手段２に兼用構成するものでも良
い。
トレジスト塗布液などによる薄膜形成のための回転塗布
装置とは別に専用に構成し、スループットを向上できる
ように構成しているが、本発明としては、回転塗布装置
内に組み込み、回転塗布装置の基板保持手段を基板端縁
洗浄装置の基板保持手段２に兼用構成するものでも良
い。
【００１９】また、上記実施例では、基板保持手段２に
保持された角型基板１の４辺それぞれに対応して溶剤ノ
ズル３と排気管４とを設けているが、本発明としては、
１辺にのみ対応させて設けるものでも良い。
保持された角型基板１の４辺それぞれに対応して溶剤ノ
ズル３と排気管４とを設けているが、本発明としては、
１辺にのみ対応させて設けるものでも良い。
【００２０】また、本発明は角型基板１に限らず、円形
の基板を洗浄処理する基板端縁洗浄装置にも適用でき
る。
の基板を洗浄処理する基板端縁洗浄装置にも適用でき
る。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の基板端縁洗浄装置によれば、排気管の開
口端よりも内奥側で上下両方に設けられた溶剤ノズルか
ら溶剤を吐出して基板の表裏面の端縁の薄膜を溶解し、
その溶解した不要薄膜ならびに溶剤を排気管を通じて吸
引排出するから、排気管による吸引力を良好に作用させ
て、排気流が高速の箇所で洗浄でき、排気管の開口端に
溶剤などが残って基板端縁に付着することを回避でき、
膜厚の均一性を向上できるようになった。
１に係る発明の基板端縁洗浄装置によれば、排気管の開
口端よりも内奥側で上下両方に設けられた溶剤ノズルか
ら溶剤を吐出して基板の表裏面の端縁の薄膜を溶解し、
その溶解した不要薄膜ならびに溶剤を排気管を通じて吸
引排出するから、排気管による吸引力を良好に作用させ
て、排気流が高速の箇所で洗浄でき、排気管の開口端に
溶剤などが残って基板端縁に付着することを回避でき、
膜厚の均一性を向上できるようになった。
【００２２】請求項２に係る発明の基板端縁洗浄装置に
よれば、排気管の開口端よりも内奥側の上下両方に設け
られた溶剤ノズルと、排気管とを一体に基板端縁に沿っ
て移動させながら、上下の溶剤ノズルから溶剤を吐出し
て基板の端縁の薄膜を溶解し、その溶解した不要薄膜な
らびに溶剤を排気管を通じて吸引排出するので、基板端
縁の薄膜を一層均一かつ迅速に除去することができるよ
うになった。
よれば、排気管の開口端よりも内奥側の上下両方に設け
られた溶剤ノズルと、排気管とを一体に基板端縁に沿っ
て移動させながら、上下の溶剤ノズルから溶剤を吐出し
て基板の端縁の薄膜を溶解し、その溶解した不要薄膜な
らびに溶剤を排気管を通じて吸引排出するので、基板端
縁の薄膜を一層均一かつ迅速に除去することができるよ
うになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例に係る基板端縁洗浄装置の
一部切欠全体概略側面図である。
一部切欠全体概略側面図である。
【図２】全体概略平面図である。
【図３】要部の側面図である。
【図４】要部の斜視図である。
【図５】（ａ）は本発明の第２実施例に係る基板端縁洗
浄装置の要部の側面図、（ｂ）は（ａ）の平面図であ
る。
浄装置の要部の側面図、（ｂ）は（ａ）の平面図であ
る。
１…角型基板 ２…基板保持手段 ３…溶剤ノズル ４…排気管 ４ａ…排気管の開口端 ５…基板端縁洗浄装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−192717（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−157763（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−53121（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−78025（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 回転塗布によって表面に薄膜が形成され
た基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手
段によって保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して
不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから
吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを
備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両方に設
け、 前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保持された前
記基板の端縁よりも中央側に突出させるとともに、基板
に対して非接触状態で基板の中央側に向けて開放し、前
記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口端よりも内
奥側に位置する状態で設けたことを特徴とする基板端縁
洗浄装置。 - 【請求項２】 回転塗布によって表面に薄膜が形成され
た基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手
段によって保持された前記基板の端縁に溶剤を吐出して
不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、その溶剤ノズルから
吐出された溶剤および溶解物を吸引排出する排気管とを
備えた基板端縁洗浄装置において、 前記溶剤ノズルを前記基板の端縁を挟んで上下両方に設
け、 前記排気管の開口端を前記基板保持手段に保持された前
記基板の端縁よりも中央側に突出させるとともに、基板
に対して非接触状態で基板の中央側に向けて開放し、前
記溶剤ノズルの吐出端を、前記排気管の開口端よりも内
奥側に位置する状態で設け、かつ前記排気管と溶剤ノズ
ルとを一体に基板の端縁に沿って移動可能に構成したこ
とを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12067193A JP2948055B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 基板端縁洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12067193A JP2948055B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 基板端縁洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06310422A JPH06310422A (ja) | 1994-11-04 |
| JP2948055B2 true JP2948055B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=14792052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12067193A Expired - Lifetime JP2948055B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 基板端縁洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2948055B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6805769B2 (en) | 2000-10-13 | 2004-10-19 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US6827814B2 (en) | 2000-05-08 | 2004-12-07 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus, processing system and processing method |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4910797B2 (ja) * | 2007-03-14 | 2012-04-04 | パナソニック株式会社 | 基板洗浄装置 |
| CN112024500B (zh) * | 2020-08-24 | 2022-04-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 清洗装置 |
-
1993
- 1993-04-22 JP JP12067193A patent/JP2948055B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6827814B2 (en) | 2000-05-08 | 2004-12-07 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus, processing system and processing method |
| US6805769B2 (en) | 2000-10-13 | 2004-10-19 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06310422A (ja) | 1994-11-04 |
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