JP2008292761A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 投影光学系を有し、前記投影光学系を介して原版に形成されたパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
   前記投影光学系を収容するチャンバと、
   前記チャンバの内部に温度制御されたガスを供給する供給管と前記チャンバの内部からガスを排出する排出管と前記供給管によるガス供給及び前記排出管によるガス排出を制御する制御器とを含み、前記チャンバの内部の温度を調節する温度調節ユニットと、
   を備え、
   前記制御器は、前記ガス供給及び前記ガス排出を、露光時には行わず、非露光時に行うように制御する、ことを特徴とする露光装置。
2. 前記排出管の排出口は、前記供給管の供給口よりも上部に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記供給管及び前記排出管の少なくとも１つは、前記チャンバの内部に収容された前記投影光学系を構成する光学素子まで延びた延長部を含む、ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
4. 前記投影光学系は、鉛直方向に入射する露光光を鉛直方向に出射し、かつ、鉛直方向と交差する方向に延びる光軸を有する光学要素を含む、ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記供給管及び前記排出管は、露光光を遮らないように配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記排出管の排出口でのガスの温度を検出するセンサ、をさらに備え、
   前記制御器は、前記センサの検出温度に応じて、前記ガス供給の流量及び前記ガス排出の流量を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記制御器は、前記ガス供給及び前記ガス排出を、前記基板を入れ替えるとき、または、露光動作を待機しているときに行うように制御する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、基板を露光する工程と、
   前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。