JPH0845824A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH0845824A JPH0845824A JP18244094A JP18244094A JPH0845824A JP H0845824 A JPH0845824 A JP H0845824A JP 18244094 A JP18244094 A JP 18244094A JP 18244094 A JP18244094 A JP 18244094A JP H0845824 A JPH0845824 A JP H0845824A
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- exposure apparatus
- concave mirror
- mirror
- convex mirror
- optical system
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】反射光学系を介して被露光部材に投影される露
光パターンの解像度の低下を防止することのできる露光
装置を提供する。 【構成】反射光学系９の少なくとも凹面鏡１０と凸面鏡
１１を密閉容器１４内に収容したことを特徴とする。
光パターンの解像度の低下を防止することのできる露光
装置を提供する。 【構成】反射光学系９の少なくとも凹面鏡１０と凸面鏡
１１を密閉容器１４内に収容したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、マスクに形成された
露光パターンを半導体ウエハ等の被露光部材に露光する
露光装置に係り、特にマスクを透過した露光光を被露光
部材に投影する投影光学系として反射光学系を用いた露
光装置に関するものである。
露光パターンを半導体ウエハ等の被露光部材に露光する
露光装置に係り、特にマスクを透過した露光光を被露光
部材に投影する投影光学系として反射光学系を用いた露
光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】マスクに形成された露光パターンを半導
体ウエハ等の被露光部材に露光する装置として、図１０
に示されるような露光装置が従来より知られている。図
１０において、１はベースであり、このベース１の上面
には、一対のスライドガイド２ａ，２ｂが設けられてい
る。
体ウエハ等の被露光部材に露光する装置として、図１０
に示されるような露光装置が従来より知られている。図
１０において、１はベースであり、このベース１の上面
には、一対のスライドガイド２ａ，２ｂが設けられてい
る。
【０００３】また、３は上記スライドガイド２ａ，２ｂ
の長手方向にスライド可能に設けられたスキャンステー
ジ、４はスキャンステージ３をスライドガイド２ａ，２
ｂの長手方向に移動させるステージ移動機構であり、前
記スキャンステージ３の上面には、マスク７と被露光部
材８が設置されている。なお、前記ステージ移動機構４
はモータ５とボールスリュー６とで構成されている。
の長手方向にスライド可能に設けられたスキャンステー
ジ、４はスキャンステージ３をスライドガイド２ａ，２
ｂの長手方向に移動させるステージ移動機構であり、前
記スキャンステージ３の上面には、マスク７と被露光部
材８が設置されている。なお、前記ステージ移動機構４
はモータ５とボールスリュー６とで構成されている。
【０００４】また、９はマスク７に形成された露光パタ
ーンを被露光部材８に投影する反射光学系であり、この
反射光学系９は、凹面鏡１０と、この凹面鏡１０に対向
して配置された凸面鏡１１と、この凸面鏡１１の背面側
に配置された台形ミラー１２とで構成されている。
ーンを被露光部材８に投影する反射光学系であり、この
反射光学系９は、凹面鏡１０と、この凹面鏡１０に対向
して配置された凸面鏡１１と、この凸面鏡１１の背面側
に配置された台形ミラー１２とで構成されている。
【０００５】このような構成において、図示しない光源
からマスク７に露光光を照射すると、マスク７を透過し
た露光光１３が台形ミラー１２、凹面鏡１０、凸面鏡１
１、凹面鏡１０、台形ミラー１２を経て被露光部材８に
露光される。このとき、ステージ移動機構４によりスキ
ャンステージ３を凹面鏡１０の光軸方向に移動させる
と、マスク７に形成された全ての露光パターンが被露光
部材８に等倍で露光される。
からマスク７に露光光を照射すると、マスク７を透過し
た露光光１３が台形ミラー１２、凹面鏡１０、凸面鏡１
１、凹面鏡１０、台形ミラー１２を経て被露光部材８に
露光される。このとき、ステージ移動機構４によりスキ
ャンステージ３を凹面鏡１０の光軸方向に移動させる
と、マスク７に形成された全ての露光パターンが被露光
部材８に等倍で露光される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
露光装置は、マスク７を透過した露光光１３を被露光部
材８に投影する投影光学系として反射光学系９を用いて
いるため、マスク７を照明する光源として連続波長域あ
るいは多波長の光源を使用することができるという利点
を有しているが、次のような難点があった。
露光装置は、マスク７を透過した露光光１３を被露光部
材８に投影する投影光学系として反射光学系９を用いて
いるため、マスク７を照明する光源として連続波長域あ
るいは多波長の光源を使用することができるという利点
を有しているが、次のような難点があった。
【０００７】すなわち、上述した露光装置では、例えば
ステージ移動機構４のモータ５で熱せられた空気が大き
な塊となって凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に入り込む
と、反射光学系９の波面収差が大きくなり、反射光学系
９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの解
像度が低下するという難点があった。
ステージ移動機構４のモータ５で熱せられた空気が大き
な塊となって凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に入り込む
と、反射光学系９の波面収差が大きくなり、反射光学系
９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの解
像度が低下するという難点があった。
【０００８】この発明は上記のような問題点に鑑みてな
されたもので、その目的は被露光部材に投影される露光
パターンの解像度の低下を防止することのできる露光装
置を提供しようとするものである。
されたもので、その目的は被露光部材に投影される露光
パターンの解像度の低下を防止することのできる露光装
置を提供しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、マスクに形成された露光パ
ターンを凹面鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介して被露
光部材に露光する露光装置において、少なくとも前記凹
面鏡および前記凸面鏡を密閉容器内に収容したことを特
徴とするものである。
に、請求項１に係る発明は、マスクに形成された露光パ
ターンを凹面鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介して被露
光部材に露光する露光装置において、少なくとも前記凹
面鏡および前記凸面鏡を密閉容器内に収容したことを特
徴とするものである。
【００１０】請求項４に係る発明は、マスクに形成され
た露光パターンを凹面鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介
して被露光部材に露光する露光装置において、前記凹面
鏡と前記凸面鏡との間に気体を送風する送風手段を設け
たことを特徴とするものである。
た露光パターンを凹面鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介
して被露光部材に露光する露光装置において、前記凹面
鏡と前記凸面鏡との間に気体を送風する送風手段を設け
たことを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】請求項１に係る発明では、凹面鏡と凸面鏡を密
閉容器内に収容することにより、モータ等で熱せられた
空気の塊が凹面鏡と凸面鏡との間に入り込むことを防止
できる。
閉容器内に収容することにより、モータ等で熱せられた
空気の塊が凹面鏡と凸面鏡との間に入り込むことを防止
できる。
【００１２】請求項４に係る発明では、凹面鏡と凸面鏡
との間に気体を送風する送風手段を設けることにより、
モータ等で熱せられた空気の塊が凹面鏡と凸面鏡との間
に入り込んでも送風手段の送風力によって温度の高い空
気の塊を凹面鏡と凸面鏡との間から除去することができ
る。
との間に気体を送風する送風手段を設けることにより、
モータ等で熱せられた空気の塊が凹面鏡と凸面鏡との間
に入り込んでも送風手段の送風力によって温度の高い空
気の塊を凹面鏡と凸面鏡との間から除去することができ
る。
【００１３】
【実施例】以下、請求項１に係る発明の一実施例を図１
を参照して説明する。なお、図１０に示したものと同一
部分には同一符号を付し、その部分の詳細な説明は省略
する。
を参照して説明する。なお、図１０に示したものと同一
部分には同一符号を付し、その部分の詳細な説明は省略
する。
【００１４】図１において、１４はベース１の上面に設
置された密閉容器であり、この密閉容器１５の内部に
は、マスク７および被露光部材８が収容されているとと
もに、マスク７を透過した露光光１４を被露光部材８に
投影する反射光学系９が収容されている。
置された密閉容器であり、この密閉容器１５の内部に
は、マスク７および被露光部材８が収容されているとと
もに、マスク７を透過した露光光１４を被露光部材８に
投影する反射光学系９が収容されている。
【００１５】また、１５は密閉容器１４に形成された排
気ノズルであり、この排気ノズル１５には、密閉容器１
４内の空気を外部へ排気する排気手段としての真空ポン
プ１７が排気ホース１６を介して接続されている。
気ノズルであり、この排気ノズル１５には、密閉容器１
４内の空気を外部へ排気する排気手段としての真空ポン
プ１７が排気ホース１６を介して接続されている。
【００１６】なお、前記密閉容器１４には図示しない光
源からの光をマスク７に照射するための開口窓が形成さ
れており、この開口窓には、密閉容器１４の内部を密閉
状態に保つための平行平板ガラス１８が設けられてい
る。
源からの光をマスク７に照射するための開口窓が形成さ
れており、この開口窓には、密閉容器１４の内部を密閉
状態に保つための平行平板ガラス１８が設けられてい
る。
【００１７】また、前記密閉容器１４は、容器本体１９
と、この容器本体１９の外表面に設けられた断熱材２０
とからなり、密閉容器１４内の空気が密閉容器１４外の
空気と熱交換しないように断熱構造となっている。
と、この容器本体１９の外表面に設けられた断熱材２０
とからなり、密閉容器１４内の空気が密閉容器１４外の
空気と熱交換しないように断熱構造となっている。
【００１８】このような構成において、ステージ移動機
構４のモータ５を駆動してスキャンステージ３を凹面鏡
１０の光軸方向に移動させると、マスク７に形成された
全ての露光用パターンが反射光学系９を介して被露光部
材８に等倍で露光される。
構４のモータ５を駆動してスキャンステージ３を凹面鏡
１０の光軸方向に移動させると、マスク７に形成された
全ての露光用パターンが反射光学系９を介して被露光部
材８に等倍で露光される。
【００１９】このとき、反射光学系９はベース１の上面
に設置された密閉容器１４内に収容されているので、反
射光学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１との間にステージ
移動機構４のモータ５で熱せられた空気の塊が入り込む
ことを防止できる。
に設置された密閉容器１４内に収容されているので、反
射光学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１との間にステージ
移動機構４のモータ５で熱せられた空気の塊が入り込む
ことを防止できる。
【００２０】従って、上述した実施例では反射光学系３
の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９
を介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像
度の低下を防止することができる。
の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９
を介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像
度の低下を防止することができる。
【００２１】また、上述した実施例では密閉容器１４が
断熱構造となっているので、密閉容器１４内の空気が密
閉容器１４外の空気によって暖められるようなことがな
い。従って、反射光学系９の光路内に温度の高い空気の
塊が発生することがなく、被露光部材８に投影される露
光パターンの解像度の低下を確実に防止することができ
る。
断熱構造となっているので、密閉容器１４内の空気が密
閉容器１４外の空気によって暖められるようなことがな
い。従って、反射光学系９の光路内に温度の高い空気の
塊が発生することがなく、被露光部材８に投影される露
光パターンの解像度の低下を確実に防止することができ
る。
【００２２】さらに、上述した実施例では真空ポンプ１
７により密閉容器１４内の空気を外部へ排気することに
より、密閉容器１４内の空気が密閉容器１４外の空気に
よって暖められるようなことがないので、被露光部材８
に投影される露光パターンの解像度の低下を確実に防止
することができる。
７により密閉容器１４内の空気を外部へ排気することに
より、密閉容器１４内の空気が密閉容器１４外の空気に
よって暖められるようなことがないので、被露光部材８
に投影される露光パターンの解像度の低下を確実に防止
することができる。
【００２３】なお、上述した実施例では反射光学系全体
を密閉容器１４に収容したが、図２に示すように反射光
学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１のみを密閉容器１４に
収容しても同様の効果を得ることができる。
を密閉容器１４に収容したが、図２に示すように反射光
学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１のみを密閉容器１４に
収容しても同様の効果を得ることができる。
【００２４】また、密閉容器１４内を窒素ガスやヘリウ
ムガスなどによって不活性ガス雰囲気とし、密閉容器１
４内の不活性ガスが高温となったときに、図９に示す不
活性ガス排気送風手段５５により密閉容器１４内の不活
性ガスを外部へ排気するとともに、冷却された不活性ガ
スを密閉容器１４内に供給するようにしても良い。な
お、図中５６は密閉容器１４内の不活性ガスを外部へ排
気する吸引ポンプ、５７は吸引ポンプ５６により密閉容
器１４内から取り出された不活性ガスを冷却する放熱器
である。
ムガスなどによって不活性ガス雰囲気とし、密閉容器１
４内の不活性ガスが高温となったときに、図９に示す不
活性ガス排気送風手段５５により密閉容器１４内の不活
性ガスを外部へ排気するとともに、冷却された不活性ガ
スを密閉容器１４内に供給するようにしても良い。な
お、図中５６は密閉容器１４内の不活性ガスを外部へ排
気する吸引ポンプ、５７は吸引ポンプ５６により密閉容
器１４内から取り出された不活性ガスを冷却する放熱器
である。
【００２５】次に、請求項４に係る発明の第１の実施例
を図３および図４を参照して説明する。なお、図１０に
示したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の
詳細な説明は省略する。
を図３および図４を参照して説明する。なお、図１０に
示したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の
詳細な説明は省略する。
【００２６】図３に示すように、この実施例に係る投影
露光装置は、反射光学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１と
の間に空気等の気体を送風する送風装置２１を備えてい
る。この送風装置２１は、図４に示すように、ファン２
２と、このファン２２からの空気流を整流する整流メッ
シュ２３と、この整流メッシュ２３を通過した空気流を
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に放出する整流器（ディ
フューザ）２４とから構成されている。
露光装置は、反射光学系９の凹面鏡１０と凸面鏡１１と
の間に空気等の気体を送風する送風装置２１を備えてい
る。この送風装置２１は、図４に示すように、ファン２
２と、このファン２２からの空気流を整流する整流メッ
シュ２３と、この整流メッシュ２３を通過した空気流を
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に放出する整流器（ディ
フューザ）２４とから構成されている。
【００２７】また、図３中２５は反射光学系９内（特に
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光路部）の温度を検出
する温度検出器、２６は温度検出器２５からの信号に基
づいて送風装置２１を制御する制御装置であり、この制
御装置２６は、温度検出器２５からの信号に基づいて凹
面鏡１０と凸面鏡１１との間の空間部の温度を検出する
温度検出回路２７と、この温度検出回路２７で検出され
た温度を予め設定された温度と比較し、検出温度が設定
温度よりも高いときに送風開始信号を送出する判定回路
２８と、この判定回路２８からの送風開始信号により送
風装置２１のファンモータを制御するファンモータ制御
回路２９とから構成されている。
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光路部）の温度を検出
する温度検出器、２６は温度検出器２５からの信号に基
づいて送風装置２１を制御する制御装置であり、この制
御装置２６は、温度検出器２５からの信号に基づいて凹
面鏡１０と凸面鏡１１との間の空間部の温度を検出する
温度検出回路２７と、この温度検出回路２７で検出され
た温度を予め設定された温度と比較し、検出温度が設定
温度よりも高いときに送風開始信号を送出する判定回路
２８と、この判定回路２８からの送風開始信号により送
風装置２１のファンモータを制御するファンモータ制御
回路２９とから構成されている。
【００２８】このような構成において、温度検出器２５
により検出された温度が設定温度よりも高くなると、判
定回路２８からファンモータ制御回路２９に送風開始信
号が送出される。そして、判定回路２８からファンモー
タ制御回路２９に送風開始信号が送出されると、ファン
モータ制御回路２９から送風装置２１に駆動信号が送出
され、送風装置２１のファン２２が回転する。
により検出された温度が設定温度よりも高くなると、判
定回路２８からファンモータ制御回路２９に送風開始信
号が送出される。そして、判定回路２８からファンモー
タ制御回路２９に送風開始信号が送出されると、ファン
モータ制御回路２９から送風装置２１に駆動信号が送出
され、送風装置２１のファン２２が回転する。
【００２９】このようにして送風装置２１のファン２２
が回転すると、送風装置２１から凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間に空気が送風される。このとき、ステージ移動
機構４のモータ５で熱せられた空気の塊が凹面鏡１０と
凸面鏡１１との間に滞留している場合には、凹面鏡１０
と凸面鏡１１との間に入り込んだ温度の高い空気を送風
装置２１の送風力によって除去することができる。
が回転すると、送風装置２１から凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間に空気が送風される。このとき、ステージ移動
機構４のモータ５で熱せられた空気の塊が凹面鏡１０と
凸面鏡１１との間に滞留している場合には、凹面鏡１０
と凸面鏡１１との間に入り込んだ温度の高い空気を送風
装置２１の送風力によって除去することができる。
【００３０】従って、凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に
入り込んだ温度の高い空気の塊によって反射光学系３の
波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９を
介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像度
の低下を防止することができる。
入り込んだ温度の高い空気の塊によって反射光学系３の
波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９を
介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像度
の低下を防止することができる。
【００３１】次に、請求項４に係る発明の第２の実施例
を図５を参照して説明する。なお、図３に示したものと
同一部分には同一符号を付し、その部分の詳細な説明は
省略する。
を図５を参照して説明する。なお、図３に示したものと
同一部分には同一符号を付し、その部分の詳細な説明は
省略する。
【００３２】図５において、３０は反射光学系９内（特
に凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光路部）の風速を検
出する熱線風速計（またはドップラ風速計）、３１は熱
線風速計３０からの信号に基づいて送風装置２１を制御
する制御装置であり、この制御装置３１は、熱線風速計
３０の出力（速度信号）から空気流（自然対流）のパワ
ースペクトルを求める演算回路３２と、この演算回路３
２で得られたパワースペクトルから低周波数のパワース
ペクトル密度の量を測定するローパスフィルタ３３と、
このローパスフィルタ３３からの信号を基に送風装置２
１のファンモータを制御するファンモータ制御回路３４
とから構成されている。
に凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光路部）の風速を検
出する熱線風速計（またはドップラ風速計）、３１は熱
線風速計３０からの信号に基づいて送風装置２１を制御
する制御装置であり、この制御装置３１は、熱線風速計
３０の出力（速度信号）から空気流（自然対流）のパワ
ースペクトルを求める演算回路３２と、この演算回路３
２で得られたパワースペクトルから低周波数のパワース
ペクトル密度の量を測定するローパスフィルタ３３と、
このローパスフィルタ３３からの信号を基に送風装置２
１のファンモータを制御するファンモータ制御回路３４
とから構成されている。
【００３３】このような構成において、熱線風速計３０
で検出された風速が設定値を超えると、制御装置３１か
ら送風装置２１に送風開始信号が送出され、制御装置３
１からの送風開始信号により送風装置２１のファン２２
が回転する。そして、送風装置２１のファン２２が回転
すると、送風装置２１から凹面鏡１０と凸面鏡１１との
間に空気が送風される。このとき、ステージ移動機構４
のモータ５で熱せられた空気の塊が凹面鏡１０と凸面鏡
１１との間に滞留している場合には、凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだ温度の高い空気を送風装置２
１の送風力によって除去することができる。
で検出された風速が設定値を超えると、制御装置３１か
ら送風装置２１に送風開始信号が送出され、制御装置３
１からの送風開始信号により送風装置２１のファン２２
が回転する。そして、送風装置２１のファン２２が回転
すると、送風装置２１から凹面鏡１０と凸面鏡１１との
間に空気が送風される。このとき、ステージ移動機構４
のモータ５で熱せられた空気の塊が凹面鏡１０と凸面鏡
１１との間に滞留している場合には、凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだ温度の高い空気を送風装置２
１の送風力によって除去することができる。
【００３４】従って、凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に
入り込んだ温度の高い空気の塊によって反射光学系３の
波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９を
介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像度
の低下を防止することができる。
入り込んだ温度の高い空気の塊によって反射光学系３の
波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学系９を
介して被露光部材８に投影される露光パターンの解像度
の低下を防止することができる。
【００３５】次に、請求項４に係る発明の第３の実施例
を図６を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
を図６を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
【００３６】図６において、３５ａ，３５ｂは凹面鏡１
０および凸面鏡１１を保持する光学系保持部材、３７は
光学系保持部材３５ａ（又は３５ｂ）の温度を検出する
温度検出器、３８は温度検出器２５および温度検出器３
７からの信号に基づいて送風装置２１を制御する制御装
置であり、この制御装置３８は、温度検出器２５で検出
された温度と温度検出器３７で検出された温度との温度
差を求める演算回路３９と、この演算回路３９で得られ
た値が設定値を超えたときに送風装置２１のファンモー
タを回転させる制御回路４０とから構成されている。
０および凸面鏡１１を保持する光学系保持部材、３７は
光学系保持部材３５ａ（又は３５ｂ）の温度を検出する
温度検出器、３８は温度検出器２５および温度検出器３
７からの信号に基づいて送風装置２１を制御する制御装
置であり、この制御装置３８は、温度検出器２５で検出
された温度と温度検出器３７で検出された温度との温度
差を求める演算回路３９と、この演算回路３９で得られ
た値が設定値を超えたときに送風装置２１のファンモー
タを回転させる制御回路４０とから構成されている。
【００３７】なお、前記光学系保持部材３５ａ，３５ｂ
の内部には、水または空気等の冷却媒体が通流する冷却
流路３６が形成されており、この冷却流路３６に冷却媒
体を通流させることにより光学系保持部材３５ａ，３５
ｂの温度上昇を防止できるようになっている。
の内部には、水または空気等の冷却媒体が通流する冷却
流路３６が形成されており、この冷却流路３６に冷却媒
体を通流させることにより光学系保持部材３５ａ，３５
ｂの温度上昇を防止できるようになっている。
【００３８】上記のような構成において、温度検出器２
５で検出された温度と温度検出器３７で検出された温度
との温度差が設定値を超えると、制御装置３８からの送
風開始信号により送風装置２１のファン２２が回転し、
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に空気が送風される。
５で検出された温度と温度検出器３７で検出された温度
との温度差が設定値を超えると、制御装置３８からの送
風開始信号により送風装置２１のファン２２が回転し、
凹面鏡１０と凸面鏡１１との間に空気が送風される。
【００３９】従って、上述した実施例ではステージ移動
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
【００４０】次に、請求項４に係る発明の第４の実施例
を図７を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
を図７を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
【００４１】図７において、４１は凹面鏡１０の反射面
に空気を送風して反射面付近の熱対流を除去する送風フ
ァン、４２は凹面鏡１０の温度を検出する温度検出器、
４３は温度検出器２５および温度検出器４２からの信号
に基づいて送風装置２１および送風ファン４２を制御す
る制御装置であり、この制御装置４３は、温度検出器２
５で検出された温度と温度検出器４２で検出された温度
との温度差を求める演算回路４４と、この演算回路４４
で得られた値が設定値より高いか否かを判定する判定回
路４５と、この判定回路４５の判定結果に基づいて送風
装置２１および送風ファン４２のファンモータを制御す
るファンモータ制御回路４６とから構成されている。
に空気を送風して反射面付近の熱対流を除去する送風フ
ァン、４２は凹面鏡１０の温度を検出する温度検出器、
４３は温度検出器２５および温度検出器４２からの信号
に基づいて送風装置２１および送風ファン４２を制御す
る制御装置であり、この制御装置４３は、温度検出器２
５で検出された温度と温度検出器４２で検出された温度
との温度差を求める演算回路４４と、この演算回路４４
で得られた値が設定値より高いか否かを判定する判定回
路４５と、この判定回路４５の判定結果に基づいて送風
装置２１および送風ファン４２のファンモータを制御す
るファンモータ制御回路４６とから構成されている。
【００４２】上記のような構成において、温度検出器２
５で検出された温度と温度検出器４２で検出された温度
との温度差が設定値を超えると、制御装置４３からの送
風開始信号により送風装置２１および送風ファン４１の
ファンモータが回転する。これにより凹面鏡１０の反射
面に空気が送風されるとともに、凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間に空気が送風される。
５で検出された温度と温度検出器４２で検出された温度
との温度差が設定値を超えると、制御装置４３からの送
風開始信号により送風装置２１および送風ファン４１の
ファンモータが回転する。これにより凹面鏡１０の反射
面に空気が送風されるとともに、凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間に空気が送風される。
【００４３】従って、上述した実施例ではステージ移動
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
【００４４】また、上述した実施例では送風ファン４１
から凹面鏡１０の反射面に向けて空気を送風することに
より、凹面鏡１０の温度上昇を防止することができ、凹
面鏡１０の反射面付近に発生する空気の自然対流を防止
することができる。
から凹面鏡１０の反射面に向けて空気を送風することに
より、凹面鏡１０の温度上昇を防止することができ、凹
面鏡１０の反射面付近に発生する空気の自然対流を防止
することができる。
【００４５】次に、請求項４に係る発明の第５の実施例
を図８を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
を図８を参照して説明する。なお、図３および図５に示
したものと同一部分には同一符号を付し、その部分の詳
細な説明は省略する。
【００４６】図８において、４７はマスク７の設置位置
に設けられた平行平板ガラス、４８は被露光部材８の設
置位置に設けられたナイフエッジ、４９はナイフエッジ
４８を通過した露光光を受光するＣＣＤ、５０はＣＣＤ
４９とナイフエッジ４８との間に設けられた結像光学
系、５１はＣＣＤ４９からの信号に基づいて送風装置２
１を制御する制御装置であり、この制御装置５１は、Ｃ
ＣＤ４９の出力から凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光
路部に存在する空気の密度勾配をシュリーレン法により
求める演算回路５２と、この演算回路５２で得られた値
を設定値と比較し、演算回路５２の出力値が設定値より
大きいときに送風装置２１を作動させる制御回路５３と
から構成されている。
に設けられた平行平板ガラス、４８は被露光部材８の設
置位置に設けられたナイフエッジ、４９はナイフエッジ
４８を通過した露光光を受光するＣＣＤ、５０はＣＣＤ
４９とナイフエッジ４８との間に設けられた結像光学
系、５１はＣＣＤ４９からの信号に基づいて送風装置２
１を制御する制御装置であり、この制御装置５１は、Ｃ
ＣＤ４９の出力から凹面鏡１０と凸面鏡１１との間の光
路部に存在する空気の密度勾配をシュリーレン法により
求める演算回路５２と、この演算回路５２で得られた値
を設定値と比較し、演算回路５２の出力値が設定値より
大きいときに送風装置２１を作動させる制御回路５３と
から構成されている。
【００４７】上記のような構成において、演算回路５２
で得られた空気の密度勾配が設定値を超えると、制御回
路５３からの信号によって送風装置２１が作動し、凹面
鏡１０と凸面鏡１１との間に空気が送風される。
で得られた空気の密度勾配が設定値を超えると、制御回
路５３からの信号によって送風装置２１が作動し、凹面
鏡１０と凸面鏡１１との間に空気が送風される。
【００４８】従って、上述した実施例ではステージ移動
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
機構４のモータ５で熱せられた空気が凹面鏡１０と凸面
鏡１１との間に入り込んだとしても送風装置２１の送風
力によって温度の高い空気の塊を凹面鏡１０と凸面鏡１
１との間から除去することができる。よって、反射光学
系３の波面収差が劣化するようなことがなく、反射光学
系９を介して被露光部材８に投影される露光パターンの
解像度の低下を防止することができる。
【００４９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、反射光学系を介して被露光部材に投影される露光パ
ターンの解像度の低下を防止することのできる露光装置
を提供できる。
ば、反射光学系を介して被露光部材に投影される露光パ
ターンの解像度の低下を防止することのできる露光装置
を提供できる。
【図１】請求項１に係る発明の第１の実施例を示す図。
【図２】請求項１に係る発明の第２の実施例を示す図。
【図３】請求項４に係る発明の第１の実施例を示す図。
【図４】送風装置の構成を示す斜視図。
【図５】請求項４に係る発明の第２の実施例を示す図。
【図６】請求項４に係る発明の第３の実施例を示す図。
【図７】請求項４に係る発明の第４の実施例を示す図。
【図８】請求項４に係る発明の第５の実施例を示す図。
【図９】請求項１に係る発明の第３の実施例を示す図。
【図１０】従来の投影露光装置の概略構成を示す図。
１…ベース ３…スキャンステージ ４…ステージ移動機構 ７…マスク ８…被露光部材 ９…反射光学系 １０…凹面鏡 １１…凸面鏡 １２…台形ミラー １４…密閉容器 １７…真空排気ポンプ ２１…送風装置 ２５，３７，４２…温度検出器 ２６，３１，３８，４３，５１…制御装置 ３０…熱線風速計 ４７…平行平板ガラス ４８…ナイフエッジ ４９…ＣＣＤ ５０…結像光学系
Claims (10)
- 【請求項１】 マスクに形成された露光パターンを凹面
鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介して被露光部材に露光
する露光装置において、少なくとも前記凹面鏡および前
記凸面鏡を密閉容器内に収容したことを特徴とする露光
装置。 - 【請求項２】 前記密閉容器は、断熱構造となっている
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の露光装置において、前記
密閉容器内の空気を排気する排気手段を設けたことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項４】 マスクに形成された露光パターンを凹面
鏡と凸面鏡を含む反射光学系を介して被露光部材に露光
する露光装置において、前記凹面鏡と前記凸面鏡との間
に気体を送風する送風手段を設けたことを特徴とする露
光装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の露光装置において、前記
凹面鏡と前記凸面鏡との間に存在する気体の温度を検出
する温度検出手段と、この温度検出手段から出力された
信号に基づいて前記送風手段を制御する制御手段とを具
備したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項６】 請求項４記載の露光装置において、前記
凹面鏡と前記凸面鏡との間に存在する気体の流速を検出
する風速計と、この風速計から出力された信号に基づい
て前記送風手段を制御する制御手段とを具備したことを
特徴とする露光装置。 - 【請求項７】 請求項４記載の露光装置において、前記
凹面鏡と前記凸面鏡との間に存在する気体の密度勾配を
測定する測定手段と、この測定手段から出力された信号
に基づいて前記送風手段を制御する制御手段とを具備し
たことを特徴とする露光装置。 - 【請求項８】 前記凹面鏡と前記凸面鏡との間に存在す
る空気の密度勾配を測定する測定手段は、前記マスクの
設置位置に設けられた平行平板ガラスと、前記被露光部
材の設置位置に設けられたナイフエッジと、このナイフ
エッジを通過した露光光を受光する受光手段と、この受
光手段とナイフエッジとの間に設けられた結像光学系と
を具備してなることを特徴とする請求項７記載の露光装
置。 - 【請求項９】 前記密閉容器内を不活性ガス雰囲気とし
たことを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項１０】 前記不活性ガスを排気・送風する手段
を設けたことを特徴とする請求項９記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18244094A JPH0845824A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18244094A JPH0845824A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845824A true JPH0845824A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16118311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18244094A Pending JPH0845824A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845824A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026278A1 (fr) * | 1997-11-14 | 1999-05-27 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition, procede de fabrication associe, et procede d'exposition |
| WO2004001821A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Nikon Corporation | 光学ユニット及びｘ線露光装置 |
| CN100395582C (zh) * | 2004-06-01 | 2008-06-18 | 大日本网目版制造株式会社 | 投影光学系统和图形描画装置 |
| JP2008292761A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2013250541A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP18244094A patent/JPH0845824A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026278A1 (fr) * | 1997-11-14 | 1999-05-27 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition, procede de fabrication associe, et procede d'exposition |
| US6359678B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-03-19 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, method for producing the same, and exposure method |
| WO2004001821A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Nikon Corporation | 光学ユニット及びｘ線露光装置 |
| CN100395582C (zh) * | 2004-06-01 | 2008-06-18 | 大日本网目版制造株式会社 | 投影光学系统和图形描画装置 |
| JP2008292761A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2013250541A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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