JPH0927446A - 露光装置用のシャッタ装置 - Google Patents

露光装置用のシャッタ装置

Info

Publication number
JPH0927446A
JPH0927446A JP7177708A JP17770895A JPH0927446A JP H0927446 A JPH0927446 A JP H0927446A JP 7177708 A JP7177708 A JP 7177708A JP 17770895 A JP17770895 A JP 17770895A JP H0927446 A JPH0927446 A JP H0927446A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shutter
shutter blade
illumination light
air
blade
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7177708A
Other languages
English (en)
Inventor
Takanobu Kiyomiya
隆信 清宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7177708A priority Critical patent/JPH0927446A/ja
Publication of JPH0927446A publication Critical patent/JPH0927446A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891Temperature

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Shutters For Cameras (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光装置用のシャッタ装置において、シャッ
タの熱的負荷を低減し、シャッタ表面への曇り物質の付
着を防ぐ。 【解決手段】 シャッタ羽根11の周囲をケーシング1
0で囲いほぼ密閉する。ケーシング10の一部に設けた
窓10aを通して光源1及び楕円鏡2からの照明光IL
を入射させ、照明光ILが楕円鏡2により集光される位
置にシャッタ羽根11が来るように配置する。ケーシン
グ10内のシャッタ羽根11の近くに送風機15を配置
し、外部に設けたケミカルフィルター16により清浄化
された空気をケーシング10内に導入して、送風機15
によりその清浄化された空気をシャッタ羽根11の照射
面に吹き付けて、その照射面を冷却する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、又は薄膜磁
気ヘッド等を製造するためのフォトリソグラフィ工程で
使用される露光装置において、露光用光源と感光基板と
の間の照明光路の開閉を行うシャッタ装置に関し、特に
その露光用光源が紫外域の光を射出する光源である場合
に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、レチクル(又はフォトマスク等)
のパターンを投影光学系を介してウエハ(又はガラスプ
レート)上に露光する露光装置では、レチクルのパター
ンを均一な照度分布で照明するための照明光学系が備え
られている。照明光学系は、通常、照明光を射出する光
源と、この光源から射出される照明光の光路を開閉する
シャッタ装置と、所望の波長帯の光を選択する光学フィ
ルターと、インプットレンズと、レチクル上での照度分
布を均一にするためのフライアイレンズと、このフライ
アイレンズからの照明光をレチクルに導くコンデンサー
レンズとを備えている。また、照明光学系には、照明光
の照明範囲を制限するための各種の絞り等が設けられて
いる。
【0003】従来のシャッタ装置は、円板状の薄板の外
周部に均等な間隔で複数の扇状の開口部を設けたシャッ
タ羽根と、そのシャッタ羽根を駆動する駆動モータとか
ら構成され、シャッタ羽根を駆動モータにより回転させ
ることで光路の開閉が行われる。そして、そのシャッタ
羽根は、通常インプットレンズの前に配置されており、
このシャッタ羽根の開閉によりレチクル上への照明光の
照射が制御される。また、シャッタ羽根の表面を反射面
で形成し、光源からの照明光を反射面で遮断してレチク
ル上への照射を遮断する一方、シャッタ羽根の反射面で
反射した照明光をレチクルとウエハとの位置合わせに用
いられるアライメント系の照明光として用いることも行
われる。
【0004】ところで、露光装置としては従来は主にレ
チクルのパターンをステップ・アンド・リピート方式で
フォトレジストが塗布されたウエハ(又はガラスプレー
ト等)上の各ショット領域に露光する一括露光方式の投
影露光装置(ステッパー等)が使用されていた。また、
最近では大面積化に応えるために、ウエハ上の各ショッ
ト領域を走査開始位置にステッピングした後、例えば矩
形、円弧状又は複数の台形等からなる照明領域(これを
「スリット状の照明領域」という)に対してレチクル及
び感光基板を同期して走査することにより、レチクル上
のパターンを各ショット領域に逐次露光する所謂ステッ
プ・アンド・スキャン方式、又はスリットスキャン方式
等の走査露光方式の露光装置が見直されている。そし
て、これらの一括露光方式及び走査露光方式の何れの露
光装置においても同様のシャッタ装置が使用されてい
た。
【0005】また、何れの露光装置においても、ショッ
ト領域間の移動中及びアライメント時等にはシャッタ羽
根が閉じられており、この間にはシャッタ羽根に露光用
の照明光が直接照射されていた。それでも、光源からの
照明光の照度がそれ程大きくなかったため特に問題はな
かった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】最近の露光装置では、
スループット(単位時間当たりのウエハの処理枚数)の
向上に対する要求が益々高まっている。スループットを
高めるためには、光源からの照明光の照度を高めて、各
ショット領域への露光時間を短縮するのが有効である。
そこで、最近は光源の発光パワーを大きくするようにな
ってきている。また、シャッタ装置の開閉を高速で行う
ために、シャッタ羽根を薄型化して軽量化するようにも
なってきている。
【0007】その結果、シャッタ装置を閉じているとき
に、シャッタ羽根への高い照度の照明光の照射により、
シャッタ羽根が熱変形を起こしたり、部分的に溶融し
て、漏れ光がレチクルに照射されるという不都合が生じ
てきた。また、熱変形とまではいかないまでも、特にシ
ャッタ羽根の裏面の反射光を用いてアライメントを行う
ような露光装置において、高照度の照明光の照射により
シャッタ羽根の保護膜等が変質して、反射光の強度が低
下して、アライメントが困難となる不都合が生じてき
た。
【0008】本発明は斯かる点に鑑み、照明光の照度が
大きい場合でも安定且つ高速に動作する露光装置用のシ
ャッタ装置を提供することを目的とする。本発明は更
に、照明光の照度が大きい場合でも、照明光の光路を閉
じて反射光を安定に利用できる露光装置用のシャッタ装
置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明による露光装置用
のシャッタ装置は、シャッタ羽根(11)により照明光
路の開閉を行う露光装置用のシャッタ装置において、そ
のシャッタ羽根(11)を所定の気体により冷却する冷
却手段(10,15)を設けたものである。斯かる本発
明による露光装置用のシャッタ装置によれば、シャッタ
羽根(11)を冷却手段(10,15)により冷却し、
シャッタ羽根(11)の熱的負荷を軽減することができ
る。従って、シャッタ羽根(11)の熱的な損傷が軽減
し、例えばシャッタ羽根(11)を更に軽量且つ薄い材
料で構成することも可能になる。また、シャッタ羽根
(11)を閉じているときに、その反射光を例えばアラ
イメント用に使用してもよい。
【0010】この場合、その冷却手段は、そのシャッタ
羽根(11)を囲むカバー(10)と、このカバー内で
そのシャッタ羽根(11)に温度制御されたその所定の
気体を吹き付ける手段(15)と、を有することが好ま
しい。このように、カバー(10)で囲んだ密閉空間内
でシャッタ羽根(11)に温度制御された気体を吹きつ
けることによりシャッタ羽根(11)を効果的に冷却す
ることができる。
【0011】また、その所定の気体は、ケミカルフィル
ター(16)を通過した空気であることが好ましい。こ
の場合、所定の気体中の例えばアンモニウムイオン(N
4 +)、硫酸イオン(SO4 2- )、 及び有機シラノール
類等の曇り物質を生成する不純物が除去されるため、冷
却手段(10,15)によりシャッタ羽根(11)の表
面温度が低下しても、それらの不純物による曇り物質が
生成しない。また、その照明光路に挿脱可能に配置さ
れ、照明光の少なくとも一部を光学センサ(AL)に導
くための光学素子を有し、この光学素子をそのシャッタ
羽根(11)と共に冷却するようにしてもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明による露光装置用の
シャッタ装置の実施の形態の一例につき図1及び図2を
参照して説明する。図1は、本例の投影露光装置のシャ
ッタ装置及びその周辺の構成を示し、この図1におい
て、楕円鏡2の第1焦点付近に水銀ランプ等の光源1の
発光部が配置され、楕円鏡2の第2焦点付近にシャッタ
装置3のシャッタ羽根11が配置されている。そして、
光源1からの照明光ILは楕円鏡2によって集光され
る。その集光点近傍、即ち楕円鏡2の第2焦点付近に駆
動モータ12により開閉されるシャッタ羽根11が配置
され、シャッタ羽根11が開状態の場合、照明光ILは
所望の波長帯の光(例えば波長365nmのi線)を選
択する光学フィルター4に入射する。光学フィルター4
を通過した照明光ILは、インプットレンズ5を介して
ほぼ平行光束に変換されてフライアイレンズ6に達す
る。図1中、光源1、インプットレンズ5及びフライア
イレンズ6等を含む照明光学系の光軸を光軸AXとして
示す。ここで、光軸AXに平行にX軸を取り、X軸に垂
直な平面の直交座標系をZ軸及びY軸とする。シャッタ
装置3及びその周辺の構成については後で詳しく説明す
る。
【0013】フライアイレンズ6で照度分布が平坦化さ
れた照明光ILは、不図示のリレーレンズ等を通って視
野絞り等で照明範囲が制限された後、コンデンサレンズ
を介してレチクル上のパターンを均一な照度分布で照明
する。その照明光ILのもとで、レチクルのパターンが
不図示の投影光学系により例えば1/5に縮小されてウ
エハの各ショット領域上に投影露光される。
【0014】なお、シャッタ装置3のシャッタ羽根11
が閉状態の場合には、照明光ILはシャッタ羽根11で
光軸AXに垂直に反射され、レチクルとウエハとの位置
合わせのためのアライメント系ALに向かう。本例では
そのシャッタ羽根11での反射光をアライメント用の照
明光として使用する。ここで、本例のシャッタ装置3の
構成について説明する。
【0015】図1において、シャッタ装置3は、光源1
に向かう面が反射面を構成し光軸AXにほぼ45°の傾
斜角をもって配置された薄いアルミニウム(Al)製の
板状材からなるシャッタ羽根11と、シャッタ羽根11
を固定して回転する回転軸14と、回転軸14を駆動す
る駆動モータ12と、駆動モータ12を所定の場所に固
定するためのブロック13とから構成されるシャッタ部
材と、シャッタ羽根11の照明光の照射面に空気を局所
的に吹きつけるための送風機15と、それらのシャッタ
部材及び送風機15を密閉する密閉空間17を形成する
ケーシング10と、ケーシング10に設けられた送風口
18に連通するダクト18aを介して清浄な空気を供給
するケミカルフィルター16等とから構成されている。
また、シャッタ羽根11の照明光ILの照射面は、高い
反射率が得られるように所定の平面度以上に仕上げら
れ、且つ酸化アルミニウム等の保護膜が形成されてい
る。その照射面をミラー面としても使用する意味で、シ
ャッタ羽根11を「シャッタミラー羽根」と呼ぶことも
ある。ケーシング10の一部には、それぞれ光源1から
照明光ILが入射する窓10a、照明光ILが光学フィ
ルター4に向けて射出される窓10b、及びアライメン
ト用の照明光が射出される窓10cが設けられている。
それらの窓10a〜10cは、ほぼ円形の透明なガラス
板で作られ、窓10cに対向するようにアライメント系
ALが配置されている。
【0016】図2は、シャッタ羽根11の平面図を示
し、この図2に示すように、シャッタ羽根11は円板の
外周部を等間隔で分けた3箇所を扇状に切り取って形成
されており、扇状の通過部分11bのほぼ中心部が光軸
AXと一致した場合は、照明光ILはシャッタ羽根11
を通過してレチクル上に照射される。一方、反射面11
aが光軸AXに一致した場合は、照明光ILは反射面1
1aで反射され、アライメント用の照明光として窓10
cを介して図1のアライメント系ALに向けて射出され
る。
【0017】図1に戻り、ケミカルフィルター16の吸
入口16aから吸入された空気は、ケミカルフィルター
16で清浄化されて空間17内に供給される。清浄化さ
れた空気は、送風口18a近くに設けられた送風機15
により、斜めの実線の矢印の気流で示すように丁度シャ
ッタ羽根11と光軸AXとが交差する位置に吹き付けら
れる。ケーシング10の送風口18とほぼ対称な位置に
は空気を排出するための排出口19が設けられており、
空間17内で温められた空気は排出口19から外部に放
出される。
【0018】次に、以上のように構成された本例のシャ
ッタ装置の動作について説明する。前述のように、照明
光ILがシャッタ装置3のシャッタ羽根11上で照射さ
れる領域は楕円鏡2の第2焦点付近となっている。従っ
て、シャッタ羽根11の照明光ILが照射される部分は
局所的に高温となる。例えば、送風機15を動作させな
い状態で照明光ILを所定時間シャッタ羽根11に照射
した後、温度センサでシャッタ羽根11の温度を計った
ところ、150℃程となった。しかし、実際に照明光I
Lに照射されている領域の温度は部分的にかなり高温に
なっているものと推定される。
【0019】そこで本例では、シャッタ装置3の動作中
に、送風機15を動作させてシャッタ羽根11の照明光
ILに当たる部分に温度調節された空気を吹きつけるよ
うにして、シャッタ羽根11の温度を常時冷却する。こ
れによって、シャッタ羽根11の表面温度が従来よりも
低く保たれる。一例として、送風機15を動作させて所
定時間シャッタ羽根11に照明光ILを照射した後、シ
ャッタ羽根11の温度を計ったところ、80℃程度であ
った。その結果、シャッタ羽根11の照射部の変形、変
質、溶解又は破壊等の損傷を受けることがない。更に、
シャッタ羽根11の照射部の反射率が低下することもな
く、安定にアライメント系ALが使用できる。
【0020】他方、シャッタ羽根11の表面が冷却され
ることによる弊害も発生する。即ち、空気中にはアンモ
ニウムイオン(NH4 +)、硫酸イオン(SO4 2- )、 及
び有機シラノール類等の不純物質が僅かながら混入して
おり、これらの不純物質が光学部材の遠紫外光(UV
光)の照射部に光化学反応的に付着して、曇り物質を生
成する。例えばアンモニウムイオン(NH4 +)と硫酸イ
オン(SO4 2- )とが光化学的に反応して硫酸アンモニ
ウム((NH4)2 SO4 )を生成し、ヘキサメチルジシ
ロキサン等の有機シラノール類は光化学的に分解し、酸
素と反応して散乱の要因となる酸化硅素(SiOx )を
生成する。これらの曇り物質はシャッタ羽根11の表面
温度が高い場合には、熱分解してシャッタ羽根11の反
射面に蓄積されないが、本例のようにシャッタ羽根11
の温度が低く抑えられる場合には、分解されることなく
シャッタ羽根11の反射面に蓄積して反射率の低下や散
乱の要因となる恐れがある。
【0021】ケミカルフィルターは、塵埃の他特にそれ
らの曇り物質を生成するアンモニウムイオン(N
4 +)、硫酸イオン(SO4 2- )、 及び有機シラノール
類等の不純物質を化学吸着機構を利用して除去する作用
を有している。本例では図1に示すように、ケミカルフ
ィルター16を設置して、空間17に供給する空気中の
不純物質を除去しているので、シャッタ羽根11の反射
面における曇り物質の生成が抑えられる。なお、空気の
代わりに送風口18を介してケーシング10内に純粋な
窒素(N2 )ガスを供給してもよい。これによって、ケ
ミカルフィルター16を省略できる。また、特に本例の
露光装置が設置されるチャンバー等の内部にケミカルフ
ィルターを介した空気が供給されているような場合に
は、ケーシング10を設けることなく、送風機15によ
ってシャッタ羽根11に空気を吹き付けるだけでもよ
い。また、送風機15を複数個設けて、シャッタ羽根1
1の照射部のみならず、シャッタ羽根11の全体を冷却
してもよい。これによって、冷却効果が向上する。
【0022】次に、本発明の露光装置用のシャッタ装置
の実施の形態の他の例について図3を参照して説明す
る。本例は、空気を圧縮機で昇圧し、昇圧した空気をシ
ャッタ羽根11の表面に直接吹きつけてシャッタ羽根1
1を強制空冷するようにしたものである。その他の構成
は図1と同様であり、図3において図1と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明を省略する。
【0023】図3は、本例のシャッタ装置3Aの構成を
示し、この図3において、ケミカルフィルター16に直
結して空気を圧縮する圧縮機20が設けられている。ケ
ミカルフィルター16で清浄化された空気は、圧縮機2
0で圧縮され、ケーシング10を貫通する送風パイプ2
1を通じてケーシング10内に設置されたエアーノズル
22から、シャッタ羽根11の表面の照明光ILが照射
される部分に強制的に吹き付けられる。
【0024】本例によれば、圧縮された空気が強制的に
シャッタ羽根11の表面に吹き付けられるので、高い冷
却効果が得られる。また、シャッタ羽根11の局部的な
膨張が抑えられるため、シャッタ羽根11の変形や破壊
等が更に抑制される。なお、本例ではシャッタ羽根11
が配置された空間17内に環境空気を供給したが、空気
の代わりに例えば窒素(N2 )等の高純度の不活性ガス
を供給するようにしてもよい。その場合は、ケミカルフ
ィルター16の設置は不要で、シャッタ羽根11の反射
面に対する曇り物質の生成が更に減少する。
【0025】次に、本発明の露光装置用のシャッタ装置
の実施の形態の更に別の例について図4を参照して説明
する。本例は、空気を空調機で温度調節して空間17内
に循環させるもので、その他の構成は図1と同様であ
り、図4において図1に対応する部分には同一符号を付
してその詳細説明を省略する。図4は、本例のシャッタ
装置3Bの構成を示し、この図4において、空調機23
で所定の温度に調節された空気が空気ダクト24を通っ
て、ケーシング10Aの一部に設けられた送風口25か
らケーシング10A内の空間17に供給される。また、
ケーシング10A内を循環した空気が空調機23に戻っ
ている。空調機23内には吸入する空気中の塵埃及びア
ンモニウムイオン(NH4 +)、硫酸イオン(S
4 2- )、 及び有機シラノール類等の不純物質を除去す
るケミカルフィルター等も設置されており、シャッタ羽
根11が設置される空間内には温度調節された(冷却さ
れた)清浄な空気が供給される。
【0026】本例によれば、局部的な冷却は行われない
が、温度調節された空気によりシャッタ羽根11の表面
が冷却されるため、上記例と同様にシャッタ羽根11の
反射面の破壊や溶解等の事故を防止できる。また、シャ
ッタ羽根11の表面に強制通風しないので、照明光IL
の光路上の気流が乱されることがない。なお、本例にお
いて例えば図1に示す送風機15と同様な送風機を設け
て、シャッタ羽根11の表面を局部的に冷却するように
してもよい。
【0027】なお、上述の例ではシャッタ羽根11の表
面温度の測定は行っていないが、シャッタ羽根11の温
度を測定する温度センサ等を設けて常時温度をモニタ
し、そのモニタ結果に基づいて送風する空気量、圧力、
或いは温度を調節するようにすれば、更に高い効率でシ
ャッタ羽根11の表面を最適な温度状態に維持すること
ができる。この場合、温度センサとして、赤外線センサ
のような非接触の温度センサを使用してもよい。更に、
シャッタ羽根11の反射面は常に同じ位置を使用するの
ではなく、うまくローテーションさせるようにすれば、
シャッタ羽根11をより効率よく冷却して、熱負荷を低
減することができる。また、シャッタ羽根11の材質を
熱伝導率の高いものにしたり、放熱性のよい形状にする
ことにより、同じような効果を得ることができる。ま
た、上述の例で使用されるシャッタ羽根は回転式である
が、例えばフォーカルプレーンシャッタのようなスライ
ド式のシャッタ羽根や、虹彩絞り形式のシャッタ羽根を
使う場合にも、冷却機構を設けることにより同様の効果
を奏する。
【0028】また、上述の実施の形態の例ではシャッタ
羽根11からの反射光をアライメント系ALに導くよう
に構成していたが、シャッタ羽根11とは別に、照明光
路に対して挿脱可能な反射部材(例えばガラスにクロム
を蒸着したもの)を設け、ここで反射された光をアライ
メント系に導くように構成してもよく、この場合にはこ
の反射部材をシャッタと共に前述の例のように冷却する
ことが望ましい。通常、この反射部材はシャッタの近傍
に配置されているので、その冷却を容易に行うことがで
きる。なお、この反射部材の冷却はシャッタ羽根と一体
に行っても、あるいは独立に行ってもよい。
【0029】また、前述の実施の形態の例のアライメン
ト系ALに導かれる照明光は、レチクル及び/又はウエ
ハ上のアライメントマークを検出するアライメント系へ
の照明光に限られるものではなく、例えばその反射部材
からの光を投影光学系に通してその結像特性(例えば焦
点位置等)を検出する照明光、ウエハステージ上の基準
マークをその下方からその反射光で照射してベースライ
ン(アライメント系の検出中心と露光中心との間隔)や
結像特性を検出する照明光であってもよい。即ち、露光
以外に光学計測を行うものすべての照明光として利用で
きる。
【0030】このように本発明は上述の実施の形態に限
定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。
【0031】
【発明の効果】本発明による露光装置用のシャッタ装置
によれば、シャッタ羽根を冷却する冷却手段を設けたの
で、シャッタ羽根の温度が照明光により上昇するのを防
止できる。従って、例えばシャッタ羽根の変形、変質、
破壊や溶解といった事態を未然に防ぐことができる利点
がある。また、シャッタ羽根に対する熱負荷が低減され
るので、シャッタ羽根を更に軽量化できる。従ってシャ
ッタの動作を更に高速化出来る効果が得られる。
【0032】また、冷却手段が、シャッタ羽根を囲むカ
バーと、このカバー内でシャッタ羽根に温度制御された
所定の気体を吹き付ける手段と、を有する場合には、カ
バーに囲まれたほぼ密閉された空間内において温度調節
された気体によりシャッタ羽根が冷却されるため、シャ
ッタ羽根の冷却効果が更に向上する利点がある。また、
所定の気体が、ケミカルフィルターを通過した空気であ
る場合には、空気中の特にアンモニウムイオン(N
4 +)、硫酸イオン(SO4 2- )、 及び有機シラノール
類等が空気中から除去され、シャッタ羽根の温度が低く
抑えられたことによるシャッタ羽根の反射面における曇
り物質の生成が抑制される。従って、シャッタ羽根での
反射率の低下や散乱が生じることはなく、シャッタ羽根
で照明光を遮断している際に、そのシャッタ羽根での反
射光を用いて例えばアライメント系を安定に動作させる
ことができる。また、照明光路に挿脱可能に配置され、
照明光の少なくとも一部をアライメント系等の光学セン
サに導くための光学素子を有し、この光学素子がシャッ
タ羽根と共に冷却される場合には、その光学素子も共に
冷却されるため、光学素子の熱負荷が低減し、光学セン
サを一定の状態で照明する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による露光装置用のシャッタ装置の実施
の形態の一例を示す構成図である。
【図2】図1のシャッタ羽根11の平面図である。
【図3】本発明による露光装置用のシャッタ装置の実施
の形態の他の例を示す構成図である。
【図4】本発明による露光装置用のシャッタ装置の実施
の形態の更に他の例を示す構成図である。
【符号の説明】 1 光源 3,3A,3B シャッタ装置 10,10A ケーシング 11 シャッタ羽根 12 駆動モータ 15 送風機 16 ケミカルフィルター 20 圧縮機 22 エアーノズル 23 空調機

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シャッタ羽根により照明光路の開閉を行
    う露光装置用のシャッタ装置において、 前記シャッタ羽根を所定の気体により冷却する冷却手段
    を設けたことを特徴とする露光装置用のシャッタ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の露光装置用のシャッタ装
    置であって、 前記冷却手段は、前記シャッタ羽根を囲むカバーと、該
    カバー内で前記シャッタ羽根に温度制御された前記所定
    の気体を吹き付ける手段と、を有することを特徴とする
    露光用のシャッタ装置。
  3. 【請求項3】 請求項1、又は2記載の露光装置用のシ
    ャッタ装置であって、 前記所定の気体は、ケミカルフィルターを通過した空気
    であることを特徴とする露光用のシャッタ装置。
  4. 【請求項4】 請求項1、2、又は3記載の露光装置用
    のシャッタ装置であって、 前記照明光路に挿脱可能に配置され、照明光の少なくと
    も一部を光学センサに導くための光学素子を有し、該光
    学素子は前記シャッタ羽根と共に冷却されることを特徴
    とする露光用のシャッタ装置。
JP7177708A 1995-07-13 1995-07-13 露光装置用のシャッタ装置 Pending JPH0927446A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7177708A JPH0927446A (ja) 1995-07-13 1995-07-13 露光装置用のシャッタ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7177708A JPH0927446A (ja) 1995-07-13 1995-07-13 露光装置用のシャッタ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0927446A true JPH0927446A (ja) 1997-01-28

Family

ID=16035725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7177708A Pending JPH0927446A (ja) 1995-07-13 1995-07-13 露光装置用のシャッタ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0927446A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100522546B1 (ko) * 1998-07-01 2005-12-30 삼성전자주식회사 반도체소자 제조용 스테퍼

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100522546B1 (ko) * 1998-07-01 2005-12-30 삼성전자주식회사 반도체소자 제조용 스테퍼

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7221432B2 (en) Exposure apparatus
US7423724B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP3387075B2 (ja) 走査露光方法、露光装置、及び走査型露光装置
US7330236B2 (en) Exposure apparatus, and device manufacturing method using the same
US20050121144A1 (en) Processing system and exposure apparatus using the same
JP4035510B2 (ja) ガス洗浄システムを含むリソグラフィ装置
JP2008252117A (ja) リソグラフィ装置
JP4026943B2 (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP2004103731A (ja) 差動排気システム及び露光装置
JP2006186352A (ja) ガス・フラッシング・システムを備える放射線露光装置
JPH0845827A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JP2000036449A (ja) 露光装置
US6191843B1 (en) Exposure device, method of making and using same, and objects exposed by the exposure device
JP2004273864A (ja) 恒温真空容器及びそれを用いた露光装置
WO2000048237A1 (fr) Procede et appareil d'exposition
JP2005317611A (ja) 露光方法及び装置
JP2004063847A (ja) 露光装置、露光方法、及びステージ装置
JP4288411B2 (ja) 光源用反射鏡保持装置、光源装置及び露光装置
JP3221226B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
TW200538857A (en) Exposure device
JPH0927446A (ja) 露光装置用のシャッタ装置
JPWO2003105203A1 (ja) 露光装置及び露光方法
JP2001284224A (ja) 露光装置及び露光方法
JP2002164267A (ja) 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2907159B2 (ja) 縮小投影露光装置及び露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040804