JPH08195338A

JPH08195338A - 基板周辺露光装置

Info

Publication number: JPH08195338A
Application number: JP7004491A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Yamamoto; 聡山本; Kenji Kamei; 謙治亀井
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1995-01-13
Filing date: 1995-01-13
Publication date: 1996-07-30
Anticipated expiration: 2018-02-17
Also published as: JP3377320B2

Abstract

(57)【要約】【目的】不要レジストに発泡現象を生じさせることが
なく、スループットが高く、装置の管理維持も容易な基
板周辺露光装置を提供する。【構成】基板に照射する光の照度の上限値ＵＬがキー
ボード２３からマイコン２２へ入力される。基板１はチ
ャック２に支持され、モータ３により回転する。ＵＶラ
ンプ４からの光は反射鏡５で集められ、光ファイバ束６
によってレンズユニット８を介して基板周辺部へ導かれ
る。レンズユニット８から照射される光の照度は照度検
出器１１によって検出され、マイコン２２はその検出結
果に基づきモータ１７を駆動し、光ファイバ束６と反射
鏡５との間の光路に配置された絞り体１４を動かして光
路を通過する光量を調節し、照射する光の照度を上限値
ＵＬ以下に調節する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばＩＣ、ＬＳ
Ｉ、液晶表示装置等の電子部品の製造工程における微細
パターンの形成工程において、シリコンウエハに代表さ
れる半導体基板、あるいは誘電体、金属、絶縁体等の基
板に塗布されたフォトレジスト液のうち、基板周辺部の
不要な部分を現像工程で除去するための基板周辺露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板周辺露光装置において、基
板周辺部の不要なフォトレジスト液（以下、単に不要レ
ジストと称する）の除去を完全におこなうために、不要
レジストが存する基板の周辺部を所定の特性の光（紫外
線等）で露光することが提案されている。このとき、露
光する光の照射量が多い場合には、照射された不要レジ
スト中の有機溶媒の分解等のために気体が発生し、不要
レジスト中で泡となる、いわゆる発泡現象が発生する。
そしてかかる発泡現象が発生すると、発泡した部分が基
板収納カセットに擦れて塵埃が発生し、その塵埃が形成
した微細パターンに付着して欠陥のもとになるなどの不
都合を生じる。

【０００３】これに対し、特開平２−８７５１８号公報
には、光の照射開始当初において照射する光の通過経路
に減光用のフィルタを配置し、これによって照射当初の
光の照度を低下させて発泡現象を防止する技術が記載さ
れている。かかる技術によれば、不要レジスト中での発
泡現象は防止可能である。しかしながら、現実の基板周
辺露光装置においては、ランプ等を使用した光源は使用
の初期における照度にばらつきがあり、しかもその照度
は使用時間が長くなるにしたがって低下してゆく。その
ため、光源を新品に交換したりした際においても発泡現
象を確実に防止するためには、上記のような光源個々の
初期特性のばらつき等まで考慮して、充分に低い照度に
まで照射光の照度を低下させなければならない。ところ
がそのように減光の程度が大きなフィルタを使用すれ
ば、たまたま照度が比較的低い光源であった場合や、装
置の使用により経時的に徐々に照度が低下した場合等に
は、照射される光量が必要以上に低下するので、不要レ
ジスト除去のためには光を照射する時間を長くしなけれ
ばならず、装置のスループットが低下してしまう。

【０００４】また、上記のような光源個々の特性や経時
的な照度の低下が発生する都度、最適なフィルタに交換
したり光源を調整する等の管理維持を最適な状態に正確
に行うのは困難であり、しかもその作業は非常に煩雑な
ものであった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の事情
に鑑みてなされたものであり、不要レジストに発泡現象
を生じさせることがなく、かつスループットが高く、装
置の管理維持も容易な基板周辺露光装置を提供すること
を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る基板周辺
露光装置の発明は、基板の周辺部に光を照射する照射手
段と、該照射手段から照射する光の照度を検出する照度
検出手段と、照射する光の照度の上限値を設定する上限
設定手段と、該上限設定手段の設定値と前記照度検出手
段の検出結果とに基づき、基板の周辺部に照射する光の
照度を上限値以下に制御する照度制御手段とよりなるこ
とを特徴とする。

【０００７】請求項２の発明は、請求項１の基板周辺露
光装置において、前記照射手段を、光源と、該光源から
の光を基板へ導く光路形成手段と、該光路形成手段から
の光が前記基板の周辺部にそって走査するように前記光
路形成手段と前記基板とを相対移動させる走査手段とか
ら構成した。請求項３の発明は、請求項１または請求項
２の基板周辺露光装置において、前記照度制御手段を、
前記光路形成手段に付設した絞り体と、該絞り体を駆動
する駆動源と、該駆動源を制御する絞り体制御手段とか
ら構成した。

【０００８】請求項４の発明は、請求項３の基板周辺露
光装置において、前記絞り体制御手段を、前記絞り体の
駆動量と照射光の照度との関係を記憶する記憶手段と、
該記憶手段に記憶された関係に基づき前記絞り体の所望
の駆動位置を算出する算出手段とから構成した。請求項
５の発明は、請求項１または請求項２の基板周辺露光装
置において、前記照度制御手段を、前記光源の駆動力を
制御する光源制御駆動手段により構成した。

【０００９】請求項６の発明は、請求項１ないし請求項
５の基板周辺露光装置において、前記照度制御手段は、
基板の周辺部に照射する光の照度を上限値以下に制御す
る制御動作を所定タイミングで実行するものである。請
求項７の発明は、請求項１ないし請求項６の基板周辺露
光装置において、照射する光の照度の下限値を設定する
下限設定手段と、前記照度検出手段が検出した照度が前
記下限値に達しないときに報知する報知手段とをさらに
備えた。

【００１０】請求項８の発明は、請求項１ないし請求項
７の基板周辺露光装置において、複数のフィルタと、該
複数のフィルタのうち任意のフィルタを照射光の光路へ
挿入するフィルタ選択機構とをさらに備えた。

【００１１】

【作用】請求項１の発明では、基板の周辺部に照射する
光の照度の上限値が上限設定手段により設定される。照
射手段から照射する光の照度は照度検出手段により検出
され、照度制御手段は、かかる検出結果に基づきその照
度が設定された上限値以下になるよう制御する。

【００１２】請求項２の発明では、光源からの光が光路
形成手段により基板へ導かれ、走査手段によって光路形
成手段からの光が基板の周辺部にそって走査する。請求
項３の発明では、絞り体制御手段により制御される駆動
源が絞り体を駆動し、基板に照射する光の照度が上限値
以下になるよう制御される。請求項４の発明では、記憶
手段に絞り体の駆動量と照射光の照度との関係が記憶さ
れ、その記憶された関係に基づき算出手段が絞り体の所
望の駆動位置を算出する。

【００１３】請求項５の発明では、光源の駆動力を光源
制御駆動手段によって制御することにより、基板に照射
する光の照度が上限値以下になるよう制御される。請求
項６の発明では、基板の周辺部に照射する光の照度を上
限値以下に制御する制御動作が所定タイミングで実行さ
れる。請求項７の発明では、照射する光の照度の下限値
が下限設定手段により設定される。そして、照度検出手
段が検出した照度が下限値に達しないときには、報知手
段が報知する。

【００１４】請求項８の発明では、複数のフィルタが備
えられ、その複数のフィルタのうち任意のフィルタがフ
ィルタ選択機構によって選択され、照射光の光路へ挿入
される。

【００１５】

【実施例】本発明の実施例である基板周辺露光装置を、
図面を参照して以下に説明する。図１は本発明の第１の
実施例を示す要部の模式図である。１は周辺に対して光
を照射して露光しようとする半導体ウエハ（以下、基板
と称する）、２は基板１の中央を吸着して支持するチャ
ック、３はチャック２を回転駆動するモータである。

【００１６】４は紫外光を発するＵＶランプ、４ａはＵ
Ｖランプ４への電力の供給を断続するスイッチ、５はＵ
Ｖランプ４からの光を反射させて集光する反射鏡、６は
反射鏡５で集められた光を基板１の近傍へ導く光ファイ
バ束である。光ファイバ束６は複数の光ファイバを束ね
て構成され、その入射端６ａは反射鏡５の集光位置に配
置される。７は光ファイバ束６の出射端６ｂに取り付け
られたマスクであり、矩形状の開口（図示せず）が形成
されている。８は光ファイバ束６の出射端６ｂからマス
ク７を通って出射される光を基板１の周辺へ照射するレ
ンズユニット、９はレンズユニット８を支持するアー
ム、１０はアーム９の基部に連結された駆動源である。
駆動源１０はアーム９を旋回駆動することにより、レン
ズユニット８を、チャック２に支持された基板１上方か
ら基板１の周辺を露光する位置（図１に実線で示す）
と、基板１の側方の待機位置（図１に破線で示す）との
間で移動させる。１１はレンズユニット８が待機位置に
あるときにそのレンズユニット８から出射される光を受
けてその照度を測定する照度検出器であって、例えば入
射光に応じた起電力を発生する光起電力素子、あるいは
入射光に応じて抵抗値が変化する抵抗体等が用いられ
る。

【００１７】１２は反射鏡５と光ファイバ束６の入射端
６ａとの間の光路に配置されてその光路を開閉するシャ
ッタ、１３は同じくその光路に配置されたフィルタ支持
板、１４はおなじくその光路に配置された絞り体、１５
はシャッタ１２を開閉駆動するロータリーソレノイド、
１６はフィルタ支持板１３を回転駆動するモータ、１７
は絞り体１４を回転駆動するモータである。フィルタ支
持板１３は、図２に示す如く、円盤１８の中心をとりま
くように６個の開口１８ａ，１８ｂ，１８ｃ・・・が形
成され、そのうち少なくとも１つの開口１８ａは素通し
のままとされ、他のいくつかには任意の種類のフィルタ
１９ｂ〜１９ｅが装着される。絞り体１４は、図３に示
す如く、円盤２０にその中心のまわりで幅が変化する開
口２１を形成して構成される。モータ１６，１７はパル
スモータが使用され、光路内へのフィルタ挿入の有無及
び挿入するフィルタの種類、光路内におかれる絞り体１
４の開口２１の大きさを任意に制御できる。なお、反射
鏡５から光ファイバ束６の入射端６ａまでは、図示しな
いハウジングに収納されている。

【００１８】２２はいわゆるマイクロコンピュータ（以
下、マイコンと称する）であって、ＣＰＵ２２ａとメモ
リ２２ｂとからなる。メモリ２２ｂは、ＣＰＵ２２ａに
よって書き込み及び読み出しが行われ、ＣＰＵ２２ａが
実行する処理のプログラムや、その他の必要なデータ等
の情報を記憶する。２３はマイコン２２のＣＰＵ２２ａ
に数値、命令等の情報を入力するキーボード、２４は装
置の状態等の情報を表示するディスプレイである。マイ
コン２２は照度検出器１１の検出信号を入力し、モータ
３，１０，１６，１７やロータリーソレノイド１５の動
作、スイッチ４ａの開閉を制御する。

【００１９】本実施例装置の動作を以下に詳細に説明す
る。図４はマイコン２２が実行する制御動作のメインフ
ローチャートである。オペレータによるキーボード２３
の操作により処理の開始が指示されると、装置の初期化
がなされる（ステップＳ１）。ここでは、モータ１６，
１７が駆動され、フィルタ支持板１３と絞り体１４とを
回転させて、光路内へのフィルタ挿入は無し、光路にお
ける絞り体１４の開口２１は最大（全開）の状態とし、
また、ロータリーソレノイド１５を駆動してシャッタ１
２は閉とし、駆動源１０を駆動してレンズユニット８は
待機位置とする。

【００２０】次に、ステップＳ２で各種処理条件のキー
ボード２３からの入力を受け付ける。ここでは、オペレ
ータは、当該処理において照射すべき光の所望照度の上
限値ＵＬと、その上限値ＵＬに対する許容誤差幅αと、
処理可能な照度の下限値ＬＬとを入力する。入力された
処理条件はメモリ２２ｂに記憶される。なお、ここで入
力される所望照度の上限値ＵＬは、発泡現象を生じない
で露光できる照度の最大値を実験的に求めたものであ
り、使用するフォトレジスト液の種類等の処理条件に応
じて求める。許容誤差幅αは、照度の制御目標である上
限値ＵＬに対して許容できる誤差範囲である。基板の周
縁に対して走査露光を行うその走査速度は、照度が上限
値ＵＬであるとして露光量とスループットについて所望
の値を得られるように定めるが、許容誤差幅αはその走
査速度で露光処理を行った場合に、必要な露光量を得ら
れる照度の範囲である。また、下限値ＬＬは、露光のた
めの走査速度をある範囲で低下させれば必要な露光量を
得られる範囲であり、ＵＬ−αよりも小さな値に設定さ
れる。この下限値ＬＬの設定のための走査速度低下の範
囲は、それによるスループット低下の許容範囲や、ＵＶ
ランプ４の経時劣化特性等を考慮して決定される。

【００２１】オペレータによりそれらが入力されると、
スイッチ４ａが閉じられてＵＶランプ４が点灯され、そ
のＵＶランプ４の発光状態が安定したことを確認した後
にシャッタ１２が開かれる（ステップＳ３）。そして、
絞り体１４の位置による照度の変化率を示す表が作成さ
れ（ステップＳ４）、その表に基づいて絞り粗調整が行
われ（ステップＳ５）、さらに絞り微調整が行われる
（ステップＳ６）。このステップＳ５、Ｓ６において
は、絞り体１４の回転の位置により光路を通過する光量
を調節し、照射する光の照度を上限値以下とするような
調整がなされる。続いて、照度が下限値以上か否かが判
断され（ステップＳ７）、下限値以上であれば、基板に
対する露光処理が行われる（ステップＳ８）。そして、
処理終了か否かが判断され（ステップＳ９）、終了であ
れば制御を終了する。終了でなければ、ステップＳ６へ
戻る。なお、ステップＳ７において照度が下限値以上で
なかった場合は、ＵＶランプ４の経時劣化等によりステ
ップＳ５、Ｓ６における調整で絞りを開放にしても処理
可能な下限の照度に満たなかった場合であるので、ステ
ップＳ１０においてＵＶランプ４が異常である旨をディ
スプレイ２４に表示してオペレータに報知し、ＵＶラン
プ４の交換を促し、ステップＳ１１で交換が行われたと
判断すると、ステップＳ５に戻る。

【００２２】図５はステップＳ４の絞り変化率表作成の
サブルーチンの内容を示すフローチャートである。はじ
めは、光路における絞り体１４の開口２１は最大（全
開）の状態であり、この状態を変数Ｉ＝１として（ステ
ップＳ４１）、その絞り体１４の位置をＰ_Iとして、こ
の状態でレンズユニット８から照射される光の照度Ｌ_I
を測定する（ステップＳ４２）。そして、変数Ｉを１づ
つ増加させていき、その都度、光路における絞り体１４
の開口２１を閉じる方向にモータ１７を０．５秒づつ駆
動して、それぞれの絞り体１４の位置Ｐ_Iでの照度Ｌ_Iを
測定する（ステップＳ４２〜Ｓ４５）。さらに、光路に
おける絞り体１４の開口２１が最小となるまで繰り返
し、得られた測定結果Ｌにより、各位置における照度Ｌ
_IをＬ₁で割った透過率ｔを算出し、図９に示す表を作成
する（ステップＳ４６）。作成した表はメモリ２２ｂに
記憶させる。なお、この表は絞り体１４の開口２１の形
状とモータ１７の特性によって決まるものであり、ＵＶ
ランプ４の交換を行ったとしてもかかる表の特性は変化
しない。

【００２３】図６はステップＳ５の絞り粗調整のサブル
ーチンの内容を示すフローチャートである。まず、光路
における絞り体１４の開口２１を最大（全開）とし（ス
テップＳ５１）、その状態でレンズユニット８から照射
される光の照度Ｌを測定する（ステップＳ５２）。そし
て、測定した照度Ｌについて、ＵＬ／Ｌ≧ｔ_Xとなる最
小のＸを図９の表に基づいて絞り体１４についての所望
の駆動位置として求め（ステップＳ５３）、絞り体１４
の位置がＰ_Xとなるようにモータ１７を駆動する（ステ
ップＳ５４）。これにより、絞り粗調整を終了し、メイ
ンフローへ戻る。なお、ステップＳ５２で測定する照度
の値は、ＵＶランプ４の固有特性によりＵＶランプ４の
交換を行うなどにより変化し、また、ＵＶランプの経時
変化等でも変化する。

【００２４】図７はステップＳ６の絞り微調整のサブル
ーチンの内容を示すフローチャートである。はじめにそ
の状態における照度Ｌを測定する（ステップＳ６１）。
そして測定した照度Ｌが最大値ＵＬよりも大きいか否か
を判断する（ステップＳ６２）。測定した照度Ｌが最大
値ＵＬよりも大きい場合には、光路における絞り体１４
の開口２１が小さくなるようにモータ１７を微小量だけ
駆動し（ステップＳ６３）、ステップＳ６１へ戻る。測
定した照度Ｌが最大値ＵＬよりも大きくない場合には、
測定した照度ＬがＵＬ−αよりも小さいか否かを判断す
る（ステップＳ６４）。測定した照度ＬがＵＬ−αより
も小さくなければ、すなわち照度ＬはＵＬ−α≦Ｌ≦Ｕ
Ｌの範囲にあることになるので、絞り微調整が完了した
としてメインフローの処理へ戻る。測定した照度ＬがＵ
Ｌ−αよりも小さい場合は、光路における絞り体１４の
開口２１が最大（全開）の状態であるか否かを判断する
（ステップＳ６５）。全開の状態でなければ、光路にお
ける絞り体１４の開口２１が大きくなるようにモータ１
７を微小量だけ駆動し（ステップＳ６６）、ステップＳ
６１へ戻る。

【００２５】なお、ステップＳ６５で、光路における絞
り体１４の開口２１が最大（全開）の状態であると判断
された場合は、絞りを全開にしても照度ＬがＵＬ−αに
満たない場合であるので、そのままメインフローの処理
へ戻る。なお、この場合であっても、メインフローのス
テップＳ７において照度Ｌが下限値ＬＬ以上であると判
断される場合は、露光処理が行われる。ただしその場合
には、後述する露光実行処理において、照度がＵＬ−α
≦Ｌ≦ＵＬの範囲にある場合よりもモータ３の回転速度
を低下させ、レンズユニット８の基板周辺に対する走査
速度を低下させることにより、必要な露光量を与える制
御がなされる。また、メインフローのステップＳ７にお
いて照度Ｌが下限値ＬＬ未満であると判断される場合
は、前述のようにＵＶランプ４の交換を行うことにな
る。

【００２６】図８はステップＳ８の露光処理の実行のサ
ブルーチンの内容を示すフローチャートである。まず、
図示しない基板搬送機構により基板１がチャック２へ搬
送され、吸着支持される（ステップＳ８１）。そして、
駆動源１０を駆動してアーム９を移動させてレンズユニ
ット８を基板１の周辺部の上方に位置させ、それと同時
にモータ３を駆動してチャック２を所定速度で回転さ
せ、基板１の周辺部をレンズユニット８によって走査す
ることにより、露光実行処理がなされる（ステップＳ８
２）。基板１が１回転すると、モータ３の駆動を停止す
ると同時に駆動源１０を駆動してレンズユニット８を待
機位置へ退避させる（ステップＳ８３）。そして、前述
の基板搬送機構により基板１が搬出される（ステップＳ
８４）。以上で基板に対する露光処理が完了したとして
メインフローの処理へ戻る。

【００２７】なお、露光処理時において何らかのフィル
タを使用したい場合には、ステップＳ６２においてモー
タ１６を駆動することによるフィルタの選択が行われ
る。この場合には、ステップＳ２で入力される各種処理
条件として、使用するフィルタの指定入力がなされる。
例えば、基板１の周辺のある一部分のみに対する照射照
度を変更したい場合には、モータ１６を駆動してＮＤフ
ィルタ１９ｃを光路に位置させることで照度の変更が可
能となる。この場合、ステップＳ３、Ｓ４のような照度
の調整を要しないので、１枚の基板の処理中に照度を変
更したいような場合でも短時間で照度の変更が可能であ
る。また、レンズユニット８は３６５ｎｍ〜４３６ｎｍ
の波長で色消しとなるものを使用するが、例えば２５４
ｎｍの波長で露光を行いたい場合には、色収差を防ぐた
めに波長選択フィルタ１９ｄを使用する。

【００２８】なお、以上の実施例においては、光路にお
ける絞り体１４の開口２１の面積を変化させることによ
って所望の照度を得るように調節制御していたが、例え
ばＵＶランプ４の駆動の状態を変えることにより、同様
の調節制御を行うこともできる。具体的には、図１の実
施例におけるスイッチ４ａを、電流制御回路と置き換え
ることにより達成できる。電流制御回路は、マイコン２
２からの制御信号に基づき、ＵＶランプ４へ供給する電
流を制御して、上述の実施例と同様に照射する光の照度
を上限値以下とするような調整制御を行う。この場合、
絞り体１４とモータ１７を設ける必要はない。また、以
上の実施例においては、キーボード２３によって設定し
た上限値ＵＬをメモリ２２ｂに記憶させていたが、上限
値ＵＬの設定は例えばロータリーエンコーダや可変抵抗
器、あるいはディップスイッチ等の入力手段によって行
ってもよい。さらに、図５のステップＳ４５においては
モータ１７を０．５秒づつ駆動していたが、これに限ら
ず、たとえばパルスモータであるモータ１７へ加えるパ
ルスを数パルスづつ加えるような駆動であっても良い。

【００２９】なお、以上の実施例においては、ＵＶラン
プ４が光源、反射鏡５と光ファイバ束６とレンズユニッ
ト８とが光路形成手段、チャック２とモータ３とアーム
９と駆動源１０とが走査手段に、それぞれ相当し、これ
らによって基板の周辺部に光を照射する照射手段が構成
される。また、照度検出器１１が照度検出手段に、キー
ボード２３が上限設定手段および下限設定手段に相当す
る。また、モータ１７が絞り体１４の駆動源、マイコン
２２が絞り体制御手段に、それぞれ相当し、これらによ
って照度制御手段が構成される。また、メモリ２２ｂが
記憶手段に、ＣＰＵ２２ａが算出手段に、ディスプレイ
２４が報知手段に、モータ１６がフィルタ選択機構に、
それぞれ相当する。また、変形例においては、電流制御
回路とマイコン２２とにより光源制御駆動手段が構成さ
れる。

【００３０】以上の構成によれば、レンズユニット８か
ら照射する光の照度は照度検出器１１により検出され、
その照度が設定された上限値ＵＬ以下になるようマイコ
ン２２が制御する。したがって、上限値ＵＬを発泡現象
が生じない値に設定することで、不要レジストの露光時
の発泡現象を防止できる。また、ＵＶランプ４に初期特
性のばらつき等があったとしても、個々のＵＶランプの
それぞれに対して個別に照度を調整することができるの
で、装置のスループットを必要以上に低下させることが
ない。また、照度の調整等の管理維持も容易である。ま
た、ＵＶランプ４からの光は光ファイバ束６によって導
かれ、モータ３によって回転する基板１の周辺部を容易
に露光することができる。また、絞り体１４はマイコン
２２によって制御されるモータ１７によって駆動され、
基板１に照射する光の照度を上限値ＵＬ以下にするよう
に容易に制御することができる。さらに、絞り体１４の
駆動量と照射光の照度の関係をあらかじめメモリ２２ｂ
に記憶しておき、絞り体１４の調節時において、検出し
た照度から所望の照度を得るための絞り体１４の駆動位
置をかかる関係より算出することで、迅速に絞り体１４
の調節を行うことができる。

【００３１】また、ＵＶランプ４へ供給する電流を制御
することでその駆動力を制御することにより、基板１に
照射する光の照度が上限値ＵＬ以下になるように容易に
制御することもできる。基板１の周辺部に照射する光の
照度を上限値ＵＬ以下に制御する制御動作を、装置の起
動時以外に、基板１を１枚処理する毎のタイミングで実
行しているので、ＵＶランプ４に経時変化等の何らかの
原因によって光量変化が生じたとしても、全ての基板１
に対して常に適当な照度の光で露光を行うことができ
る。また、照射する光の照度が下限値ＬＬに達しないと
きには、ディスプレイ２４にその旨が表示されてオペレ
ータに報知するので、光の照度が不足したままで処理が
行われたりすることがなく、また、オペレータは速やか
に不都合を知ってそのＵＶランプ４の交換等の回復操作
を行うことができる。また、複数のフィルタをフィルタ
選択機構によって選択して照射光の光路へ挿入できるの
で、例えば、基板１の周辺のある一部分のみに対する照
射照度を変更したい場合などには迅速に所望のフィルタ
を使用することができる。

【００３２】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、照射手段から
照射する光の照度は照度検出手段により検出され、その
照度が設定された上限値以下になるよう照度制御手段が
制御するので、不要レジストの露光時にその不要レジス
ト中に発泡現象が生じるのを防止できる。また、光源に
初期特性のばらつき等があったとしても、個々の光源の
それぞれに対して個別に照度を調整することができるの
で、装置のスループットを必要以上に低下させることが
ない。また、照度の調整等の管理維持も容易である。

【００３３】請求項２の発明によれば、光路形成手段に
より導かれる光によって基板の周辺部を走査して基板の
周辺部を容易に露光することができる。請求項３の発明
によれば、絞り体制御手段により駆動源を制御して絞り
体を駆動することにより、基板に照射する光の照度を上
限値以下にするように容易に制御することができる。

【００３４】請求項４の発明によれば、絞り体の駆動量
と照射光の照度の関係をあらかじめ記憶しておき、絞り
体の調節時において、検出した照度から所望の照度を得
るための絞り体の駆動位置を算出することで、迅速に絞
り体の調節を行うことができる。請求項５の発明によれ
ば、光源の駆動力を光源制御駆動手段によって制御する
ことにより、基板に照射する光の照度を上限値以下にす
るように容易に制御することができる。

【００３５】請求項６の発明によれば、基板の周辺部に
照射する光の照度を上限値以下に制御する制御動作を所
定タイミングで実行することにより、常に適当な照度の
光で露光を行うことができる。請求項７の発明によれ
ば、照度検出手段が検出した照度が下限値に達しないと
きには報知手段が報知するので、光の照度が不足したま
まで処理が行われたりすることがなく、オペレータの操
作も容易にできる。

【００３６】請求項８の発明によれば、複数のフィルタ
のうち任意のフィルタをフィルタ選択機構によって選択
して照射光の光路へ挿入できるので、迅速に所望のフィ
ルタを使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例の基板周辺露光装置の構成を
示す模式図である。

【図２】フィルタ支持板の正面図である。

【図３】絞り体の正面図である。

【図４】制御のメインフローチャートである。

【図５】照度変化率表作成のサブルーチンのフローチャ
ートである。

【図６】絞り粗調整のサブルーチンのフローチャートで
ある。

【図７】絞り微調整のサブルーチンのフローチャートで
ある。

【図８】基板処理のサブルーチンのフローチャートであ
る。

【図９】絞り体の位置についての照度の変化率を示す図
である。

【符号の説明】

１基板２チャック３モータ４ＵＶランプ５反射鏡６光ファイバ束８レンズユニット９アーム１０駆動源１１照度検出器１３フィルタ支持板１４絞り体１６，１７モータ１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ，１９ｅフィルタ２２マイコン２２ａＣＰＵ２２ｂメモリ２３キーボード２４ディスプレイ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の周辺部に光を照射する照射手段
と、該照射手段から照射する光の照度を検出する照度検出手
段と、照射する光の照度の上限値を設定する上限設定手段と、該上限設定手段の設定値と前記照度検出手段の検出結果
とに基づき、基板の周辺部に照射する光の照度を上限値
以下に制御する照度制御手段とよりなることを特徴とす
る基板周辺露光装置。
【請求項２】前記照射手段を、光源と、該光源からの光を基板へ導く光路形成手段と、該光路形成手段からの光が前記基板の周辺部にそって走
査するように前記光路形成手段と前記基板とを相対移動
させる走査手段とから構成した請求項１記載の基板周辺
露光装置。
【請求項３】前記照度制御手段を、前記光路形成手段に付設された絞り体と、該絞り体を駆動する駆動源と、該駆動源を制御する絞り体制御手段とから構成した請求
項１または請求項２記載の基板周辺露光装置。
【請求項４】前記絞り体制御手段を、前記絞り体の駆動量と照射光の照度との関係を記憶する
記憶手段と、該記憶手段に記憶された関係に基づき前記絞り体の所望
の駆動位置を算出する算出手段とから構成した請求項３
記載の基板周辺露光装置。
【請求項５】前記照度制御手段を、前記光源の駆動力を制御する光源制御駆動手段により構
成した請求項１または請求項２記載の基板周辺露光装
置。
【請求項６】前記照度制御手段は、基板の周辺部に照射する光の照度を上限値以下に制御す
る制御動作を所定タイミングで実行するものである請求
項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板周辺露光装
置。
【請求項７】照射する光の照度の下限値を設定する下
限設定手段と、前記照度検出手段が検出した照度が前記下限値に達しな
いときに報知する報知手段とをさらに備えた請求項１な
いし請求項６のいずれかに記載の基板周辺露光装置。
【請求項８】複数のフィルタと、該複数のフィルタのうち任意のフィルタを照射光の光路
へ挿入するフィルタ選択機構とをさらに備えた請求項１
ないし請求項７のいずれかに記載の基板周辺露光装置。