JP4471981B2 - リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の検査方法 - Google Patents
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Description
− 放射の投影ビームPB(例えば、UV放射又はEUV放射)を提供するための照明系(照明装置)ILと、
− パターニング手段(例えば、マスク)MAを支持し、アイテムPLに対しパターニング手段を正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続された第1の支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
− 基板(例えば、レジスト被膜のウェハ)Wを保持し、アイテムPLに対し基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続された基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
− パターニング手段MAによって投影ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイを含む)上に結像するための投影系(例えば、反射投影レンズ)PLとを含む。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止が保たれ、投影ビームに付与されたパターン全体が目標部分C上に1回の動作で(つまり1回の静止露光で)投影される。次いで、別の目標部分Cが露光されるように、基板テーブルWTはX方向及び/又はY方向に移動される。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像される目標部分Cのサイズが制約される。
2.走査モードでは、投影ビームに付与されたパターンが目標部分C上に投影(つまり1回の動的露光)される間、マスク・テーブルMTと基板テーブルWTとが同時に走査される。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PLの拡大(縮小)特性及び像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光における目標部分の(非走査方向の)幅が制約されるが、目標部分の(走査方向の)高さは、走査動作の距離によって決まる。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTは、プログラム可能なパターニング手段を保持しながら基本的に静止が保たれ、基板テーブルWTは、投影ビームに付与されたパターンが目標部分C上に投影される間移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス状の放射ソースが使用され、プログラム可能なパターニング手段は、基板テーブルWTの移動が終わるたびに、又は走査中の連続的な放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に述べたタイプのプログラム可能なミラー・アレイなど、プログラム可能なパターニング手段を利用しマスクを利用しないリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (11)
- 放射ビームをビーム経路に沿って基板に提供するためのビーム処理系を含み、前記ビーム処理系が、
前記ビームの放射を前記ビーム経路に沿って反射又は透過する少なくとも1つの光学要素と、
前記ビームを通過させるための開口を有する絞りスクリーンと、
前記ビーム経路内の位置へ前記絞りスクリーンを移動させて、前記ビーム経路の残りの部分への前記ビームの透過を部分的に遮断するように構成され、かつ、前記ビーム経路内の位置から前記絞りスクリーンを移動させるハンドリング部と、
を含むリソグラフィ装置であって、
前記絞りスクリーンに、又はその一部に取り付けられ、前記開口に隣り合って配置され、前記絞りスクリーンが前記ビーム経路内の位置にある場合、前記ビーム経路の残りの部分に沿って送られない前記ビームの一部を受け取るように構成された試験表面と、
前記試験表面の前記ビームの累積照射量の記録手段と、
を含み、
前記試験表面が、前記少なくとも1つの光学要素と同じ材料から作られ、
前記試験表面が、リソグラフィ装置の外部へ取り出し可能である
リソグラフィ装置。 - 前記光学要素の露出面及び前記試験表面のどちらもが、前記ビームの放射に対し反射性である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記試験表面が、前記絞りスクリーンの主面と或る角度をなすように前記絞りスクリーン上に配置され、それによって前記試験表面が、前記ビーム経路の残りの部分以外へ前記ビームを反射する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記絞りスクリーンが、実質的に前記ビーム処理系のひとみ平面内に位置する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記試験表面が、前記絞りスクリーンから脱着可能である、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームをビーム経路に沿って基板に提供するためのビーム処理系を含み、前記ビーム処理系が、
前記ビームの放射を前記ビーム経路に沿って反射又は透過する少なくとも1つの光学要素と、
それぞれ前記ビームを通過させるための開口を有する複数の絞りスクリーンと、
前記ビーム経路内の位置へ前記複数の絞りスクリーンのそれぞれを移動させて、前記ビーム経路の残りの部分への前記ビームの透過を部分的に遮断するように構成され、かつ、前記ビーム経路内の位置から前記絞りスクリーンを移動させるハンドリング部と、
を含むリソグラフィ装置であって、
前記複数の絞りスクリーンのそれぞれに、又は前記複数の絞りスクリーンのそれぞれの一部に取り付けられ、前記開口に隣り合って配置され、前記複数の絞りスクリーンの少なくとも一つが前記ビーム経路内の位置にある場合、前記ビーム経路の残りの部分に沿って送られない前記ビームの一部を受け取るように構成された試験表面と、
前記試験表面の前記ビームの累積照射量の記録手段と、
を含み、
前記試験表面が、前記少なくとも1つの光学要素と同じ材料から作られ、
前記試験表面が、リソグラフィ装置の外部へ取り出し可能である
リソグラフィ装置。 - 少なくとも1つの光学要素により、ビーム経路に沿って基板の方へ放射ビームを生成する段階と、
開口を有する交換可能な絞りスクリーンを前記ビーム経路内へ挿入して、前記経路の残りの部分から前記基板上へ向かう前記ビームを部分的に遮断する段階と、
を含むリソグラフィ装置の検査方法であって、
前記絞りスクリーンに、又はその一部に取り付けられた試験表面が提供され、
前記試験表面が、前記絞りスクリーンが前記ビーム経路内の位置にある場合、前記ビーム経路の前記残りの部分に沿って送られない前記ビームの一部を受け取り、
前記試験表面が、前記少なくとも1つの光学要素と同じ材料から作られ、
前記試験表面の前記ビームの累積照射量を記録する段階と、
前記試験表面を、リソグラフィ装置の外部へ取り出す段階と、
前記試験表面の化学変化を分析する段階と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置の検査方法。 - 前記試験表面の化学変化を分析する段階の後に、
前記放射ビームの露光により前記試験表面に堆積された物質又は前記試験表面から除去された物質を定量する段階と、
前記累積照射量と、前記定量された物質の量と、の比を決定する段階と、
を更に含む、請求項7に記載のリソグラフィ装置の検査方法。 - 前記ビーム経路内に前記絞りスクリーンを置いて、それぞれの期間の間、複数の基板を前記ビームに露光させる段階を含み、前記試験表面を分析する前の前記絞りスクリーンの累積露光期間が、少なくとも10時間である、請求項7又は8に記載のリソグラフィ装置の検査方法。
- 前記光学要素の表面近くの雰囲気に影響を及ぼす動作パラメータを調整する段階を含み、前記動作パラメータが、前記分析の結果に応じて調整される、請求項7乃至9に記載のリソグラフィ装置の検査方法。
- 前記絞りスクリーンが、実質的に前記ビームの処理系のひとみ平面内に配置される、請求項7乃至10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置の検査方法。
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