JP2010114397A5 - - Google Patents
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Description
上記課題を達成するための本発明の露光装置は、原版または基板を保持するステージを有し、前記ステージに保持された前記基板を露光する露光装置であって、前記ステージに設けられた気体室と、前記気体室内で気体の圧力を変化させて前記ステージを加熱および冷却する調節手段と、を有することを特徴とする。
Claims (12)
- 原版または基板を保持するステージを有し、前記ステージに保持された前記基板を露光する露光装置であって、
前記ステージに設けられた気体室と、
前記気体室内で気体の圧力を変化させて前記ステージを加熱および冷却する調節手段と、を有することを特徴とする露光装置。 - 前記調節手段は、前記気体室に給気する給気系と、
前記気体室から排気する排気系と、を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記調節手段は、前記給気系、前記排気系および前記気体室の少なくとも1つに絞りを有することを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記調節手段は、前記気体室と前記給気系と前記排気系とに接続された流量制御弁を含む、ことを特徴とする請求項2または3に記載の露光装置。
- 前記調節手段は、前記気体室と前記給気系と前記排気系とに接続された圧力制御弁を含む、ことを特徴とする請求項2または3に記載の露光装置。
- 前記調節手段は、前記気体室内の圧力を検出する圧力センサと、前記気体室と前記圧力制御弁との間に配置された流量センサとを含み、前記圧力センサおよび前記流量センサの出力に基づいて前記圧力制御弁を制御する、ことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記ステージは、前記原版を保持する原版ステージあるいは前記基板を保持する基板ステージであり、
前記原版ステージは前記原版を保持するチャックを含み、
前記基板ステージは前記基板を保持するチャックを含み、
前記調節手段は、前記気体室を介して前記チャックの温度を調節するものである、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の露光装置。 - 前記ステージを移動するアクチュエータを有し、
前記調節手段は、前記気体室を介して前記アクチュエータの温度を調節するものである、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の露光装置。 - 前記アクチュエータは、リニアモータを含むことを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記ステージに設けられたペルチェ素子を有し、
前記調節手段は、前記気体室および前記ペルチェ素子を介して前記ステージの温度を調節するものである、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の露光装置。 - 前記ステージは、流体の流路としての流体室を有し、
前記調節手段は、前記流体室および前記気体室を介して前記ステージの温度を調節するものである、
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の露光装置。 - 請求項1乃至11のいずれかに記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008288268A JP5355043B2 (ja) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008288268A JP5355043B2 (ja) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010114397A JP2010114397A (ja) | 2010-05-20 |
JP2010114397A5 true JP2010114397A5 (ja) | 2012-01-12 |
JP5355043B2 JP5355043B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=42302708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008288268A Expired - Fee Related JP5355043B2 (ja) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5355043B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6176771B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2017-08-09 | 住友大阪セメント株式会社 | 静電チャック装置 |
NL2009378A (en) * | 2011-10-07 | 2013-04-09 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method of cooling a component in a lithographic apparatus. |
WO2015193053A1 (en) | 2014-06-19 | 2015-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, object positioning system and device manufacturing method |
WO2016066392A1 (en) | 2014-10-28 | 2016-05-06 | Asml Netherlands B.V. | Component for a lithography tool, lithography apparatus, inspection tool and a method of manufacturing a device |
KR20190126450A (ko) | 2015-10-06 | 2019-11-11 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | 리소그래피 장치의 물체를 유지하는 척과 클램프 및 리소그래피 장치의 클램프에 의해 유지되는 물체의 온도를 제어하는 방법 |
JP6745886B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2020-08-26 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板をボンディングするための方法および装置 |
NL2018348A (en) * | 2016-02-24 | 2017-09-06 | Asml Netherlands Bv | Substrate handling system and lithographic apparatus |
CN110379729B (zh) * | 2018-04-13 | 2022-10-21 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 加热基座及半导体加工设备 |
JP2020188284A (ja) * | 2020-08-04 | 2020-11-19 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板をボンディングするための方法および装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01152639A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-15 | Canon Inc | 吸着保持装置 |
JP4311711B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2009-08-12 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US20040244963A1 (en) * | 2003-06-05 | 2004-12-09 | Nikon Corporation | Heat pipe with temperature control |
JP4595431B2 (ja) * | 2004-08-03 | 2010-12-08 | 凸版印刷株式会社 | ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 |
JP2009037391A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-19 | Nikon Corp | 温度調整装置、露光装置、アクチュエータ装置、保持装置、及びデバイス製造方法 |
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2008
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