JP2006295146A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 基板を露光する露光装置であって、
   基板を計測する計測領域と基板を露光する露光領域とを有する定盤と、
   前記定盤の上で駆動される２つの可動体と、
   前記可動体の駆動プロファイルに基づいて前記計測領域の温度を制御する計測領域温度制御系と、
   前記駆動プロファイルに基づいて前記露光領域の温度を制御する露光領域温度制御系とを備え、
   前記計測領域温度制御系および前記露光領域温度制御系は、前記計測領域と前記露光領域との温度差を低減する制御を実行することを特徴とする露光装置。
2. 前記定盤は、基板を計測する計測領域に配置された計測用定盤と基板を露光する露光領域に配置された露光用定盤とを含み、
   前記計測用定盤と前記露光用定盤との間に、前記計測用定盤と前記露光用定盤との間の熱移動を遮断する遮断部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記計測領域温度制御系と前記露光領域温度制御系とは、前記駆動プロファイルに基づいて冷媒の流量を制御する冷媒制御器を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記計測領域温度制御系と前記露光領域温度制御系とは、前記駆動プロファイルに基づいて冷媒の温度を制御する冷媒制御器を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
5. 前記計測領域温度制御系と前記露光領域温度制御系とは、前記定盤および冷媒の少なくとも一方の温度を測定する温度センサを更に含み、前記駆動プロファイルのほか、前記温度センサによる測定結果に基づいて冷媒を制御することを特徴とする請求項３または４に記載の露光装置。
6. 前記駆動プロファイルは、前記可動体の駆動速度の経時的変化を表すことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記計測領域温度制御系と前記露光領域温度制御系とは、前記駆動プロファイルをフィードフォワードすることにより前記計測領域と前記露光領域との温度差を低減する制御を実行することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 前記計測領域と前記露光領域とをそれぞれ温調するヒータを有することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 請求項１ないし８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
   前記基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。