JP6463087B2 - 露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の一実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、液晶表示デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、係る工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、係る製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態に係る物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
65 メニスカスレンズ
69 凸面ミラー
85 第2給気口
86 第2排気口
90 切替制御部
100 露光装置
Claims (10)
- 投影光学系を介して原版のパターンを基板上に露光する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳位置近傍に配置された光学素子の温度を制御するための気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段を制御する制御手段と、を備え、
前記気体供給手段は、前記光学素子の光軸を中心としてそれぞれ異なる角度となる位置に配置され、前記気体を供給可能な給気口を複数有するとともに、前記複数の給気口のうち前記気体を供給する給気口を切替可能とする切替手段を有し、
前記制御手段は、露光光の照射により生じる前記光学素子の温度分布に応じて、前記気体を供給する方向を変更させるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする露光装置。 - 前記気体供給手段は、前記給気口とは前記光学素子の位置を基準として対称となる位置に配置され、前記給気口から供給された前記気体を排気する排気口を複数有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記複数の給気口に接続され、前記気体の温度を調整する温度調整手段を有することを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記切替手段に対して、前記原版を他の原版と交換するとき、前記原版を照明するときの照明条件を変更するとき、または、メンテナンスのときに、前記給気口を切り替えさせることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 投影光学系を介して原版のパターンを基板上に露光する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳位置近傍に配置された光学素子の温度を制御するための気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、露光光の照射により生じる前記光学素子の温度分布を前記パターンの形状に基づいて予測し、該温度分布に基づいて前記気体を供給する方向を変更させるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする露光装置。 - 前記制御手段は、前記原版を照明するときの照明条件に基づいて前記温度分布を予測することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記光学素子は、非球面レンズと、該非球面レンズと光軸方向で隣り合う凸面ミラーとを含み、
前記気体供給手段は、前記非球面レンズと前記凸面ミラーとに挟まれる空間に向けて前記気体を供給する、
ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記光学素子は、凸面ミラーを含み、
前記気体供給手段は、前記凸面ミラーに向けて前記気体を供給する、
ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 投影光学系を介して、原版に形成された、少なくとも1つの線パターンを含むパターンを基板上に露光する露光装置であって、
前記投影光学系の瞳位置近傍に配置された光学素子の温度を制御するための気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記パターンが形成された前記原版を通過した露光光が前記光学素子に入射することで生じる前記光学素子の温度分布に応じて、前記気体を供給する方向を変更させるように、前記気体供給手段を制御し、
前記気体供給手段は、前記少なくとも1つの線パターンの方位に応じた方向に前記気体を供給することを特徴とする露光装置。 - 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014231906A JP6463087B2 (ja) | 2014-11-14 | 2014-11-14 | 露光装置、および物品の製造方法 |
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JP2016095412A JP2016095412A (ja) | 2016-05-26 |
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ID=56071047
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014231906A Active JP6463087B2 (ja) | 2014-11-14 | 2014-11-14 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6463087B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6896404B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-06-30 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
JP7358106B2 (ja) * | 2019-07-31 | 2023-10-10 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
JP7427461B2 (ja) * | 2020-02-06 | 2024-02-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004039905A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Nikon Corp | 露光装置、ミラーの冷却方法、反射マスクの冷却方法及び露光方法 |
JP2008292761A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP6041541B2 (ja) * | 2012-06-04 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2014103343A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-05 | Nikon Corp | 露光装置、プログラム、及び管理システム |
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2014
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016095412A (ja) | 2016-05-26 |
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