JP2014103343A - 露光装置、プログラム、及び管理システム - Google Patents

Abstract

【課題】効率良く複数の露光装置を稼動する。
【解決手段】露光履歴情報と露光ジョブの内容とに基づいて熱収差を予測し（ステップ２０２）、その予測に従って、或いはこの結果から予測される結像特性に従って（ステップ２１４）、さらには露光ジョブの優先度に従って、次の露光ジョブを実行する露光装置を決定するので（ステップ２０４、２１６）、十分な重ね合わせ精度を確保して、稼働率を下げることなく効率良く複数の露光装置を稼動することが可能となる。
【選択図】図３

Description

本発明は、露光装置、プログラム、及び管理システムに係り、更に詳しくは、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記パターンを転写する露光装置、該露光装置に用いられるプログラム、及び複数の前記露光装置を管理する管理システムに関する。

半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）は、ウエハ、ガラスプレート等の基板の表面に電導性薄膜、絶縁性薄膜等の機能膜を設ける工程と、機能膜が設けられた基板の表面にパターン加工を施す工程、すなわち、基板の表面にレジストパターンを形成するリソグラフィ工程と、レジストパターンをエッチングマスクとして機能膜をエッチング加工することにより基板上にパターン（薄膜パターン）を形成するエッチング工程と、を繰り返して、複数の異なるパターン（薄膜パターン）を基板上に積み重ねて形成することにより製造される。

上記のリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）と、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））と、が用いられている。これらの露光装置は、照明光を、レチクル（又はマスク）及び投影光学系を介して、感光剤（レジスト）が塗布された基板上に投射することによって、レチクルに形成されたパターン（の縮小像）を基板上の複数のショット領域に転写する。そして、マスクパターンが転写された基板を現像することにより、その基板上にレジストパターンが形成される。

近年では、量産性（スループット）を向上するために、複数の露光装置を導入し、それらをホストコンピュータを用いて集中管理するリソグラフィシステムを構築することがある。この際、システム内の複数の露光装置を用いて、１つの基板上に複数のパターンを重ね形成する。このリソグラフィシステムにおいて、例えば、ウエハの元工程レイヤに対する露光に用いられた露光装置が稼働中である場合には、稼動していない他の露光装置の１つを用いて現工程レイヤに対する露光を行うように、全露光装置の稼動をスケジューリングすることにより、リソグラフィ工程（さらにそれを含む全デバイス製造工程）に要する時間を短縮することができる。

上述のリソグラフィシステムを運用するに際し、各露光装置において、特に強い変形照明を用いて微細なパターンを基板上に転写する場合に、照明光が投影光学系を構成するレンズエレメントに吸収され、そのレンズエレメントが局所的に発熱し、熱膨張して変形し、或いは熱により屈折率が変化することにより、収差（熱収差と呼ぶ）が生じることがある（例えば特許文献１参照）。通常、熱収差は、レンズコントローラを用いて補正することができる。しかし、例えば、複数の基板を極端に異なる変形照明等を用いて露光すると、レンズコントローラを用いて補正することのできない熱収差が生じることもある。係る場合、投影光学系（レンズエレメント）を冷却するために露光装置を停止しなければならず、これにより露光装置、さらにはリソグラフィシステムの稼働率が低下することとなる。

特開２０１１−２０４８９６号公報

本発明は、上述の事情の下でなされたものであり、第１の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、第１の露光ジョブを実行した時刻、前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写された物体の数、及び前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写されたショットの数のいずれかに基づいて露光履歴情報を算出し、該露光履歴情報と前記第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブとに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、前記熱収差の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える第１の露光装置である。

これによれば、露光履歴情報と露光ジョブの内容とに基づいて熱収差を予測し、その予測に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく効率よく露光装置を稼動することが可能となる。

本発明は、第２の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測に従って前記補正装置を用いて前記熱収差を補正し、該補正の結果に基づいて前記物体上での前記マスクパターンの結像特性を予測し、該結像特性の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える第２の露光装置である。

これによれば、結像特性の予測に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく効率よく露光装置を稼動することが可能となる。

本発明は、第３の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える第３の露光装置である。

これによれば、熱収差の予測と露光ジョブの優先度に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく優先度の高い露光ジョブを効率よく実行することが可能となる。

本発明は、第４の観点からすると、物体上にマスクパターンを転写する複数の露光装置を管理する管理システムであって、マスクパターンを照明する照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を物体に照射する投影光学系と、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、を有し、少なくとも前記マスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って稼動する複数の露光装置と、前記複数の露光装置のうちの少なくとも１つの露光装置に対し、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測に従って前記補正装置を用いて前記熱収差を補正し、前記補正の結果と、該補正の結果に基づいて予測される前記物体上での前記マスクパターンの結像特性と、の少なくとも一方に従って、前記複数の露光装置の中から前記第２の露光ジョブを実行する露光装置を決定する制御部と、を備える管理システムである。

これによれば、熱収差の補正の結果とこの結果から予測される結像特性との少なくとも一方に従って次の露光ジョブを実行する露光装置を決定するので、稼働率を下げることなく効率よく複数の露光装置を稼動することが可能となる。

本発明は、第５の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、第１の露光ジョブを実行した時刻又は前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写された物体の数のいずれかに基づいて露光履歴情報を算出し、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を、前記露光履歴情報と前記第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブとに基づいて予測する手順と、前記熱収差の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、を前記露光装置のコンピュータに実行させるプログラム第１のプログラムである。

これによれば、露光履歴情報と露光ジョブの内容とに基づいて熱収差を予測し、その予測に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく効率よく露光装置を稼動することが可能となる。

本発明は、第６の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を予測する手順と、前記熱収差の予測に従って、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置を用いて前記熱収差を補正する手順と、前記補正の結果に基づいて、前記物体上での前記マスクパターンの結像特性を予測する手順と、前記結像特性の予測に従って、前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、を前記露光装置のコンピュータに実行させる第２のプログラムである。

これによれば、熱収差の予測及び結像特性の予測に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく効率よく露光装置を稼動することが可能となる。

本発明は、第７の観点からすると、少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を予測する手順と、前記熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度とに従って、前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、を前記露光装置のコンピュータに実行させる第３のプログラムである。

これによれば、熱収差の予測と露光ジョブの優先度に従って次に実行する露光ジョブを決定するので、稼働率を下げることなく優先度の高い露光ジョブを効率よく実行することが可能となる。

本発明の第１の実施形態に係るリソグラフィシステムの構成を概略的に示す図である。 図１のリソグラフィシステムを構成する露光装置の概略的な構成を示す図である。 露光装置の稼動を管理する手順（特に、露光ジョブを実行する露光装置を選択する手順）を示すフローチャートである。 図４（Ａ）は二極照明を示す図、図４（Ｂ）は波面収差計測器により計測された熱収差を示す図、図４（Ｃ）は波面収差計測器により計測された熱収差（実線）と予測された熱収差（破線）との比較の一例を示す図である。 第１項〜第３７項までのツェルニケ多項式ｆ_iをＺ_iとともに表すテーブルである。 レンズエレメントの駆動による補正前後の熱収差の状態を示す図である。 図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、それぞれ、熱収差の補正前後の結像特性（ベストフォーカス）の時間変化の一例を示す図である。 第２の実施形態における次に実行する露光ジョブを選択する手順を示すフローチャートである。

《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を、図１〜図７を用いて説明する。

図１には、本発明の第１の実施形態に係るリソグラフィシステム１００の構成が概略的に示されている。リソグラフィシステム１００は、Ｎ台の露光装置１１０₁〜１１０_N、記憶装置１４０、ターミナルサーバ１５０、及びホストコンピュータ（以下、単に、ホストと呼ぶ）１６０を備えている。

リソグラフィシステム１００において、露光装置１１０₁〜１１０_N及びターミナルサーバ１５０は、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１７０に接続されている。さらに、ターミナルサーバ１５０には、ホスト１６０が接続されている。ホスト１６０には、スカジー（ＳＣＳＩ）等の通信路１８０を介して、記憶装置１４０が接続されている。すなわち、露光装置１１０₁〜１１０_N、記憶装置１４０、ターミナルサーバ１５０、及びホスト１６０の間の通信経路が設けられている。

露光装置１１０₁〜１１０_Nには、少なくとも１つのステップ・アンド・スキャン方式（走査露光方式）の縮小投影露光装置（特に混乱のない限り、単に、露光装置と呼ぶ）１１０_k（ｋは１〜Ｎのいずれかを表すインデックス）を含む。

図２には、露光装置１１０_kの概略的な構成が示されている。露光装置１１０_kは、照明系ＩＯＰ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルステージＲＳＴを駆動するレチクルステージ駆動系２２、レチクルＲに形成されたパターンを感光剤（レジスト）が塗布されたウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持してＸＹ平面内を移動するウエハステージＷＳＴ、ウエハステージＷＳＴを駆動するウエハステージ駆動系２４、及びこれらの制御系等を備えている。

照明系ＩＯＰは、例えばＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）（又はＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）など）から成る光源、及び光源に送光光学系を介して接続された照明光学系を含む。照明光学系は、例えば特開２００１−３１３２５０号公報（対応する米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書）などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含み、それらを用いて光源から射出されたレーザビームを整形する。ここで、オプティカルインテグレータの後方に位置する照明光学系の瞳位置に絞りを挿入することで、輪帯照明、四重極照明等の変形照明が形成される。整形されたレーザビーム（以下、照明光ともいう）ＩＬを、レチクルＲ上でＸ軸方向（図２における紙面直交方向）に細長く伸びるスリット状の照明領域にほぼ均一な照度で照射する。

レチクルステージＲＳＴは、照明系ＩＯＰの下方に配置されている。ここで、レチクルステージＲＳＴ上には、パターンが形成されたレチクルＲが載置されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系２２により、水平面（ＸＹ平面）内で微小駆動可能で、且つ走査方向（Ｙ軸方向）に所定のストローク範囲で所定の走査速度で駆動可能に構成されている。

レチクルステージＲＳＴの側面には、移動鏡１５が固定されている。レチクル干渉計１６は、移動鏡１５にレーザビーム（測長ビーム）を投射し、移動鏡１５からの反射光を受光することにより、レチクルステージＲＳＴの水平面（ＸＹ平面）内での位置を計測する。レチクル干渉計１６の計測結果は、主制御装置５０に供給される。

レチクルステージＲＳＴの上方に、例えば特開平７−１７６４６８号公報等に開示されるような一対のレチクルアライメント検出系（図示省略）が設けられている。レチクルアライメント検出系は、照明光ＩＬと同じ波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系から構成されている。レチクルアライメント検出系の検出信号は、主制御装置５０に供給される。

投影光学系ＰＬは、レチクルステージＲＳＴの下方に配置されている。投影光学系ＰＬとして、例えば、レンズ鏡筒３２と、その中に光軸ＡＸ方向に沿って所定間隔で配置された複数のレンズエレメント２７，２９，３０，３１，…と、を含んで構成された両側テレセントリック光学系が用いられる。

投影光学系ＰＬの投影倍率は、例えば、１／５（或いは１／４）である。そのため、前述の如く照明光ＩＬによりレチクルＲが均一な照度で照明されると、その照明領域内のレチクルＲのパターンが、投影光学系ＰＬにより縮小されてレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上に投影される。そして、ウエハＷ上の被露光領域（ショット領域）の一部に、パターンが転写される（レジストにパターンの潜像が形成される）。

露光装置１１０_kには、投影光学系ＰＬの結像特性、例えば収差（熱収差を含む）を補正する結像修正装置（レンズコントローラ）１２が設けられている。結像修正装置１２は、投影光学系ＰＬを構成する光学素子群（レンズ群）を光軸ＡＸに対して任意の方向に傾斜及び平行な方向に駆動することで、球面収差（結像位置の収差）、コマ収差（倍率の収差）、非点収差、像面湾曲、歪曲収差（歪み）等の投影光学系ＰＬの収差を補正する。

結像修正装置１２は、レンズエレメント２７の支持部材２８、駆動素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃ、及びこれらを制御する制御部１２_０より構成される。ここで、投影光学系ＰＬを構成するレンズエレメントのうち、レチクルＲに最も近いレンズエレメント２７は、支持部材２８に固定されている。（その他のレンズエレメント２９，３０，３１，…は、レンズ鏡筒３２に固定されている。）支持部材２８は、複数（ここでは３つ）の駆動素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃ（但し、図２では紙面奥側の駆動素子１１ｃは図示省略）を介して、投影光学系ＰＬのレンズ鏡筒３２と連結されている。駆動素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、例えばピエゾ素子を含み、光軸ＡＸ方向に伸縮する。

制御部１２_０は、主制御装置５０からの波面収差（熱収差）の修正に関する指示に従い、駆動素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃを制御して、レンズエレメント２７を光軸ＡＸ方向及び光軸ＡＸに対する傾斜方向に駆動する。ここで、レンズエレメント２７の駆動量は位置センサ（不図示）により測定され、その測定結果は制御部１２_０に送信される。それにより、波面収差（熱収差）が修正される。

なお、上述の結像修正装置１２では、簡単のため、レンズエレメント２７のみを駆動する構成を採用した。これに限らず、複数のレンズエレメント或いはレンズ群を駆動する構成を採用しても良い。それにより、波面収差（熱収差）をより微細に修正することが可能となる。

また、結像修正装置１２は、熱源、冷媒等を含む熱制御部材を用いて投影光学系ＰＬを構成する複数のレンズエレメントの温度を調整することで、波面収差（熱収差）を修正することもできる。ここで、結像修正装置１２は、温度センサ（不図示）を用いて複数のレンズエレメントの温度を直接測定する、或いは熱制御部材の温度を測定することで間接的に複数のレンズエレメントの温度を測定する。

ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの下方に配置されている。ウエハステージＷＳＴに設置されたウエハホルダ９上に、ウエハＷが、真空吸着等により保持されている。ウエハホルダ９は、ホルダ駆動部（不図示）により、投影光学系ＰＬの最良結像面に対して傾斜可能で、かつ光軸ＡＸ方向（Ｚ軸方向）に微動可能で、さらに光軸ＡＸに平行なＺ軸回りに回転可能に構成されている。

ウエハステージＷＳＴは、リニアモータ等を含むウエハステージ駆動系２４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｚ軸方向、Ｘ軸回りの回転方向（θｘ方向）、Ｙ軸回りの回転方向（θｙ方向）、及びＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）に微小駆動される。なお、ウエハステージＷＳＴに代えて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に移動する第１ステージと、第１ステージ上でＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に微動する第２ステージと、を備えるステージを用いても良い。

ウエハステージＷＳＴの側面には、移動鏡１７が設けられている。ウエハ干渉計１８は、移動鏡１７にレーザビーム（測長ビーム）を投射し、移動鏡１７からの反射光を受光することにより、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置（ヨーイング（θｚ方向の回転θｚ）を含む）及びＸＹ平面に対する傾斜（ピッチング（θｘ方向の回転θｘ）及びローリング（θｙ方向の回転θｙ））を計測する。

ウエハ干渉計１８の計測結果は、主制御装置５０に供給される。主制御装置５０は、ウエハ干渉計１８の計測結果に従って、ウエハステージ駆動系２４を介してウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置（θｚ方向の回転を含む）を制御する。

また、投影光学系ＰＬの下端部の近傍には、ウエハＷの表面の光軸ＡＸ方向の位置及び光軸ＡＸに対する傾斜を計測する多点焦点位置検出系（１３，１４）が配置されている。本実施形態では、多点焦点位置検出系として、特開平６−２８３４０３号公報等に開示される斜入射方式の検出系を採用している。多点焦点位置検出系は、ウエハＷの表面に向けて結像光束を射出する照射光学系１３と、ウエハＷの表面からの反射光束をスリットを介して受光する受光光学系１４と、から構成される。多点焦点位置検出系（１３，１４）の計測結果は、主制御装置５０に供給される。主制御装置５０は、その計測結果に従って、ホルダ駆動系（不図示）を介してウエハホルダ９をＺ軸方向及び傾斜方向に駆動して、ウエハＷのフォーカス・レベリング制御を行う。

また、ウエハステージＷＳＴ上には、基準マーク板ＦＭが固定されている。ここで、基準マーク板ＦＭの表面の高さは、ウエハホルダ９上に載置されるウエハＷのそれとほぼ等しい。基準マーク板ＦＭの表面には、ベースライン、すなわち投影光学系ＰＬとアライメント検出系８との間隔を計測するベースライン計測用の基準マーク及びレチクルアライメント用の基準マーク等が形成されている。

また、基準マーク板ＦＭには、投影光学系ＰＬの波面収差の計測をオン・ボディにて行うことができる波面収差計測器８０、投影像の像強度分布を測定する空間像計測器（不図示）等が内設されている。波面収差計測器８０と空間像計測器（不図示）とからの計測データは、主制御装置５０に供給される。

投影光学系ＰＬの側面には、ウエハＷ上の各ショット領域に付設されたアライメントマーク（ウエハマーク）及び基準マーク板ＦＭに設けられた基準マークを検出するためのアライメント検出系８が設けられている。アライメント検出系８として、例えば、画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。ここで、ＦＩＡ系は、例えばハロゲンランプ等のブロードバンド（広帯域）光をマークに照射し、マークからの反射光を受光して、マークを撮像する。そして、撮像結果を画像処理することによって、マークの位置を計測する。アライメント検出系８の検出結果は、アライメント信号処理系（不図示）を介して主制御装置５０に供給される。

主制御装置５０は、例えば、マイクロコンピュータ（あるいはワークステーション）から構成され、上述の露光装置１１０_kの構成各部を統括制御する。また、本実施形態では、主制御装置５０は、露光装置１１０_kに併設された不図示のコータ・デベロッパ（以下、「Ｃ／Ｄ」と呼ぶ）も制御する。図１に示されるように、主制御装置５０は、ＬＡＮ１７０に接続され、他の露光装置１１０₁〜１１０_N（ただし、１１０_kを除く）の主制御装置５０及びホスト１６０等と通信することができる。

上述の走査露光方式の露光装置１１０_kの露光工程における動作を、簡単に説明する。

露光に先立って、主制御装置５０は、ホスト１６０から露光ジョブの内容を受信する。ここで、露光ジョブは、例えば、使用するレチクル（パターン）、これに対応して使用する照明形状、これらのレチクルと照明形状を用いて露光処理するウエハ（ロット）数等を内容とする。主制御装置５０は、露光ジョブの内容に従って、指定されたレチクルＲをレチクルステージＲＳＴにロードし、照明系ＩＯＰ内の照明光学系の瞳位置にレチクルＲのパターンに対応する絞りを入れて所望の照明形状（変形照明を含む）を形成して、指定の数のウエハ（ロット）を露光処理する。

露光ジョブが開始されると、露光装置１１０_kに併設されたＣ／Ｄ（不図示）により感光層（レジスト）が塗布されたウエハＷが、ウエハステージＷＳＴのウエハホルダ９上に載置される。主制御装置５０は、アライメント検出系８を用いて、ウエハＷの表面に付与された（ウエハＷ上のサンプルショット領域に付設された）アライメントマークを検出し、アライメント計測（ＥＧＡ）を実行する。それにより、ＸＹ平面内におけるウエハＷ上のショット領域の位置（さらに走査方向に関する倍率、光軸ＡＸ周りの回転、直交度）が定められる。なお、アライメント計測（ＥＧＡ）の詳細は、例えば、特開平６−３４９７０５号公報に記載されている。

主制御装置５０は、アライメント計測（ＥＧＡ）の結果に従って、レチクルＲのパターンの投影位置（投影光学系ＰＬの投影中心）とウエハＷ上の各ショット領域の相対位置関係を算出する。その結果に従って、走査露光により、ウエハＷ上の全ショット領域内に、順次、レチクルＲのパターンを露光する。

ウエハＷ上の各ショット領域に対する走査露光では、主制御装置５０は、レチクル干渉計１６とウエハ干渉計１８の計測結果を監視して、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴをそれぞれの走査開始位置（加速開始位置）に移動させる。そして、両ステージＲＳＴ，ＷＳＴをＹ軸方向に、ただし互いに逆向きに、相対駆動する。ここで、両ステージＲＳＴ，ＷＳＴがそれぞれの目標速度に達すると、照明光ＩＬによってレチクルＲのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。

主制御装置５０は、走査露光中、Ｙ軸方向についてのレチクルステージＲＳＴの速度ＶｒとウエハステージＷＳＴの速度Ｖｗとを投影光学系ＰＬの投影倍率に対応する速度比に維持するように、レチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴを同期駆動する。ここで、主制御装置５０は、結像修正装置１２を介してレンズエレメント２７を駆動して、或いは複数のレンズエレメントの温度を調整して、投影光学系ＰＬの波面収差（熱収差）を修正する。詳細は、後述する。

レチクルＲがＹ軸方向に移動することにより、そのパターン領域の全域が照明光ＩＬにより照明される。それと同時にウエハＷがＹ軸方向に、ただしレチクルＲと逆方向に、移動することにより、レチクルＲのパターンがウエハＷ上に転写される。それにより、ウエハＷ上のショット領域の１つに対する走査露光が終了する。

ショット領域の１つに対する走査露光が終了すると、主制御装置５０は、ウエハステージＷＳＴを、次のショット領域に対する走査開始位置（加速開始位置）へ移動（ステップ移動）させる。そして、先と同様に、次のショット領域に対する走査露光を行う。その他のショット領域に対する走査露光も、同様に行う。このように、ショット領域間のステップ移動と各ショット領域に対する走査露光とを繰り返して、ウエハＷ上の全てのショット領域にレチクルＲのパターンを転写する。

主制御装置５０は、ロット処理終了時、ウエハ交換時等、適宜、波面収差計測器８０を用いて投影光学系ＰＬの波面収差を測定する。また、主制御装置５０は、適宜、結像修正装置１２を介して投影光学系ＰＬを構成する複数のレンズエレメントの温度を測定する。

図１に示されるように、露光装置１１０₁〜１１０_Nのそれぞれが備える主制御装置５０は、ＬＡＮ１７０及びターミナルサーバ１５０を介して、ホスト１６０と通信することができる。ここで、ターミナルサーバ１５０は、ＬＡＮ１７０とホスト１６０との間の通信プロトコルの相違を修正するゲートウエイプロセッサである。この機能により、ホスト１６０と、ＬＡＮ１７０に接続された露光装置１１０₁〜１１０_Nとの間の通信が可能となる。

主制御装置５０は、露光ジョブを終了すると或いは定期的に、終了した露光ジョブの内容（例えば、使用したレチクル（パターン）、これに対応して使用した照明形状等）、その露光ジョブの内容に従って処理されたウエハ（ロット）数、その処理時刻及び処理に要した時間（要するに、露光装置の稼動・停止情報）、各露光装置１１０₁〜１１０_Nの投影光学系ＰＬの波面収差に関する情報（波面収差計測器８０からの計測情報）、投影光学系ＰＬを構成する複数のレンズエレメントの温度情報等を、ホスト１６０に送信する。ホスト１６０は、受信した各種情報に基づいて、各露光装置１１０₁〜１１０_Nのそれぞれについて露光履歴情報を算出する。

ホスト１６０は、リソグラフィシステム１００を統括的に管理するコンピュータである。ホスト１６０は、各露光装置１１０₁〜１１０_Nから送られてくる露光履歴情報等を、記憶装置１４０に記録する。ホスト１６０は、これらの情報に基づいて、全てのウエハ（ロット）の露光工程（を含む全デバイス加工工程）における全露光装置の稼動をスケジューリングする。その詳細は後述する。

また、ホスト１６０は、露光装置１１０₁〜１１０_Nの投影光学系ＰＬの波面収差に関する情報、レンズエレメントの温度情報等を用いて、その波面収差を補正するための補正パラメータを作成する。作成された補正パラメータは、記憶装置１４０に記録される。そして、露光装置１１０_kに対してウエハの露光を指示する際には、記憶装置１４０から必要な補正パラメータを読み出し、露光ジョブの内容とともに露光装置１１０_kに送信する。なお、記憶装置１４０には、露光装置１１０₁〜１１０_Nの投影光学系ＰＬ（レンズエレメント）の制御情報、投影光学系ＰＬの波面収差に関する情報（補正パラメータを求める際に使用される係数等）等が記録されている。補正パラメータの作成については、後述する。

また、ホスト１６０には、マンマシンインタフェースである表示ディスプレイ、キーボード、及びマウス等の入出力装置１６１が備えられている。

その他、ホスト１６０には、ＣＤ（compact disc）、ＤＶＤ（digital versatile disc）等の情報記録媒体のドライブ装置（不図示）が接続されている。ドライブ装置（不図示）には、後述するように投影光学系ＰＬの波面収差（及び結像特性）を予測するプログラム、その波面収差（波面収差計測器８０の測定結果）をツェルニケ係数に変換する変換プログラム、その波面収差を補正するための補正パラメータを求めるプログラム、次の露光ジョブを実行する露光装置を決定するプログラム等が書き込まれた情報記録媒体（以下の説明では便宜上ＣＤ−ＲＯＭとする）がセットされている。なお、これらのプログラムは記憶装置（不図示）にインストールされていても良い。ホスト１６０には、適宜、これらのプログラムをメモリ上に読み出す。

ＬＡＮ１７０には、バス型ＬＡＮ及びリング型ＬＡＮのいずれも採用可能である。本実施形態では、ＩＥＥＥ８０２規格のキャリア敏感型媒体アクセス／競合検出（ＣＳＭＡ／ＣＤ）方式のバス型ＬＡＮを採用する。

本実施形態のリソグラフィシステム１００では、システムを構成する露光装置１１０₁〜１１０_Nを適宜用いて、１つの基板上に複数のパターンを重ね形成する。すなわち、露光装置１１０₁〜１１０_Nのうち稼動していない露光装置を適宜用いてウエハの現工程レイヤに対する露光を行うように全露光装置の稼動を最適化することにより、リソグラフィ工程（さらにそれを含む全デバイス製造工程）に要する時間を短縮する。

リソグラフィシステム１００の稼働において、各露光装置における投影光学系ＰＬの収差、特に熱収差が問題となる。熱収差は、結像修正装置（レンズコントローラ）１２を用いることで、補正することができる。しかし、例えば、強い変形照明を用いて多くのウエハを露光するとその補正の限界を超える、或いは極端に異なる変形照明等を用いて露光すると補正することのできない熱収差が生じることもある。係る場合、露光装置を停止して投影光学系ＰＬ（複数のレンズエレメント）を冷却するため、露光装置、すなわちリソグラフィシステムの稼働率が低下することとなる。

そこで、本実施形態のリソグラフィシステム１００では、各露光装置１１０₁〜１１０_Nの投影光学系ＰＬの熱収差を管理して、投影光学系ＰＬ（複数のレンズエレメント）を冷却するために露光装置を停止することのないよう、或いはその停止時間が短くなるよう全露光装置１１０₁〜１１０_Nの稼動を最適に管理する。

図３には、本実施形態における露光装置の稼動を管理する手順（特に、露光ジョブを実行する露光装置を選択する手順）を示すフローチャートが与えられている。

本実施形態のリソグラフィシステム１００では、ホスト１６０に対して露光ジョブを予約し、ホスト１６０がその露光ジョブを実行する露光装置を選択することで、リソグラフィシステム１００を構成する全露光装置１１０₁〜１１０_Nが稼働する。ここで、露光ジョブは、オペレータ等により適宜、或いは予め定められたスケジュールに従って自動的に、予約される。露光ジョブは、使用するレチクル（パターン）、これに対応して使用する照明形状、これらのレチクルと照明形状を用いて露光処理するウエハ（ロット）数等を内容とする。ホスト１６０は、予約された露光ジョブの内容を確認し、露光装置１１０₁〜１１０_Nのうちのいずれかの露光装置を選択してその露光装置にその露光ジョブの内容を送信する。露光装置１１０₁〜１１０_Nのそれぞれは、先述の通り、露光ジョブの内容を受信し、その内容に従ってウエハ（ロット）を露光処理する。

ステップ２００では、予約されている露光ジョブの中から実行判断する露光ジョブを選択する。ここで、露光ジョブは、例えば、予約された順番に予約順位が与えられている。そこで、最先の予約順位の露光ジョブを選択する。

なお、緊急を要する露光ジョブを予約する場合、優先的にその露光ジョブを処理できるように、例えば、優先度を指定し、その優先度に応じて予約順位を繰り上げることとする。

ステップ２０２において、ホスト１６０は、露光ジョブの実行判断をするに当たり、（現時刻における）各露光装置１１０₁〜１１０_Nの投影光学系ＰＬの熱収差Ｗ_０（ρ，θ）を予測する。ここで、波面収差（基準面からのずれ）は、極座標系（ρ，θ）において表される。熱収差（波面収差）は、各露光装置１１０₁〜１１０_Nにおいて、先述の通り、ロット処理終了時、ウエハ交換時等、適宜、波面収差計測器８０により計測され、その計測情報がホスト１６０に送信されている。

熱収差は、各露光装置１１０₁〜１１０_Nから送信される露光履歴情報に基づいて予測することもできる。係る場合、リソグラフィシステム１００の稼動に先立って、ホスト１６０は、各露光装置１１０₁〜１１０_N（或いはこれらのいずれか）において、使用される全てのレチクルＲとこれを照明する変形照明を用いて単位数のウエハを上述の通り露光処理し、その後、波面収差計測器８０を用いて熱収差（波面収差）を計測する、又は露光されたウエハ上に形成されたレジストパターンを検出し、その検出結果から熱収差（波面収差）を求める。或いは、使用される全てのレチクルＲ（パターンの形状、透過率、位相、膜厚等のレチクルパターン及びレチクル構造の情報）とこれを照明する照明形状の情報に対して光学シミュレーションを行って、熱収差（波面収差）を求めることもできる。ホスト１６０は、得られた熱収差情報を、全てのレチクルＲとこれを照明する変形照明との組みに対応付けてデータ化し、記憶装置１４０に記録する。ホスト１６０は、これらの予め求められた熱収差情報を用いて、各露光装置１１０₁〜１１０_Nから送られてくる各種情報（処理した露光ジョブの内容とその処理時刻、露光装置の稼動・停止情報、レンズエレメントの温度情報等）から算出した露光履歴情報に基づいて、現時刻における各露光装置１１０₁〜１１０_Nの熱収差Ｗ_０（ρ，θ）を求める。

なお、例えば、使用されるレチクルの変更の有無とレチクルを照明する照明形状の変更の有無によって、露光ジョブが変更されるまでの時間が異なる。その時間が異なれば熱収差も変わるため、熱収差の予測において、さらに、先の露光ジョブから次の露光ジョブに変更されるまでの時間に基づいて行うこととしてもよい。また、熱収差の予測は、投入済みの露光ジョブが終了する前に行なうこととしてもよい。

図４（Ｂ）には、図４（Ａ）に示される二極照明を用いてＮＡＮＤゲートパターンを露光する露光ジョブの終了後に波面収差計測器８０により計測された熱収差が示されている。図４（Ｃ）には、この露光ジョブの実行中及びその終了後の冷却時において、波面収差計測器８０により計測された熱収差（実線）の時間変化と上述のように予測された熱収差（破線）の時間変化との比較の一例が示されている。図４（Ｃ）には、熱収差のＺ_５成分（詳細は後述する。）が示されている。時間１８００秒までの露光処理により熱収差Ｚ_５の拡大、その後の冷却による縮小ともに良く一致している。これから、熱収差を、波面収差計測器８０を用いて実測するに限らず、上述の通り十分な精度で予測することも可能であることがわかる。

なお、ステップ２０２における熱収差の予測は、露光ジョブの実行判断とは独立に、例えば定期的に（或いは適宜）実行することとしてもよい。

次に、ホスト１６０は、露光装置１１０₁〜１１０_Nのうち待ち状態にある露光装置について、その選択された露光ジョブを実行した場合の投影光学系ＰＬの熱収差の拡大ΔＷ（ρ，θ）を予測する。この予測の詳細は、先述の露光履歴情報に基づいて予測することと同様である。

なお、待ち状態にある露光装置に限らず、稼働中の露光装置のうち露光ジョブの実行終了が間近の露光装置等を含めて、或いは全ての露光装置１１０₁〜１１０_Nについて、熱収差の拡大ΔＷ（ρ，θ）を予測することとしてもよい。

ステップ２０４では、ホスト１６０は、これらの結果より、選択された露光ジョブを実行した場合の投影光学系ＰＬの熱収差をＷ（ρ，θ）＝Ｗ_０（ρ，θ）＋ΔＷ（ρ，θ）と予測し、待ち状態にある露光装置のうちこの予測された熱収差を補正することのできる露光装置を選択する。

熱収差（波面収差）Ｗ（ρ，θ）は、極座標系（ρ，θ）において、次のようにツェルニケ多項式ｆ_ｉ（ρ，θ）を用いて展開することができる。

Ｗ（ρ，θ）＝Σ_{ｉ＝１〜Ｉ}Ｚ_ｉｆ_ｉ（ρ，θ） …（１）
図５には、第１項〜第３７項までのツェルニケ多項式ｆ_iがＺ_iとともに表されている。なお、ツェルニケ多項式ｆ_iによる展開項の数は３７に限らず、特に限定されるものではない。

各露光装置１１０₁〜１１０_Nの結像修正装置１２の補正パラメータは、レンズエレメント２７の光軸ＡＸ方向の変位Ｌ及び光軸ＡＸに対する傾斜θｘ，θｙである。その他のレンズエレメントも駆動可能な場合にはそれらの光軸ＡＸ方向の変位Ｌ及び光軸ＡＸに対する傾斜θｘ，θｙ、その他、照明光の波長、照明光学系の開口数ＮＡ、コヒーレンスファクター等の照明条件、レンズエレメントの温度情報等も考慮されるが、簡単のため省略する。

係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）は、レンズエレメント２７の変位Ｌ及び傾斜θｘ，θｙの関数として表すことができる。ここで、線形近似が良い近似で成り立つとして、係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）を次のように展開する。

式（２）は、次のように行列形式で表すことができる。

ここで、３つの行列を順に［Ｚ］，［∂Ｚ］，［Ｌ］と表記すると、式（３）は［Ｚ］＝［∂Ｚ］・［Ｌ］と表される。

ホスト１６０は、いずれかの露光装置（露光装置１１０_ｋとする）について熱収差Ｗ（ρ，θ）が予測されると、ツェルニケ多項式ｆ_iを用いて式（１）のように展開し、係数Ｚ_iを最小自乗法等を用いて決定する。ホスト１６０は、決定された係数Ｚ_iを式（３）に適用し、変分原理（変分原理に基づく勾配法）等を用いて、或いは次式に適用して、レンズエレメント２７の変位Ｌ及び傾斜θｘ，θｙ（の変量）を求める。

［Ｌ］＝｛［∂Ｚ］^T［∂Ｚ］｝^-1・［∂Ｚ］^T・［Ｚ］ …（４）

なお、式（３）内の係数∂Ｚ_i／∂Ｌ，∂Ｚ_i／∂θｘ，∂Ｚ_i／∂θｙ（ｉ＝１〜Ｉ）は、ホスト１６０により、適宜作成され、記憶装置１４０内に記録されている。係数∂Ｚ_i／∂Ｌ，∂Ｚ_i／∂θｘ，∂Ｚ_i／∂θｙ（ｉ＝１〜Ｉ）は、光学シミュレーションにより求めることができる。光学シミュレーションでは、レンズエレメント２７の光軸方向の位置Ｌ及び傾斜θｘ，θｙに対する波面収差Ｗ（ρ，θ）が求められる。そこで、位置Ｌ及び傾斜θｘ，θｙを基準状態、例えばＬ＝θｘ＝θｙ＝０に定め、それらの１つを基準状態から単位量ずらして、波面収差Ｗ（ρ，θ）を求める。求められた波面収差Ｗ（ρ，θ）を式（１）のようにツェルニケ多項式ｆ_ｉ（ρ，θ）を用いて展開することにより、係数∂Ｚ_i／∂Ｌ，∂Ｚ_i／∂θｘ，∂Ｚ_i／∂θｙ（ｉ＝１〜Ｉ）が近似的に求められる。また、露光装置１１０_ｋにおいて実測することも可能である。レンズエレメント２７の光軸方向の位置Ｌ及び傾斜θｘ，θｙのそれぞれを、基準状態から単位量ずらして、波面収差計測器８０を用いて波面収差Ｗ（ρ，θ）を求めることで、係数∂Ｚ_i／∂Ｌ，∂Ｚ_i／∂θｘ，∂Ｚ_i／∂θｙ（ｉ＝１〜Ｉ）を求めることもできる。

露光装置１１０_ｋは、求められた補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙに従って、レンズエレメント２７を、光軸ＡＸ方向に距離−Ｌ変位し、光軸ＡＸに対してＸ軸周りに及びＹ軸周りにそれぞれ−θｘ，−θｙ傾斜することにより、対応する係数Ｚ_ｉがゼロとなり、熱収差Ｗ（ρ，θ）を補正することができる。しかし、レンズエレメント２７の光軸ＡＸ方向への駆動ストローク、光軸ＡＸに対するＸ軸周り及びＹ軸周りの傾斜ストロークには限界がある。これらの駆動ストローク及び傾斜ストロークの限界をＬ_th，θｘ_th，θｙ_thと表す。

そこで、ホスト１６０は、待ち状態にある露光装置のうちから、求められた補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙがいずれも限界Ｌ_th，θｘ_th，θｙ_thを超えない露光装置１１０_ｋを、次の露光ジョブを実行する露光装置として選択する。なお、これらの限界Ｌ_th，θｘ_th，θｙ_thに対応して、補正することのできる係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）の限界も式（３）より定まる。係数の限界をＺ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）と表す。そこで、ホスト１６０は、待ち状態にある露光装置のうちから、求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）がいずれも限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えない露光装置１１０_ｋを次の露光ジョブを実行する露光装置として選択することとしてもよい。

露光装置が選択されると、ステップ２０６において、ホスト１６０は、露光ジョブを選択した露光装置１１０_ｋに投入する。すなわち、ホスト１６０は、露光ジョブの内容とともに求められた補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙを選択した露光装置１１０_ｋに送信する。露光装置１１０_ｋ（主制御装置５０）は、受信した補正パラメータ（変量データ）に従って、レンズエレメント２７を、光軸ＡＸ方向に距離−Ｌ変位し、光軸ＡＸに対してＸ軸周りに及びＹ軸周りにそれぞれ−θｘ_j，−θｙ_j傾斜する。それにより、熱収差Ｗ（ρ，θ）が補正される。

図６には、熱収差の補正の一例が示されている。上述のようにレンズエレメント２７を駆動することで、図６に示されるように、左図の大きな熱収差が右図の小さな熱収差に補正される。

そして、露光装置１１０_ｋは、先述の通り、露光ジョブを実行する。

露光ジョブの投入後、ホスト１６０は予約された露光ジョブ中から投入した露光ジョブを削除し、ステップ２００に戻る。

一方、ステップ２０４において、待ち状態にある露光装置のいずれについても求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）のうちの１以上が対応する限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超え、露光装置を選択することができない場合も考えられる。係る場合、ステップ２１２に進む。

ステップ２１２では、ホスト１６０は、待ち状態にある露光装置のそれぞれについて、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えない係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）については補正し（係数Ｚ_iの値は変えない）、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超える係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）については補正しない（係数Ｚ_iの値をゼロとする）又は限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）まで補正する（係数Ｚ_iの値を対応する限界Ｚ_ｔｈ，iの値に置き換える）こととする。これらの係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）に対して、先述の通り補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙを求める。

ステップ２１４では、ホスト１６０は、待ち状態にある露光装置のそれぞれについて、求められた補正パラメータ（変量データ）を用いて、さらに複数のレンズエレメントの位置や傾斜を調整して、熱収差を補正し、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えた一部の係数Ｚ_iについては補正していない又は可能な限り補正した状態において線幅（その変動を含む）、コントラスト、ベストフォーカス、転写されるマスクパターンの傾き等の結像特性を予測する。なお、結像特性は、例えば、空間像計測器（不図示）を用いて測定することができる。ここで、結像特性の予測に用いられるパターンは、実パターンを計測したものでもよいし、空間像を計算したものでもよい。また、予め、係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）と結像特性との関係（結像特性情報）を求め、データ化して記憶装置１４０に記録し、係る結像特性情報を用いて上で補正した係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）から結像特性を求めることもできる。

ステップ２１６では、ホスト１６０は、ステップ２１４において待ち状態にある露光装置のいずれについて予測された結像特性が露光精度（重ね合わせ精度等）を維持するにあたり十分である場合には、その露光装置１１０_ｋを次の露光ジョブを実行する露光装置として選択する。或いは、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えた未補正又は部分的に補正した係数Ｚ_i（に対応する収差成分）が、次の露光ジョブにより指定されるレチクルパターンに対して問題にならない場合には、その露光装置１１０_ｋを次の露光ジョブを実行する露光装置として選択する。

図７（Ａ）及び図７（Ｂ）には、熱収差の補正前後の結像特性（ベストフォーカス）の一例が示されている。熱収差の補正をしない場合、図７（Ａ）に示されるように、ベストフォーカスは露光時間の経過とともに拡大するのに対し、上述の熱収差の補正をした場合、図７（Ｂ）に示されるように、ベストフォーカスの拡大は緩やかになり、改善されていることがわかる。

露光装置が選択されると、ステップ２１８において、ホスト１６０は、露光ジョブを選択した露光装置１１０_ｋに投入する。すなわち、ホスト１６０は、露光ジョブの内容とともに求められた補正パラメータＬ，θｘ，θｙ（レンズエレメントの調整温度も含む変量データ）を選択した露光装置１１０_ｋに送信する。露光装置１１０_ｋ（主制御装置５０）は、先述の通り、受信した補正パラメータ（レンズエレメントの調整温度も含む変量データ）に従って熱収差Ｗ（ρ，θ）を補正し、露光ジョブを実行する。

露光ジョブの投入後、ホスト１６０は予約された露光ジョブ中から投入した露光ジョブを削除し、ステップ２００に戻る。

一方、ステップ２１６において、待ち状態にある露光装置のいずれについても予測された結像特性が露光精度（重ね合わせ精度等）を維持するにあたり十分でない場合も考えられる。係る場合、露光装置は選択せず、ステップ２２０に進んで、その露光ジョブの予約順位を変更して、例えば最後位に下げて、ステップ２００に戻る。

ステップ２００に戻ると、次の予約順位の露光ジョブについて、同様の手順に従い、その露光ジョブを実行する露光装置を選択する。

なお、ステップ２０４、２１６において選択されない露光装置は、選択されるまで待ち状態に置かれることとなる。その間、投影光学系ＰＬ（レンズエレメント）が冷却され、熱収差が減少する。

また、ステップ２０４、２１６において複数の露光装置が選択可能な場合、求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）が限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）に近い露光装置１１０_ｋを次の露光ジョブを実行する露光装置として選択することとしてもよい。係る場合、求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）が限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）に近くない、すなわち熱収差を補正するのに十分な余力を残している露光装置を、大きな熱収差を生じ得る露光ジョブを実行するために残すことで、全露光装置１１０₁〜１１０_Nの稼動を最適に管理することができる。

また、例えば、ステップ２００において、待ち状態にある露光装置を確認し、確認できた場合に、露光ジョブを選択して、上述の選択手順を開始することとしてもよい。待ち状態にある露光装置がない場合、ステップ２００において手順が中断されることで、手順の空回りを防ぐことができる。

以上詳細に説明したように、本実施形態に係るリソグラフィシステム１００及びこれを構成する露光装置１１０₁〜１１０_Nでは、露光履歴情報と露光ジョブの内容とに基づいて熱収差を予測し、その予測に従って、或いはこの結果から予測される結像特性に従って、さらには露光ジョブの優先度に従って、次の露光ジョブを実行する露光装置を決定するので、十分な重ね合わせ精度を確保して、稼働率を下げることなく効率良く複数の露光装置を稼動することが可能となる。

《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図８を用いて説明する。第２の実施形態に係るリソグラフィシステム１００の主要構成は先述の第１の実施形態におけるそれとほぼ同様のため、以下では、相違点を中心に説明する。また、第１の実施形態と同一又は同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を省略する。

先述の第１の実施形態では、リソグラフィシステム１００を統括的に管理するホスト１６０が、次に実行する露光ジョブとその露光ジョブを実行する露光装置１１０₁〜１１０_Nの稼働を選択することで、全露光装置１１０₁〜１１０_Nの稼動を管理することとした。これに代えて、例えば、ホスト１６０は露光ジョブの予約を管理し、各露光装置１１０₁〜１１０_Nが次に実行する露光ジョブを選択することとしてもよい。

露光ジョブは、第１の実施形態と同様に、ホスト１６０に対して、オペレータ等により適宜、或いは予め定められたスケジュールに従って自動的に、予約される。露光ジョブは、使用するレチクル（パターン）、これに対応して使用する照明形状、これらのレチクルと照明形状を用いて露光処理するウエハ（ロット）数等を内容とする。露光ジョブは、例えば、予約された順番に予約順位が与えられているものとする。

なお、緊急を要する露光ジョブを予約する場合、優先的にその露光ジョブが処理されるように、例えば、優先度を指定することとする。

ホスト１６０は、露光ジョブの実行を終了し、待ち状態にある露光装置（露光装置１１０_ｋとする）を確認すると、その露光装置１１０_ｋに予約されている露光ジョブのうち優先順位の高い複数（或いはすべての）露光ジョブの内容を送信する。

図８には、本実施形態における各露光装置による露光ジョブの選択の手順を示すフローチャートが与えられている。

露光装置１１０_ｋ（主制御装置５０）は、１以上の露光ジョブの内容を受信すると、次の手順に従って、次に実行する露光ジョブを選択する。

ステップ３０２において、主制御装置５０は、露光ジョブの実行判断するに当たり、（現時刻における）投影光学系ＰＬの熱収差Ｗ_０（ρ，θ）を予測する。熱収差（波面収差）は、先述の通り、ロット処理終了時、ウエハ交換時等、適宜、波面収差計測器８０により計測されている。また、熱収差は、露光装置１１０_ｋの各種情報（処理した露光ジョブの内容とその処理時刻、露光装置の稼動・停止情報、レンズエレメントの温度情報等）から算出した露光履歴情報に基づいて予測することもできる。係る場合、先述の通り、ホスト１６０により求められた熱収差情報を取得し、それを用いて露光履歴情報から現時刻における熱収差Ｗ_０（ρ，θ）を求める。

次に、主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて、露光ジョブを実行した場合の投影光学系ＰＬの熱収差の拡大ΔＷ（ρ，θ）を予測する。この予測の詳細は、上述の露光履歴情報に基づいて予測することと同様である。

ステップ３０４では、主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて、露光ジョブを実行した場合の投影光学系ＰＬの熱収差をＷ（ρ，θ）＝Ｗ_０（ρ，θ）＋ΔＷ（ρ，θ）と予測し、この予測された熱収差を補正することができるか判断する。

主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて、先述の通り、熱収差を補正するための補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙを求め、これらがいずれも限界Ｌ_th，θｘ_th，θｙ_thを超えない露光ジョブを選択する。或いは、求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）がいずれも限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えない露光ジョブを選択する。

主制御装置５０は、露光ジョブの選択結果をホスト１６０に送信する。ホスト１６０は、予約された露光ジョブ中から選択された露光ジョブを削除する。

ステップ３０６において、主制御装置５０は、上で求めた補正パラメータ（変量データ）に従って、レンズエレメント２７を、光軸ＡＸ方向に距離−Ｌ変位し、光軸ＡＸに対してＸ軸周りに及びＹ軸周りにそれぞれ−θｘ_j，−θｙ_j傾斜する。それにより、熱収差Ｗ（ρ，θ）が補正される。そして、主制御装置５０は、先述の通り、選択した露光ジョブを実行する。

露光ジョブの実行終了後、手順を終了する。

一方、ステップ３０４において、受信した露光ジョブのいずれについても求められた係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）のうちの１以上が対応する限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超え、熱収差を補正することができず、露光ジョブを選択することができない場合も考えられる。係る場合、ステップ３１２に進む。

ステップ３１２では、主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えない係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）については補正し（係数Ｚ_iの値は変えない）、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超える係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）については補正しない（係数Ｚ_iの値をゼロとする）又は限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）まで補正する（係数Ｚ_iの値を対応する限界Ｚ_ｔｈ，iの値に置き換える）こととする。これらの係数Ｚ_i（ｉ＝１〜Ｉ）に対して、先述の通り補正パラメータ（変量データ）Ｌ，θｘ，θｙを求める。

ステップ３１４では、主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて、求められた補正パラメータ（変量データ）を用いて、さらに複数のレンズエレメントの位置や傾斜を調整して、熱収差を補正し、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えた一部の係数Ｚ_iについては補正していない又は可能な限り補正した状態において線幅、コントラスト、ベストフォーカス等の結像特性を予測する。なお、結像特性は、先述の通り予測される。

ステップ３１６では、主制御装置５０は、受信した露光ジョブのそれぞれについて予測された結像特性が露光精度（重ね合わせ精度等）を維持するにあたり十分である場合には、その露光ジョブを実行することを決定する。或いは、限界Ｚ_ｔｈ，i（ｉ＝１〜Ｉ）を超えた未補正又は部分的に補正した係数Ｚ_i（に対応する収差成分）が、次の露光ジョブにより指定されるレチクルパターンに対して問題にならない場合には、その露光ジョブを実行することを決定する。

主制御装置５０は、露光ジョブの決定結果をホスト１６０に送信する。ホスト１６０は、予約された露光ジョブ中から決定された露光ジョブを削除する。

実行する露光ジョブが決定されると、ステップ３１８において、主制御装置５０は、上で求めた補正パラメータ（レンズエレメントの調整温度も含む変量データ）に従って、熱収差Ｗ（ρ，θ）を補正し、その露光ジョブを実行する。

露光ジョブの実行終了後、手順を終了する。

一方、ステップ３１６において、受信した露光ジョブのいずれについても予測された結像特性が露光精度（重ね合わせ精度等）を維持するにあたり十分でない場合も考えられる。係る場合、露光ジョブは選択せず、ステップ３２０に進んで、投影光学系ＰＬ（レンズエレメント）を冷却して、手順を終了する。

なお、ステップ３０４、３１６において、１以上の露光ジョブが選択される場合も考えられる。係る場合、主制御装置５０は、それらのうち予約順位の最先の露光ジョブを選択する。また、優先度の高い露光ジョブが含まれる場合、その露光ジョブを選択する。

なお、主制御装置５０には、ＣＤ（compact disc）、ＤＶＤ（digital versatile disc）等の情報記録媒体のドライブ装置（不図示）が接続されている。ドライブ装置（不図示）には、投影光学系ＰＬの波面収差（及び結像特性）を予測するプログラム、その波面収差（波面収差計測器８０の測定結果）をツェルニケ係数に変換する変換プログラム、その波面収差を補正するための補正パラメータを求めるプログラム、次の露光ジョブを選択するプログラム等が書き込まれた情報記録媒体（ＣＤ−ＲＯＭ等）がセットされているものとする。これらのプログラムは記憶装置（不図示）にインストールされていてもよい。また、ホスト１６０から、適宜、これらのプログラムをメモリ上に読み出してもよい。

以上詳細に説明したように、本実施形態に係るリソグラフィシステム１００及びこれを構成する露光装置１１０₁〜１１０_Nでは、露光履歴情報と露光ジョブの内容とに基づいて熱収差を予測し、その予測に従って、或いはこの結果から予測される結像特性に従って、さらには露光ジョブの優先度に従って、次に実行する露光ジョブを決定するので、十分な重ね合わせ精度を確保して、稼働率を下げることなく効率良く複数の露光装置を稼動することが可能となる。

なお、本実施形態の露光装置１１０_kでは、投影光学系ＰＬを構成するレンズエレメントの一部を駆動して投影像の歪みを修正する構成を採用したが、投影光学系ＰＬ内の一部の密閉室内のガス圧を制御して、屈折率を調整することにより、投影像の歪みを修正する構成を採用しても良い。

また、投影光学系ＰＬとして、反射屈折光学系を用いる場合には、反射ミラーを変形させる制御部を設けて反射ミラーを変形させることにより、投影像の歪みを修正する構成を採用してもよい。

１２…結像修正装置、５０…主制御装置、８０…波面収差計測器、１００…リソグラフィシステム、１１０ｋ（１１０₁〜１１０_Ｎ）…露光装置、１６０…ホスト、ＰＬ…投影光学系。

Claims (49)

1. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、
   前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、
   前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、
   前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、
   第１の露光ジョブを実行した時刻、前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写された物体の数、及び前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写されたショットの数のいずれかに基づいて露光履歴情報を算出し、該露光履歴情報と前記第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブとに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、前記熱収差の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える露光装置。
2. 前記露光履歴情報は、装置稼動情報、装置停止情報、及び投影光学系の温度情報のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の露光装置。
3. 前記熱収差の予測は、前記第１の露光ジョブから前記第２の露光ジョブへの変更時間に基づくことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記熱収差の予測は、前記第１の露光ジョブが終了する前に行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記制御部は、前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かの決定結果をホストコンピュータに伝達することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 前記制御部は、前記熱収差の予測に従って前記補正装置を用いて前記熱収差を補正し、該補正の結果に基づいて前記物体上での前記マスクパターンの結像特性を予測し、該結像特性の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記補正装置は、前記投影光学系による熱収差を該熱収差の複数の成分毎に補正し、
   前記制御部は、前記複数の成分毎に対応する限度を超えない限りにおいて前記熱収差を補正し、該熱収差の補正により補正されなかった残留成分を含む熱収差の結果に基づいて前記結像特性を予測する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
8. 前記熱収差の補正により補正されなかった残留成分は、残留成分の総和または残留成分の二乗和であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記結像特性は、前記物体上に転写されるマスクパターンの線幅変動、コントラスト、及び前記転写されるマスクパターンの傾きのうちのいずれかを含む、請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
10. 前記制御部は、前記熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
11. 前記制御部は、前記熱収差の予測に基づいて、前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した場合に前記第２の露光ジョブを実行することを決定する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
12. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、
    前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、
    前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、
    前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、
    第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測に従って前記補正装置を用いて前記熱収差を補正し、該補正の結果に基づいて前記物体上での前記マスクパターンの結像特性を予測し、該結像特性の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える露光装置。
13. 前記補正装置は、前記投影光学系による熱収差を該熱収差の複数の成分毎に補正し、
    前記制御部は、前記複数の成分毎に対応する限度を超えない限りにおいて前記熱収差を補正し、該熱収差の補正により補正されなかった残留成分を含む熱収差の結果に基づいて前記結像特性を予測する、請求項１２に記載の露光装置。
14. 前記結像特性は、前記物体上に転写されるマスクパターンの線幅変動、コントラスト、及び前記転写されるマスクパターンの傾きのうちのいずれかを含む、請求項１２又は１３に記載の露光装置。
15. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置であって、
    前記照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、
    前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を前記物体に照射する投影光学系と、
    前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、
    第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する制御部と、を備える露光装置。
16. 前記制御部は、前記熱収差の予測に基づいて、前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した場合に前記第２の露光ジョブを実行することを決定する、請求項１５に記載の露光装置。
17. 前記制御部は、前記補正装置により補正されない収差に基づいて前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置。
18. 前記補正装置は、前記投影光学系を構成するレンズ素子を駆動することで該レンズ素子の駆動の自由度に対応する複数の成分毎に前記熱収差を補正する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
19. 前記自由度毎の前記レンズ素子の駆動限界に対応して前記複数の成分の限界が与えられ、
    前記制御部は、前記複数の成分のうちのいずれかが対応する前記限界を超える場合、前記第２の露光ジョブを実行しないことを決定する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
20. 前記照明形状を用いて生成された照明光を前記マスクパターンが形成されたマスクを介することで前記マスクパターンを前記物体に転写し、該転写の結果より前記投影光学系による熱収差が予測される、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
21. 前記転写の結果は、前記物体上に形成された前記マスクパターンを計測することと前記照明光の収差を計測することとのうちのいずれかにより求められる、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
22. 前記照明形状を用いて生成された照明光を前記マスクパターンが形成されたマスクを介することで前記マスクパターンを前記物体に転写するシミュレーションにより、前記投影光学系による熱収差が予測される、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
23. 予め、前記マスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状との複数の組み合わせのそれぞれについて前記投影光学系による熱収差を予測し、前記複数の組み合わせについての前記熱収差情報が求められ、
    前記制御部は、前記複数の組み合わせのうち前記第２の露光ジョブの内容に対応する組み合わせについての前記熱収差情報から前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
24. 前記露光ジョブは、前記マスクパターンを転写する物体の数をさらに指定する、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
25. 物体上にマスクパターンを転写する複数の露光装置を管理する管理システムであって、
    マスクパターンを照明する照明形状を用いて照明光を生成する照明系と、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した前記照明光を物体に照射する投影光学系と、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置と、を有し、少なくとも前記マスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って稼動する複数の露光装置と、
    前記複数の露光装置のうちの少なくとも１つの露光装置に対し、第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測し、該熱収差の予測に従って前記補正装置を用いて前記熱収差を補正し、前記補正の結果と、該補正の結果に基づいて予測される前記物体上での前記マスクパターンの結像特性と、の少なくとも一方に従って、前記複数の露光装置の中から前記第２の露光ジョブを実行する露光装置を決定する制御部と、を備える管理システム。
26. 前記制御部は、前記第１の露光ジョブを実行した時刻又は前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写された物体の数のいずれかに基づいて露光履歴情報を算出し、該露光履歴情報と前記第２の露光ジョブとに基づいて前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項２５に記載の管理システム。
27. 前記露光履歴情報は、装置ダウン情報、投影光学系の温度情報のうちの少なくとも１つを含む、請求項２６に記載の管理システム。
28. 前記制御部は、前記熱収差の予測に基づいて前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した露光装置の中から前記第２の露光ジョブを実行する露光装置を決定する、請求項２６又は２７に記載の管理システム。
29. 前記制御部は、前記熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度に従って露光装置を決定する、請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の管理システム。
30. 前記制御部は、前記熱収差の予測に基づいて、前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した露光装置の中から前記第２の露光ジョブを実行する露光装置を決定する、請求項２９に記載の管理システム。
31. 前記補正装置は、前記投影光学系による熱収差を該熱収差の複数の成分毎に補正し、
    前記制御部は、前記複数の成分毎に対応する限度を超えない限りにおいて前記熱収差を補正し、該熱収差の補正により補正されなかった残留成分を含む熱収差の結果に基づいて前記結像特性を予測する、請求項２５〜３０のいずれか一項に記載の管理システム。
32. 前記結像特性は、前記物体上に転写されるマスクパターンの線幅とコントラストとのうちのいずれかを含む、請求項２５〜３１のいずれか一項に記載の管理システム。
33. 前記制御部は、前記補正装置により補正されない収差に基づいて前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項２５〜３２のいずれか一項に記載の管理システム。
34. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、
    第１の露光ジョブを実行した時刻又は前記第１の露光ジョブによりマスクパターンが転写された物体の数のいずれかに基づいて露光履歴情報を算出し、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を、前記露光履歴情報と前記第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブとに基づいて予測する手順と、
    前記熱収差の予測に従って前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、
    を前記露光装置のコンピュータに実行させるプログラム。
35. 前記露光履歴情報は、装置ダウン情報、投影光学系の温度情報のうちの少なくとも１つを含む、請求項３４に記載のプログラム。
36. 前記決定する手順では、前記熱収差の予測に基づいて、前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した場合に前記第２の露光ジョブを実行することを決定する、請求項３４又は３５に記載のプログラム。
37. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、
    第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を予測する手順と、
    前記熱収差の予測に従って、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置を用いて前記熱収差を補正する手順と、
    前記補正の結果に基づいて、前記物体上での前記マスクパターンの結像特性を予測する手順と、
    前記結像特性の予測に従って、前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、
    を前記露光装置のコンピュータに実行させるプログラム。
38. 前記補正装置は、前記投影光学系による熱収差を該熱収差の複数の成分毎に補正し、
    前記熱収差を補正する手順では、前記複数の成分毎に対応する限度を超えない限りにおいて前記熱収差を補正し、
    前記結像特性を予測する手順では、前記熱収差の補正により補正されなかった残留成分を含む熱収差の結果に基づいて前記結像特性を予測する、請求項３７に記載のプログラム。
39. 前記結像特性は、前記物体上に転写されるマスクパターンの線幅とコントラストとのうちのいずれかを含む、請求項３７又は３８に記載のプログラム。
40. 少なくともマスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状を指定する露光ジョブの内容に従って物体上に前記マスクパターンを転写する露光装置に用いられるプログラムであって、
    第１の露光ジョブの後に実行が予定される第２の露光ジョブに基づいて、前記照明形状を用いて生成され、前記マスクパターンが形成されたマスクを介した照明光を前記物体に照射する投影光学系による熱収差を予測する手順と、
    前記熱収差の予測と前記第２の露光ジョブの優先度とに従って、前記第２の露光ジョブを実行すべきか否かを決定する手順と、
    を前記露光装置のコンピュータに実行させるプログラム。
41. 前記決定する手順では、前記熱収差の予測に基づいて、前記第２の露光ジョブを実行した場合に前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置が前記熱収差を補正することのできる限界を超えないか否かを判断し、超えないと判断した場合に前記第２の露光ジョブを実行することを決定する、請求項４０に記載のプログラム。
42. 前記予測する手順では、前記投影光学系による熱収差を補正する補正装置により補正されない収差に基づいて前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項３４〜４１のいずれか一項に記載のプログラム。
43. 前記補正装置は、前記投影光学系を構成するレンズ素子を駆動することで該レンズ素子の駆動の自由度に対応する複数の成分毎に前記熱収差を補正する、請求項４２に記載のプログラム。
44. 前記自由度毎の前記レンズ素子の駆動限界に対応して前記複数の成分の限界が与えられ、
    前記決定する手順では、前記複数の成分のうちのいずれかが対応する前記限界を超える場合、前記第２の露光ジョブを実行しないことを決定する、請求項４３に記載のプログラム。
45. 前記照明形状を用いて生成された照明光を前記マスクパターンが形成されたマスクを介することで前記マスクパターンを前記物体に転写し、該転写の結果より前記投影光学系による熱収差が予測される、請求項３４〜４４のいずれか一項に記載のプログラム。
46. 前記転写の結果は、前記物体上に形成された前記マスクパターンを計測することと前記照明光の収差を計測することとのうちのいずれかにより求められる、請求項４５に記載のプログラム。
47. 前記照明形状を用いて生成された照明光を前記マスクパターンが形成されたマスクを介することで前記マスクパターンを前記物体に転写するシミュレーションにより、前記投影光学系による熱収差が予測される、請求項３４〜４６のいずれか一項に記載のプログラム。
48. 予め、前記マスクパターンと該マスクパターンを照明する照明形状との複数の組み合わせのそれぞれについて前記投影光学系による熱収差を予測して、前記複数の組み合わせについての前記熱収差情報を求め、
    前記熱収差を予測する手順では、前記複数の組み合わせのうち前記第２の露光ジョブの内容に対応する組み合わせについての前記熱収差情報から前記投影光学系による熱収差を予測する、請求項４５〜４７のいずれか一項に記載のプログラム。
49. 前記露光ジョブは、前記マスクパターンを転写する物体の数をさらに指定する、請求項３４〜４８のいずれか一項に記載のプログラム。