JP2012058440A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、投影光学系を収容する鏡筒の内部に対して気体を供給する気体供給手段と、気体供給手段を制御することで鏡筒の内部温度を調整する制御手段とを備える露光装置であって、制御手段は、露光処理に伴う鏡筒の内部温度の上昇に合わせて、鏡筒の内部に供給される気体の温度を上昇させるように気体供給手段を制御することを特徴とする。

Claims (10)

1. 投影光学系を収容する鏡筒の内部に対して気体を供給する気体供給手段と、前記気体供給手段を制御することで前記鏡筒の内部温度を調整する制御手段とを備える露光装置であって、
   前記制御手段は、露光処理に伴う前記鏡筒の内部温度の上昇に合わせて、前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度を上昇させるように前記気体供給手段を制御することを特徴とする露光装置。
2. 更に、前記鏡筒の内部温度を計測する温度計測手段と、を備え、
   前記制御手段は、前記温度計測手段による温度計測値と前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度の差が小さくなるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる気体供給口と、を備え、
   前記温度計測手段は、前記気体供給口と対向せず、前記気体供給口よりも露光光路に近い位置に配置されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 更に、前記鏡筒の内部温度を計測する複数の温度計測手段と、を備え、
   前記制御手段は、前記複数の温度計測手段による複数の温度計測値の平均値又は最大値と前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度の差が小さくなるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
5. 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる複数の気体供給口と、を備え、
   前記複数の温度計測手段は、前記複数の気体供給口のそれぞれに対応するように配置されることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる複数の気体供給口と、を備え、
   前記複数の温度計測手段は、前記複数の気体供給口のそれぞれと対向せず、前記複数の気体供給口のいずれか１つよりも露光光路に近い位置に配置されることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
7. 前記制御手段は、前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度が予め設定された上限値を超えないように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
8. 前記制御手段は、前記投影光学系への入射光照度、照射範囲、照射継続時間及び照射停止時間のうち少なくとも１つに基づいて前記鏡筒の内部温度を推定し、推定された結果に基づいて前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
9. 更に、基板が保持された基板ステージと、
   露光光軸と平行方向に駆動することで、露光処理に伴うフォーカス変化を補正するフォーカス補正機構と、を備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程と、
    露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。