JP5517847B2 - 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
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まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置の構成について説明する。図1は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。本発明の露光装置1は、ステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式でマスク(原版)のパターンを被処理基板であるガラスプレート(基板)に露光する装置である。なお、本発明では、露光方式は、特に限定するものではない。露光装置1は、まず、照明光学系2と、位置合わせ用顕微鏡3と、パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージ4と、投影光学系5と、感光剤が塗布されたガラスプレートを保持する基板ステージ6とを備える。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置について説明する。図5は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、図5において、図1と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の露光装置20は、図5に示すように温度計15を鏡筒11内の複数個所に設置する。この場合、複数箇所の温度計15により計測された各々の温度計測値は、信号線を介して温度制御装置13に送られる。そして、温度制御装置13は、各々の温度計測値の平均を算出し、その値を制御目標として給気温度を制御する。これにより、露光装置20は、鏡筒11の内部全体の温度を、より均一に近づけることができる。このとき、制御目標は、各々の温度計測値の最大値でもよいし、任意の重みによる重み付け平均でもよい。若しくは、その他の統計処理の手法を用いて処理した値を用いてもよい。
次に、本発明の第3実施形態に係る露光装置について説明する。図6は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、図6において、図1と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の露光装置30は、図6に示すように給気機構12と、該給気機構12に接続された給気口14を複数備え、それぞれの給気口14に対応する位置に温度計15を設置する。この場合も、複数箇所の温度計15により計測された各々の温度計測値は、信号線を介して温度制御装置13に送られ、温度制御装置13は、各々の温度計測値の平均を算出し、その値を制御目標として給気温度を制御する。これにより、露光装置30は、第2実施形態と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第4実施形態に係る露光装置について説明する。図7は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、図7において、図1と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の露光装置40では、図7に示すように、鏡筒11の内部に温度計を設置せず、温度制御装置13は、露光装置40全体の動作及び処理を制御する主制御装置41が保持する情報に基づいて給気機構12を制御する。このとき、主制御装置41の保持する情報は、露光装置40の稼動状態に関する情報であり、例えば、投影光学系5への入射光照度、照射範囲、照射継続時間、照射停止時間である。更に、主制御装置41は、事前の実験やシミュレーションにより、露光装置40の稼動状態と鏡筒11の内部温度との相関関係に関する情報も保持する。この場合、主制御装置41は、温度制御装置13に対して、上記露光装置40の稼動状態に関する情報と、上記露光装置40の稼動状態と内部温度との相関関係に関する情報とを送信する。そして、温度制御装置13は、これらの情報に基づいて、その時点での鏡筒11の内部温度を推定し、推定された内部温度を制御目標として、給気温度を制御する。これにより、露光装置40は、温度計測手段が不要となりつつ、上記実施形態と同様の効果を奏するので、装置構成が簡素となる。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
5 投影光学系
11 鏡筒
12 給気機構
13 温度制御装置
Claims (10)
- 投影光学系を収容する鏡筒の内部に対して気体を供給する気体供給手段と、前記気体供給手段を制御することで前記鏡筒の内部温度を調整する制御手段とを備える露光装置であって、
前記制御手段は、露光処理に伴う前記鏡筒の内部温度の上昇に合わせて、前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度を上昇させるように前記気体供給手段を制御することを特徴とする露光装置。 - 更に、前記鏡筒の内部温度を計測する温度計測手段と、を備え、
前記制御手段は、前記温度計測手段による温度計測値と前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度の差が小さくなるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる気体供給口と、を備え、
前記温度計測手段は、前記気体供給口と対向せず、前記気体供給口よりも露光光路に近い位置に配置されることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 更に、前記鏡筒の内部温度を計測する複数の温度計測手段と、を備え、
前記制御手段は、前記複数の温度計測手段による複数の温度計測値の平均値又は最大値と前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度の差が小さくなるように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる複数の気体供給口と、を備え、
前記複数の温度計測手段は、前記複数の気体供給口のそれぞれに対応するように配置されることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記気体供給手段に接続され、前記鏡筒の内部に前記気体を流入させる複数の気体供給口と、を備え、
前記複数の温度計測手段は、前記複数の気体供給口のそれぞれと対向せず、前記複数の気体供給口のいずれか1つよりも露光光路に近い位置に配置されることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記制御手段は、前記鏡筒の内部に供給される前記気体の温度が予め設定された上限値を超えないように、前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記投影光学系への入射光照度、照射範囲、照射継続時間及び照射停止時間のうち少なくとも1つに基づいて前記鏡筒の内部温度を推定し、推定された結果に基づいて前記気体供給手段を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 更に、基板が保持された基板ステージと、
露光光軸と平行方向に駆動することで、露光処理に伴うフォーカス変化を補正するフォーカス補正機構と、を備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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