JP2018081282A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018081282A5 JP2018081282A5 JP2016225374A JP2016225374A JP2018081282A5 JP 2018081282 A5 JP2018081282 A5 JP 2018081282A5 JP 2016225374 A JP2016225374 A JP 2016225374A JP 2016225374 A JP2016225374 A JP 2016225374A JP 2018081282 A5 JP2018081282 A5 JP 2018081282A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxygen concentration
- flow path
- gas
- space
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 48
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、空気を含む第１気体が供給される第１流路と、前記第１気体より酸素濃度が高い第２気体が供給される第２流路と、前記第１気体より酸素濃度が低い第３気体が供給される第３流路とを含む供給部と、前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整するために前記供給部を制御する制御部と、を有し、前記空間の酸素濃度を前記第１気体の酸素濃度より高い第１酸素濃度に調整して基板を露光すること、及び、前記空間の酸素濃度を前記第１気体の酸素濃度より低い第２酸素濃度に調整して基板を露光すること、が可能であり、前記制御部は、前記空間の酸素濃度を前記第１酸素濃度に調整する場合、前記第３流路を閉じて、前記第１流路から前記第１気体を、前記第２流路から前記第２気体を、前記空間に供給させ、前記空間の酸素濃度を前記第２酸素濃度に調整する場合、前記第２流路を閉じて、前記第１流路から前記第１気体を、前記第３流路から前記第３気体を、前記空間に供給させる、ことを特徴とする。
Claims (14)
- 投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
空気を含む第１気体が供給される第１流路と、前記第１気体より酸素濃度が高い第２気体が供給される第２流路と、前記第１気体より酸素濃度が低い第３気体が供給される第３流路とを含む供給部と、
前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整するために前記供給部を制御する制御部と、を有し、
前記空間の酸素濃度を前記第１気体の酸素濃度より高い第１酸素濃度に調整して基板を露光すること、及び、前記空間の酸素濃度を前記第１気体の酸素濃度より低い第２酸素濃度に調整して基板を露光すること、が可能であり、
前記制御部は、
前記空間の酸素濃度を前記第１酸素濃度に調整する場合、前記第３流路を閉じて、前記第１流路から前記第１気体を、前記第２流路から前記第２気体を、前記空間に供給させ、
前記空間の酸素濃度を前記第２酸素濃度に調整する場合、前記第２流路を閉じて、前記第１流路から前記第１気体を、前記第３流路から前記第３気体を、前記空間に供給させる、ことを特徴とする露光装置。 - 前記供給部は、前記第２流路及び前記第３流路のそれぞれに設けられた制御弁を有し、
前記制御部は、
前記空間の酸素濃度を前記第１酸素濃度に調整する場合、前記第３流路の制御弁を閉じ、
前記空間の酸素濃度を前記第２酸素濃度に調整する場合、前記第２流路の制御弁を閉じるように制御する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記空間の酸素濃度を前記第１酸素濃度に調整する場合、前記第１気体と前記第２気体とを混合した混合気体を前記空間に供給させることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記空間の酸素濃度を前記第２酸素濃度に調整する場合、前記第１気体と前記第３気体とを混合した混合気体を前記空間に供給させることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記供給部は、前記第１流路と前記第２流路と前記第３流路とが接続されたチャンバを有し、前記チャンバの内部で前記混合気体を生成することを特徴とする請求項３又は４に記載の露光装置。
- 前記供給部は、前記第２流路と前記第３流路とのうちの一方に、前記第２流路と前記第３流路とのうちの他方が接続された後、前記第１流路が接続され、前記混合気体が生成されることを特徴とする請求項３又は４に記載の露光装置。
- 前記第１流路と前記第２流路と前記第３流路とのうちの１つに他の２つが順次接続され、前記混合気体が生成されることを特徴とする請求項３又は４に記載の露光装置。
- 前記供給部は、前記混合気体の温度を調整する調整部を含むことを特徴とする請求項５乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記調整部は、前記投影光学系が配置された雰囲気の中に設けられた、前記混合気体が通過する第４流路を有することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
- 前記第４流路は、螺旋状に構成されていることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
- 前記第１気体と前記第２気体と前記第３気体とは、互いに異なる温度に調整されており、
前記供給部は、気体の混合により前記混合気体の温度を調整することを特徴とする請求項３又は４に記載の露光装置。 - 前記第１気体は、空気であることを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、
前記空間の目標酸素濃度を、前記第１気体の酸素濃度より高い第１酸素濃度と前記第１気体の酸素濃度より低い第２酸素濃度に設定可能とし、
前記空間の酸素濃度を前記第１酸素濃度に調整する場合、前記目標酸素濃度を前記第１酸素濃度に設定し、
前記空間の酸素濃度を前記第２酸素濃度に調整する場合、前記目標酸素濃度を前記第２酸素濃度に設定する、ことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の露光装置。 - 請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含み、現像された基板を加工することにより物品を得ることを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016225374A JP6343326B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| US15/805,167 US10534278B2 (en) | 2016-11-18 | 2017-11-07 | Exposure apparatus and method of manufacturing article |
| KR1020170149282A KR102216863B1 (ko) | 2016-11-18 | 2017-11-10 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016225374A JP6343326B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018096502A Division JP6603751B2 (ja) | 2018-05-18 | 2018-05-18 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018081282A JP2018081282A (ja) | 2018-05-24 |
| JP6343326B2 JP6343326B2 (ja) | 2018-06-13 |
| JP2018081282A5 true JP2018081282A5 (ja) | 2018-07-05 |
Family
ID=62146895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016225374A Active JP6343326B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10534278B2 (ja) |
| JP (1) | JP6343326B2 (ja) |
| KR (1) | KR102216863B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6343326B2 (ja) | 2016-11-18 | 2018-06-13 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| JP6603751B2 (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
| KR20210070995A (ko) * | 2018-10-05 | 2021-06-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 냉각 후드 상에서의 빠른 온도 제어를 위한 가스 혼합 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3378698D1 (en) * | 1982-04-12 | 1989-01-19 | Hitachi Ltd | Oxygen concentration control system |
| JP2001118783A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-04-27 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US20050175497A1 (en) * | 2002-08-29 | 2005-08-11 | Nikon Corporation | Temperature control method and apparatus and exposure method and apparatus |
| JP2005274714A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 孔構造体の製造方法及び孔構造体 |
| JP2006085029A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Az Electronic Materials Kk | 感光性ポリシラザン膜を用いたパターン形成方法 |
| JP2009267200A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP5448724B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2014-03-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
| JP5936328B2 (ja) * | 2010-10-22 | 2016-06-22 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP6099970B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-03-22 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
| JP6238580B2 (ja) * | 2013-06-07 | 2017-11-29 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法 |
| JP6343326B2 (ja) | 2016-11-18 | 2018-06-13 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
-
2016
- 2016-11-18 JP JP2016225374A patent/JP6343326B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-07 US US15/805,167 patent/US10534278B2/en active Active
- 2017-11-10 KR KR1020170149282A patent/KR102216863B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2018081282A5 (ja) | ||
| JP2018156096A5 (ja) | ||
| JP2014229834A5 (ja) | ||
| US10138555B2 (en) | Gas control system and program for gas control system | |
| KR101928579B1 (ko) | 플라즈마 에칭 장치 및 플라즈마 에칭 방법 | |
| TW200507141A (en) | Method of mass flow control flow verification and calibration | |
| TW200745774A (en) | Exposure apparatus, pressure control method for the same, and device manufacturing method | |
| JP6099969B2 (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
| JP2013513949A5 (ja) | ||
| JP2014208883A5 (ja) | ||
| JP2007250686A5 (ja) | ||
| JP2015181161A5 (ja) | 酸化物半導体膜の作製方法 | |
| JP2015502036A5 (ja) | ||
| JP2010114397A5 (ja) | ||
| JP2014127620A5 (ja) | ||
| JP2020184553A5 (ja) | ||
| JP2016092208A5 (ja) | ||
| TWI704631B (zh) | 磊晶處理腔室、溫度控制系統及溫度控制方法 | |
| KR102216863B1 (ko) | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 | |
| JP2015149450A5 (ja) | ||
| JP2018526608A5 (ja) | ||
| JP2018045147A5 (ja) | ||
| JP2012058440A5 (ja) | ||
| JPWO2020049959A1 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JP2018514943A5 (ja) |