JP2007250686A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 光学系を有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
   前記光学系の少なくとも一部を内包する第１空間と前記第１空間に隣接した第２空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁と、
   前記第１空間内の圧力を調整する第１圧力調整器と、
   前記第２空間内の圧力を調整する第２圧力調整器と、
   前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力する制御器とを有し、
   前記制御器は、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力する、
   ことを特徴とする露光装置。
2. 前記制御器は、前記圧力関係が満たされるように前記第１空間内の圧力を上昇させた後、前記圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧へ変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記制御器は、前記圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を大気圧から真空へ変化させるように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記制御器は、前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力が予め設定された圧力まで低下した後に、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より低い圧力関係を満たすように、前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記予め設定された圧力は、希薄気体境界圧力以下の圧力であることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器のそれぞれは、排気系および給気系を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記第１圧力調整器および前記第２圧力調整器のそれぞれは、圧力センサを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記光学系は、原版のパターンを前記基板に投影するための投影光学系および前記原版を照明するための照明光学系の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記第２空間に配された、原版を移動させるための原版ステージ機構、前記第２空間に配された、前記基板を移動させるための基板ステージ機構、および前記第２空間に配された光源のいずれかを更に有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 光学系と、前記光学系の少なくとも一部を内包する第１空間と前記第１空間に隣接した第２空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁とを有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置に適用される圧力制御方法であって、
    前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を測定し、
    前記測定に基づき、前記第１空間内の圧力が前記第２空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第１空間内の圧力および前記第２空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させる、
    ことを特徴とする圧力制御方法。
11. デバイス製造方法であって、
    請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、真空雰囲気中で基板を露光する露光ステップと、
    前記露光された基板を現像する現像ステップと、
    前記現像された基板を処理する処理ステップと、
    を有することを特徴とするデバイス製造方法。