JP2016072507A5 - - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、基板上の複数のショット領域のそれぞれに予め定められた順番で露光を行う露光装置であって、原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに投影する投影光学系と、前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、前記複数のショット領域それぞれのパターンのずれのデータおよび前記露光の順番に基づいて前記複数のショット領域をグループ分けし、該グループ分けされたグループそれぞれに前記結像特性の設定量を決定し、グループ毎に前記結像特性が該決定された設定量となるように前記調整部を制御する制御部と、を備え、前記決定された設定量は、同一のグループに属する複数のショット領域を露光する場合に該複数のショット領域で共通に用いられ、前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の露光の順番が連続し、かつ、該同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値が予め定められた範囲内であるように前記グループ分けを行う、ことを特徴とする。

Claims (13)

1. 基板上の複数のショット領域のそれぞれに予め定められた順番で露光を行う露光装置であって、
   原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに投影する投影光学系と、
   前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、
   前記複数のショット領域それぞれのパターンのずれのデータおよび前記露光の順番に基づいて前記複数のショット領域をグループ分けし、該グループ分けされたグループそれぞれに前記結像特性の設定量を決定し、グループ毎に前記結像特性が該決定された設定量となるように前記調整部を制御する制御部と、
   を備え、
   前記決定された設定量は、同一のグループに属する複数のショット領域を露光する場合に該複数のショット領域で共通に用いられ、
   前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の露光の順番が連続し、かつ、該同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値が予め定められた範囲内であるように前記グループ分けを行う、ことを特徴とする露光装置。
2. 前記ずれのデータを格納する格納部を備え、前記制御部は、前記格納部に格納された前記ずれのデータに基づいて前記複数のショット領域をグループ分けすることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記複数のショット領域それぞれについて前記ずれを計測する計測器を備え、前記制御部は、前記計測器により計測された前記ずれのデータに基づいて前記複数のショット領域をグループ分けすることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
4. 前記ずれは、前記複数のショット領域それぞれの形状のずれを含み、前記結像特性は、前記投影光学系の投影倍率またはディストーションを含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記調整部は、前記投影光学系を構成する光学素子を駆動する光学素子駆動部を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記ずれは、前記複数のショット領域それぞれのデフォーカスを含み、前記結像特性は、前記投影光学系のフォーカス位置を含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれの最大値と最小値との単純平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値の単純平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値の加重平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 基板上の複数のショット領域を順に露光する露光装置であって、
    原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに投影する投影光学系と、
    前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、
    前記結像特性の設定量を定め、前記結像特性が該定められた設定量になるように前記調整部を制御する制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、
    露光の順番が連続する複数のショット領域のグループについて、該グループの前記設定量として共通の第１設定量を設定し、該グループに属する該複数のショット領域を露光するときに前記結像特性が前記第１設定量になるように前記調整部を制御し、
    前記第１設定量を設定した前記グループに属さない他のショット領域について、該他のショット領域の前記設定量として前記第１設定量とは異なる第２設定量を設定し、前記他のショット領域を露光するときに前記結像特性が前記第２設定量になるように前記調整部を制御する、ことを特徴とする露光装置。
11. 前記グループを第１グループとして、前記制御部は、前記第１グループとは異なり、前記他のショット領域を含み、露光の順番が連続する複数のショット領域の第２グループについて、前記第２設定量を設定し、前記第２グループに属する複数のショット領域を露光するときに前記結像特性が前記第２設定量になるように前記調整部を制御する、ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. 投影光学系により原版のパターンを基板上の複数のショット領域のそれぞれに投影して前記複数のショット領域のそれぞれに予め定められた順番で露光を行う露光方法であって、
    前記複数のショット領域それぞれのパターンのずれのデータおよび前記露光の順番に基づいて前記複数のショット領域をグループ分けする工程と、
    該グループ分けされたグループそれぞれに前記投影光学系の結像特性の設定量を決定する工程と、
    グループ毎に前記結像特性が前記設定量となるように前記結像特性を調整して前記露光を行う工程と、
    を含み、
    前記決定された設定量は、同一のグループに属する複数のショット領域を露光する場合に該複数のショット領域で共通に用いられ、
    前記グループ分けは、前記同一のグループに属する複数のショット領域の露光の順番が連続し、かつ、該同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値が予め定められた範囲内であるように行われる、ことを特徴とする露光方法。
13. 請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程と、
    前記工程で露光された基板を現像する工程と、
    を含み、前記現像された基板からデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。