JP2020071274A5 - - Google Patents
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Description
本発明の一側面によれば、原版を照明する照明光学系および前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記原版または前記基板を前記投影光学系の像面に対して傾斜させた状態で前記原版および前記基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、前記原版または前記基板の前記像面に対する傾斜を調整する調整部と、前記調整部を制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記基板のショット領域上に形成される潜像のエラーが小さくなるように決定された方向に前記原版または前記基板を傾斜させることを特徴とする露光装置が提供される。
Claims (10)
- 原版を照明する照明光学系および前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記原版または前記基板を前記投影光学系の像面に対して傾斜させた状態で前記原版および前記基板を走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
前記原版または前記基板の前記像面に対する傾斜を調整する調整部と、
前記調整部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記基板のショット領域上に形成される潜像のエラーが小さくなるように決定された方向に前記原版または前記基板を傾斜させる、ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、
前記原版または前記基板を傾斜させない状態で前記ショット領域を露光する場合における、前記ショット領域上に形成される潜像のエラーである第１エラーを取得し、
前記原版または前記基板を第１方向に傾斜させた状態で前記ショット領域を露光する場合における、前記ショット領域上に形成される潜像の、当該傾斜に起因するエラーである第２エラーを求め、
前記原版または前記基板を前記第１方向とは逆方向の第２方向に傾斜させた状態で前記ショット領域を露光する場合における、前記ショット領域上に形成される潜像の、当該傾斜に起因するエラーである第３エラーを求め、
前記第１エラーと前記第２エラーとを合成した第１合成エラーと、前記第１エラーと前記第３エラーとを合成した第２合成エラーとの比較の結果に基づいて、前記原版または前記基板の傾斜方向を決定する
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 - 前記照明光学系は、前記原版の照明領域を規定する照明視野絞りを含み、
前記制御部は、前記照明視野絞りによって形成されるスリットの走査方向と直交する方向における各位置の幅に依存したデフォーカス係数と、前記基板の傾斜に起因して前記ショット領域上に形成される潜像のエラーとに基づいて算出される、前記スリットの形状に応じた前記潜像のエラーを、前記第２エラーまたは前記第３エラーとして求める
ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記第２エラーまたは前記第３エラーを補正するように前記投影光学系に含まれるレンズを駆動しながら露光を行うことを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板の複数の傾斜量のそれぞれについての前記基板の傾斜によって発生するエラーのデータに基づいて前記第２エラーおよび前記第３エラーを求めることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板に配列されている複数のショット領域のそれぞれ毎に前記調整部による前記傾斜の調整を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板に配列されている複数のショット領域の、露光の順番が連続しかつ走査方向が互いに同じであるグループ毎に、前記調整部による前記傾斜の調整を行い、各グループ内では前記傾斜の調整状態を固定とすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、露光制御モードとして、露光精度を優先する精度優先モードと、スループットを優先するスループット優先モードとを有し、前記精度優先モードが選択された場合は、前記基板に配列されている複数のショット領域のそれぞれ毎に、前記調整部による前記傾斜の調整を行い、前記スループット優先モードが選択された場合は、前記複数のショット領域の、露光の順番が連続しかつ走査方向が互いに同じであるグループ毎に、前記調整部による前記傾斜の調整を行い、各グループ内では前記傾斜の調整状態を固定とすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記潜像のエラーは、潜像の位置ずれ、ディストーション、線幅の誤差のうちのいずれかであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
- 請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、
前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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