JP2017116769A5 - - Google Patents
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(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態に係る検出装置を含む露光装置の概略図である。露光装置は、照明光学系3と、投影光学系4と、基板ステージ7とを備える。照明光学系3は、露光装置本体2に対して不図示のアライメント機構により位置合わせされた原版1を照明する。原版1は、例えば、露光されるべき微細なパターン(例えば回路パターン)が描画されたガラス製の原版である。基板ステージ7は、基板5を保持する基板保持部6を備え、投影光学系4の光軸(Z軸)に垂直なXY平面上を移動する。基板5は、例えば、ガラス基板である。原版1のパターンは、投影光学系4を介して基板5上の露光領域に転写される。基板ステージ7は、XY方向だけでなく、Z方向にも可動で、基板5と原版1の合焦のための駆動系ともなる。また、基板ステ−ジ7上には、ミラー8が載置され、レ−ザ干渉計9を用いてX方向の駆動が制御されている。Y方向についても不図示であるが同様の構成がとられており、XY平面内での精密な駆動制御がなされている。
図1は本発明の第1実施形態に係る検出装置を含む露光装置の概略図である。露光装置は、照明光学系3と、投影光学系4と、基板ステージ7とを備える。照明光学系3は、露光装置本体2に対して不図示のアライメント機構により位置合わせされた原版1を照明する。原版1は、例えば、露光されるべき微細なパターン(例えば回路パターン)が描画されたガラス製の原版である。基板ステージ7は、基板5を保持する基板保持部6を備え、投影光学系4の光軸(Z軸)に垂直なXY平面上を移動する。基板5は、例えば、ガラス基板である。原版1のパターンは、投影光学系4を介して基板5上の露光領域に転写される。基板ステージ7は、XY方向だけでなく、Z方向にも可動で、基板5と原版1の合焦のための駆動系ともなる。また、基板ステ−ジ7上には、ミラー8が載置され、レ−ザ干渉計9を用いてX方向の駆動が制御されている。Y方向についても不図示であるが同様の構成がとられており、XY平面内での精密な駆動制御がなされている。
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