JP2009512223A5 - - Google Patents
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Claims (19)
- 第1のミラーシェル(1212.1)と、
第2のミラーシェル(1212.2)と、を備え、
前記第1のミラーシェル(1212.1)は前記第2のミラーシェル(1212.2)の内部に配設され、
前記第1のミラーシェル(1212.1)及び/又は前記第2のミラーシェル(1212.2)は、回転対称の部分と回転対称でない部分を有する、閉じた鏡面である、波長が193nm以下、好ましくは126nm以下、特に好ましくはEUV放射の照明システム用集光器。 - 前記第1のミラーシェル(1212.1)及び/又は前記第2のミラーシェル(1212.2)は、第1の光学面を有する第1の部位と第2の光学面を有する第2の部位を有する、請求項1記載の集光器。
- 前記第1の部位は、回転双曲面(800)であり、前記第2の部位は、回転楕円面(802)であり、前記回転対称でない部分は、前記回転双曲面及び/又は回転楕円面に加える又は減ずる、請求項2記載の集光器。
- 前記第1のミラーシェル(1212.1)及び/又は前記第2のミラーシェル(1212.2)は、対称軸を有する、請求項1から請求項3迄の何れかに記載の集光器。
- 前記対称軸は、前記第1のミラーシェル(1212.1)及び前記第2のミラーシェル(1212.2)の共通の対称軸である、請求項4記載の集光器。
- 前記第1のミラーシェル(1212.1)及び/又は前記第2のミラーシェル(1212.2)は前記対称軸に対してn回対称であり、nは整数である、請求項4又は請求項5記載の集光器。
- 前記対称軸に対する対称は、以下の
二回対称
三回対称
四回対称
五回対称
六回対称
七回対称
八回対称である、請求項6記載の集光器。 - 前記集光器は、光源の光を受光し、前記集光器の後方の光路に配設された面に導き、
前記閉じたミラーシェルの前記回転対称でない部分は、前記面に、ほぼ長方形の照明が形成されるように選択される、請求項1から請求項7迄の何れかに記載の集光器。 - 軸に最も近接したミラーシェルの内部の前記集光器は、絞りを有する、請求項1から請求項8迄の何れかに記載の集光器。
- 少なくとも前記第1のミラーシェル(1212.1)と前記第2のミラーシェル(1212.2)は、光を前記集光器の後方の光路上の面に導き、
第1の照明(A6.1)と第2の照明(A6.2)を前記面に結像し、前記第1の照明(A6.1)と前記第2の照明(A6.2)とは距離を有する、請求項1から請求項9迄の何れかに記載の集光器。 - 前記面には複数のラスタ要素が形状を有して配置されており、前記第1の照明(A6.1)及び/又は前記第2の照明(A6.2)は、前記複数のラスタ要素の配置の形状にほぼ対応する幾何学的な形状を有する、請求項10に記載の集光器。
- 前記照明がほぼ長方形の形状、特に正方形の形状を有する、請求項10又は請求項11に記載の集光器。
- 波長が193nm以下、好ましくは126nm以下、特に好ましくはEUV波長領域の、請求項1から請求項12迄の何れかに記載の集光器(3)を備えた照明システムであって、
前記集光器(3)は、光源(1)から、照明する面(103、1103)への光路上で、前記(1)と前記面(103、1103)の間に配設され、
前記面(103)の中、又は前記面(103)の近傍にはファセット光学素子(102)が利用可能に設けられている、照明システム。 - 前記ファセット光学素子(102)が複数のフィールドラスタ要素(402、502、1300)を有する、請求項13記載の照明システム。
- 前記ファセット光学素子の前記フィールドラスタ要素(1300)が、前記面(1103)の、前記面(1103)のほぼ照明(A6.1、A6.2、A6.3)の領域に配設される、請求項14記載の照明システム。
- さらに、射出瞳面(140)及び/又は瞳面を有し、前記ファセット光学素子が、前記面(103)の照明の形状とは無関係に、光源の像を射出瞳面(140)及び/又は瞳面(105)に広範に物体に忠実に結像するように構成される、請求項13から請求項15迄の何れかに記載の照明システム。
- 瞳面(105)とさらなるファセット光学素子(104)を有し、
前記さらなるファセット光学素子(104)は前記瞳面(105)の中、または前記瞳面(105)の近傍に位置する、請求項13から請求項16迄の何れかに記載の照明システム。 - 前記さらなる光学素子は複数の瞳ラスタ要素を有する、請求項17記載の照明システム。
- フィールド面(114)のフィールドを照明する、請求項13から請求項18迄の何れかに記載の照明システムと、
前記フィールド面(114)の物体を像面(124)に結像する投影対物光学系(128)と、を備えた、
波長が193nm以下のマイクロリソグラフィー用投影露光装置。
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