JP2008544531A5 - - Google Patents

Claims (40)

1. フィールド面における物体を光源からの放射で照明するようにされた照明光学系であって、
   少なくとも第１のフィールドラスタ素子及び第２のフィールドラスタ素子を備え、前記第１及び第２のフィールドラスタ素子が、前記照明光学系の作動中に前記光源から光を受けて当該光を第１の光束及び第２の光束に分離するようにされている、第１の面における第１のファセット光学素子と、
   第２の面に少なくとも第２のファセット光学素子を備え、前記第２のファセット光学素子が第１の瞳ラスタ素子及び第２の瞳ラスタ素子を備えている、光学部品と、
   第２の面上、又は第２の面に共役な面上、又はその何れかの近傍に配置され、かつ、第１の光束の経路内の第１のフィールドラスタ素子と第１の瞳ラスタ素子との間に配置された減衰器と、を備え
   前記照明光学系の作動中に、前記光源は波長が１９３ｎｍ以下の放射を放射し、前記第１の光束は第１の瞳ラスタ素子に入射し、前記第２の光束は前記第２の瞳ラスタ素子に入射し、前記光学部品はフィールド面に前記第１及び第２のフィールドラスタ素子を結像し、前記物体はフィールド面上で走査方向に走査され、そして、前記減衰器が、フィールド面における走査積分された楕円率の変動が前記走査方向に垂直な方向において±１０％未満となるように配置されている、照明光学系。
2. 前記第１のファセット光学素子が、２０を上回るフィールドラスタ素子を含む、請求項１に記載の照明光学系。
3. 前記第２のファセット光学素子が、２０を上回る瞳ラスタ素子を含む、請求項１に記載の照明光学系。
4. さらに、前記光源と前記第１のファセット光学素子の間の光路に配置された集光器を備え、前記集光器は、前記照明光学系の作動中に前記光源からの放射を集光し、前記第１のファセット光学素子の領域を照射するようにされている、請求項１に記載の照明光学系。
5. 前記減衰器は、前記第１のファセット光学素子から前記第２のファセット光学素子への光路に沿って、前記第２の面又は前記第２の面に共役な面に対して物理的距離ＤＡの所に配置され、ここでＤＡは、前記第１の面と前記第２の面との物理的距離（Ｄ）の１０％より小さくされている、請求項１に記載の照明光学系。
6. 照明光学系の作動中に、前記第１の光束が第１の断面を有し、前記減衰器が少なくとも前記第１の光束の前記断面の少なくとも第１の領域をぼかす（ｖｉｇｎｅｔｔ）、請求項１に記載の照明光学系。
7. 前記減衰器は絞りである、請求項１に記載の照明光学系。
8. 前記絞りはリング形の絞り又は矩形の絞り又は台形の絞りである、請求項７に記載の照明光学系。
9. 前記絞りは、絞り輪の部分である、請求項７に記載の照明光学系。
10. 前記絞りは、少なくとも一つのワイヤを含む、請求項７に記載の照明光学系。
11. 前記減衰器は、少なくとも前記第１の光束の断面を可変的にぼかすようにする装置を備えている、請求項１に記載の照明光学系。
12. 前記装置は、回転軸を中心に回転するようにされた素子を有するワイヤを備え、前記素子は、その位置に応じて前記第１の光束の断面の様々な領域をぼかすものである、請求項１１記載の照明光学系。
13. 前記減衰器は、フィルタ素子である、請求項１に記載の照明光学系。
14. 少なくとも前記第１及び第２のフィールドラスタ素子は反射型である、請求項１に記載の照明光学系。
15. さらに、前記光源から前記第１のファセット光学素子への光路において、前記第１の面又は前記第１の面に共役な面、又はその何れかの近傍に配置された第２の減衰器を備える、請求項１に記載の照明光学系。
16. 前記第２の減衰器は、前記光源から前記第１のファセット光学素子への光路の沿った物理的距離のところに配置され、その物理的距離は、前記第１の面から前記第２の面への物理的距離の１０％より小さいものである、請求項１５に記載の照明光学系。
17. 前記第１及び第２の瞳ラスタ素子は反射型である、請求項１に記載の照明光学系。
18. 前記第１及び第２瞳のラスタ素子は異なった形状である、請求項１に記載の照明光学系。
19. 作動中にフィールド面におけるフィールドを照明し、前記フィールドは形状を有しているものである、請求項１に記載の照明光学系。
20. 前記第１及び第２のフィールドラスタ素子は、前記フィールドの前記形状を有している、請求項１９に記載の照明光学系。
21. さらに、少なくとも一つのフィールド形成鏡を備え、該フィールド形成鏡は前記光路において第２のファセット光学素子と前記フィールド面との前に配置されている、請求項１に記載の照明光学系。
22. 請求項１に記載の照明光学系と、
    前記フィールド面の物体を像面の像に投影するようにされた投影対物光学系と、
    を備えた、マイクロリソグラフィーの用の投影露光光学系。
23. 前記物体は構造形成マスクである、請求項に２２記載の投影露光光学系。
24. 感光性物体は前記像面に配置されている、請求項２３に記載の投影露光光学系。
25. 請求項２２に記載の投影露光光学系を用いて微細構造部品を製造する方法であって、
    フィールド面に配置された構造形成マスクを照明するステップと、
    前記構造形成マスクを投影対物光学系を用いて感光性層に投影するステップと、
    前記感光性層を現像するステップと、
    現像された前記感光性層を用いて、微細構造部品又は微細構造部品の一部を生成するステップと、
    を含んだ方法。
26. 前記第１のファセット光学素子は、４０を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
27. 前記第１のファセット光学素子は、１００を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
28. 前記第１のファセット光学素子は、３００を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
29. 前記第２のファセット光学素子は、４０を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
30. 前記第２のファセット光学素子は、１００を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
31. 前記第２のファセット光学素子は、３００を上回るフィールドラスタ素子を含んでいる、請求項１に記載の照明光学系。
32. 前記光学部品は、前記フィールド面におけるテレセン度（elecentricity）の誤差が前記走査方向に垂直な方向において前記フィールドの±０．５ｍｒａｄを超えないように、フィールド面におけるフィールドに前記第１及び第２のフィールドラスタ素子を結像するものである、請求項１に記載の照明光学系。
33. フィールド面における物体を光源からの放射で照明するようにされた照明光学系であって、
    少なくとも第１のフィールドラスタ素子及び第２のフィールドラスタ素子を備え、前記第１及び第２のフィールドラスタ素子が、前記照明光学系の作動中に前記光源から光を受けて受光した当該光を第１の光束及び第２の光束に分離するようにされている、第１の面における第１のファセット光学素子と、
    第２の面に少なくとも第２のファセット光学素子を備え、前記第２のファセット光学素子が第１の瞳ラスタ素子及び第２の瞳ラスタ素子を備えている、光学部品と、
    第２の面上、又は第２の面に共役な面上、又はその何れかの近傍に配置され、かつ、第１の光束の経路内の第１のフィールドラスタ素子と第１の瞳ラスタ素子との間に配置された減衰器と、を備え
    前記照明光学系の作動中に、前記光源は波長が１９３ｎｍ以下の放射を放射し、前記第１の光束は第１の瞳ラスタ素子に入射し、前記第２の光束は前記第２の瞳ラスタ素子に入射し、前記光学部品はフィールド面に前記第１及び第２のフィールドラスタ素子を結像し、そして前記第１の光束は第１の断面を有し、前記減衰器は前記第１の光束の前第１の断面の少なくとも第１の領域をぼかすものである、照明光学系。
34. 前記減衰器は絞りである、請求項３３に記載の照明光学系。
35. 前記絞りはリング形の絞り又は矩形の絞り又は台形の絞りである、請求項３４に記載の照明光学系。
36. 前記絞りは、絞り輪の部分である、請求項３４に記載の照明光学系。
37. 前記絞りは、少なくとも一つのワイヤを含む、請求項３４に記載の照明光学系。
38. 前記減衰器は、少なくとも前記第１の光束の断面を可変的にぼかすようにする装置を備えている、請求項３３に記載の照明光学系。
39. 前記装置は、回転軸を中心に回転するようにされた素子を有するワイヤを備え、前記素子は、その位置に応じて前記第１の光束の断面の様々な領域をぼかすものである、請求項３８記載の照明光学系。
40. フィールド面における物体を光源からの放射で照明するようにされた照明光学系であって、
    少なくとも第１のフィールドラスタ素子及び第２のフィールドラスタ素子を備え、前記第１及び第２のフィールドラスタ素子が、前記照明光学系の作動中に前記光源から光を受けて受光した当該光を第１の光束及び第２の光束に分離するようにされている、第１の面における第１のファセット光学素子と、
    第２の面に少なくとも第２のファセット光学素子を備え、前記第２のファセット光学素子が第１の瞳ラスタ素子及び第２の瞳ラスタ素子を備えている、光学部品と、
    第２の面上、又は第２の面に共役な面上、又はその何れかの近傍に配置され、かつ、第１の光束の経路内の第１のフィールドラスタ素子と第１の瞳ラスタ素子との間に配置された減衰器と、を備え
    前記照明光学系の作動中に、前記光源は波長が１９３ｎｍ以下の放射を放射し、前記第１の光束は第１の瞳ラスタ素子に入射し、前記第２の光束は前記第２の瞳ラスタ素子に入射し、前記物体は前記フィールド面において走査方向に走査され、前記光学部品は、前記フィールド面におけるテレセン度（elecentricity）の誤差が前記走査方向に垂直な方向において前記フィールドの±０．５ｍｒａｄを超えないように、フィールド面におけるフィールドに前記第１及び第２のフィールドラスタ素子を結像するものである照明光学系。