JP5399461B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
基準構造に対する基板テーブルの位置を測定する、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備えるエンコーダ型センサシステムと
を備え、
リソグラフィ装置は、エンコーダセンサターゲットを収容するための凹所を備える、リソグラフィ装置が提供される。
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
基準構造に対する基板テーブルの位置を測定する、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備えるエンコーダ型センサシステムと、
調整されたガス流を、基板テーブルの移動の主平面と実質的に平行なエンコーダセンサターゲットの表面に供給するガス供給部と
を備える、リソグラフィ装置が提供される。
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
基準構造に対する基板テーブルの位置を測定する、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備えるエンコーダ型センサシステムと
を備え、
リソグラフィ装置が、基板テーブルをアイドル期間中に基板テーブルの移動の主平面に沿って移動させるように構成され、基板テーブルの移動が、基板テーブルからの熱によるエンコーダセンサターゲットの局所的加熱を防止するためのものである、リソグラフィ装置が提供される。
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
基準構造に対する基板テーブルの位置を測定する、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備えるエンコーダ型センサシステムと、
基板テーブルモータの固定コイル構造とエンコーダセンサターゲットとの間の熱遮蔽層と
を備える、リソグラフィ装置が提供される。
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
基準構造に対する基板テーブルの位置を測定するためのエンコーダ型センサシステムであって、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備え、エンコーダセンサターゲットが実質的にゼロの熱膨張係数および/または高い熱伝導率係数を有する材料を含む、エンコーダ型センサシステムと
を備える、リソグラフィ装置が提供される。実質的にゼロの熱膨張係数を有する材料の効果により、温度差が、測定精度に無視できるほどの影響しか及ぼさない。高い熱係数により、高精度部分からあまり重要でない環境への迅速な熱交換が生じ、これは蓄熱がより少なく、結果として最小の温度変化であることを意味し、その結果、高い測定精度がもたらされる。
[0017] 図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームB(例えばUV放射または他の任意の適切な放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク)MAを保持する構造になっており、かついくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決めデバイスPMに接続された、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MTとを含む。この装置はまた、基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持する構造になっており、かついくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決めデバイスPWに接続された、基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTも含む。この装置はさらに、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを、基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSを含む。
Claims (11)
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
凹所を備える基準構造と、
エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを備える、前記基板テーブルの位置を測定するためのエンコーダ型センサシステムと、を備え、
前記凹所は、前記エンコーダセンサターゲットの背面に面する前記基準構造の表面と該表面に接続された周囲構造とによって形成され、前記周囲構造が前記エンコーダセンサターゲットの一側面を少なくとも部分的に取り囲み、
前記エンコーダセンタターゲットと前記基準構造との間、および、前記エンコーダセンサターゲットと前記周囲構造との間に間隙が設けられており、
前記凹所は、前記エンコーダセンサターゲットの少なくとも一部に沿ったガス流を防止する、リソグラフィ装置。 - 前記基準構造はメトロロジーフレームを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムが前記基準構造に弾性接続されている、請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記間隙は1ミリメートルよりも狭い、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムの下流のレンズを調整するレンズコンディショナを備える、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レンズコンディショナは、前記下流のレンズの表面に沿ってガス流を提供するように構成されている、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エンコーダセンサターゲットの表面に沿ってガスを提供するためのガス供給部を備える、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルを駆動する固定コイル型のモータを備える、請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記固定コイル型のモータと前記エンコーダセンサターゲットとの間に熱遮断層を備える、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エンコーダセンサターゲットは、実質的に0の熱膨張係数を有する材料から構成されている、請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記材料は、Zerodurセラミック、Clearceram、Corduriteセラミック、ガラスセラミックのいずれか一つである、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
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CN102308187B (zh) * | 2009-02-06 | 2015-03-04 | 株式会社尼康 | 编码器 |
WO2010143652A1 (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-16 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
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NL2006913A (en) * | 2010-07-16 | 2012-01-17 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method. |
EP2423749B1 (en) * | 2010-08-24 | 2013-09-11 | ASML Netherlands BV | A lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2458441B1 (en) | 2010-11-30 | 2022-01-19 | ASML Netherlands BV | Measuring method, apparatus and substrate |
NL2008272A (en) * | 2011-03-09 | 2012-09-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus. |
US9395635B2 (en) | 2011-04-22 | 2016-07-19 | Mapper Lithography Ip B.V. | Position determination in a lithography system using a substrate having a partially reflective position mark |
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JP5932023B2 (ja) * | 2011-05-13 | 2016-06-08 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | ターゲットの少なくとも一部を処理するためのリソグラフィシステム |
NL2010185A (en) | 2012-01-30 | 2013-08-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
WO2013113633A1 (en) * | 2012-01-30 | 2013-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with a metrology system for measuring a position of a substrate table |
JP6513797B2 (ja) * | 2014-06-05 | 2019-05-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
Family Cites Families (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4790642A (en) * | 1986-12-01 | 1988-12-13 | Gca Corporation/Tropel Division | Integrated metrology for microlithographic objective reducing lens |
US4769680A (en) | 1987-10-22 | 1988-09-06 | Mrs Technology, Inc. | Apparatus and method for making large area electronic devices, such as flat panel displays and the like, using correlated, aligned dual optical systems |
JPH06291022A (ja) | 1993-04-06 | 1994-10-18 | Canon Inc | 位置決め装置 |
JPH0727543A (ja) * | 1993-07-12 | 1995-01-27 | Canon Inc | 光学式変位センサー |
ATE155238T1 (de) * | 1994-02-26 | 1997-07-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferometer |
JPH07270122A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
US5995198A (en) * | 1995-06-01 | 1999-11-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US5877843A (en) * | 1995-09-12 | 1999-03-02 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JPH10177951A (ja) | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
JPH09148236A (ja) | 1995-11-22 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 露光装置の基板ステージの移動制御方法及び装置 |
US6645701B1 (en) | 1995-11-22 | 2003-11-11 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus |
JP2001500628A (ja) * | 1996-02-28 | 2001-01-16 | ケニス シー ジョンソン | マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡 |
JPH09283432A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Nikon Corp | 投影露光装置の環境制御システム |
KR100525521B1 (ko) | 1996-10-21 | 2006-01-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치및노광방법 |
CN1122988C (zh) * | 1997-08-12 | 2003-10-01 | 株式会社三协精机制作所 | 光传感头装置及其制造方法 |
JPH1197339A (ja) | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Canon Inc | 露光装置 |
JP3413122B2 (ja) * | 1998-05-21 | 2003-06-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
JP2001118783A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-04-27 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
TW563002B (en) * | 1999-11-05 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured by the method |
TWI238292B (en) * | 2000-02-10 | 2005-08-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus having a temperature controlled heat shield |
JP2001358056A (ja) * | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Canon Inc | 露光装置 |
TW527526B (en) * | 2000-08-24 | 2003-04-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7289212B2 (en) * | 2000-08-24 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby |
US7561270B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
TWI240151B (en) | 2000-10-10 | 2005-09-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2002190438A (ja) | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP4280447B2 (ja) * | 2001-02-20 | 2009-06-17 | キヤノン株式会社 | 反射スケールおよびそれを用いた変位検出装置 |
EP1345082A1 (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-17 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4006251B2 (ja) * | 2002-03-20 | 2007-11-14 | キヤノン株式会社 | ミラー装置、ミラーの調整方法、露光装置、露光方法及び半導体デバイスの製造方法 |
AU2003297000A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-30 | Zygo Corporation | In-process correction of stage mirror deformations during a photolithography exposure cycle |
JP4474871B2 (ja) | 2003-03-19 | 2010-06-09 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
US7025498B2 (en) | 2003-05-30 | 2006-04-11 | Asml Holding N.V. | System and method of measuring thermal expansion |
US7009359B2 (en) * | 2003-08-08 | 2006-03-07 | Asml Holding N.V. | Foam core chuck for the scanning stage of a lithography system |
JP2005086133A (ja) | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 露光装置および露光方法 |
US7119884B2 (en) * | 2003-12-24 | 2006-10-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4429023B2 (ja) | 2004-01-07 | 2010-03-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7102729B2 (en) * | 2004-02-03 | 2006-09-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, measurement system, and device manufacturing method |
US7545478B2 (en) | 2004-05-05 | 2009-06-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, thermal conditioning system, and method for manufacturing a device |
US7256871B2 (en) | 2004-07-27 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method for calibrating the same |
US7180571B2 (en) * | 2004-12-08 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and actuator |
US7148494B2 (en) * | 2004-12-29 | 2006-12-12 | Asml Netherlands B.V. | Level sensor, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7405811B2 (en) | 2005-04-20 | 2008-07-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and positioning apparatus |
US7349069B2 (en) | 2005-04-20 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and positioning apparatus |
US7348574B2 (en) * | 2005-09-02 | 2008-03-25 | Asml Netherlands, B.V. | Position measurement system and lithographic apparatus |
KR100869306B1 (ko) | 2005-09-13 | 2008-11-18 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US7636165B2 (en) * | 2006-03-21 | 2009-12-22 | Asml Netherlands B.V. | Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7483120B2 (en) * | 2006-05-09 | 2009-01-27 | Asml Netherlands B.V. | Displacement measurement system, lithographic apparatus, displacement measurement method and device manufacturing method |
US7999912B2 (en) * | 2007-05-08 | 2011-08-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and sensor calibration method |
US8760615B2 (en) | 2007-05-24 | 2014-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having encoder type position sensor system |
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