JPH11329962A - ステ―ジ装置およびその駆動方法 - Google Patents

ステ―ジ装置およびその駆動方法

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JPH11329962A
JPH11329962A JP11057108A JP5710899A JPH11329962A JP H11329962 A JPH11329962 A JP H11329962A JP 11057108 A JP11057108 A JP 11057108A JP 5710899 A JP5710899 A JP 5710899A JP H11329962 A JPH11329962 A JP H11329962A
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stage
base
actuator
force
substrate
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JP11057108A
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English (en)
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Douglas C Watson
シー．ワトソン ダグラス
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ステージとベース構造との間に設けたステー
ジ駆動機構によるステージ駆動時に反作用として生ずる
ベースへの擾乱を抑止する。 【解決手段】 ベース１８上で動くステージ１０を含む
ステージ装置において、ベースは基礎２２の上に架せら
れていて、該ステージが動いているときに該ステージの
直線加速により引き起こされる該ベースの乱れを最小限
にする。該ステージの重心を通る反作用相殺力が加えら
れるので、相殺されない反作用モーメントは無く、ベー
スの安定性は乱されない。正味の反作用相殺力は、該ス
テージの重心と一直線に該ステージの移動方向に平行に
加わる。或いは、該ベースはステージ用リニア型アクチ
ュエータ５６と基礎との間の堅くて撓まないリンク機構
によって反作用力から絶縁される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、精密運動ステージ
に関し、特にその様なステージ装置における反作用力の
効果に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステージは通常は精密運動のために使わ
れ、物体（例えばワークピース）がステージに担持され
るようなステージはよく知られている。１方向だけ（即
ち、ｘ方向だけ）に、２方向（ｘ、ｙ）に、３方向に
（ｘ、ｙ、ｚ）に或いは自由度６で動くステージが利用
可能である。この様なステージは例えば工作機械及びリ
ソグラフィー装置（露光装置）に用いられる。通常、リ
ソグラフィーではステージはウェーハーやレチクルなど
の物体を担持する。ステージは、システムの他のコンポ
ーネントも支持するベース構造に支持されて該構造に対
して相対的にｘ（又はｘ及びｙ）軸方向に動く。このベ
ース構造は通常は外部の振動からベース構造及びステー
ジを絶縁させるバネ／ダンパー・システムによって基礎
の上に支えられる。その様な振動がもしベース構造に伝
わると、ベース構造とステージとの相対的位置に誤差が
生じる可能性がある。
【０００３】ステージ駆動機構がステージとベース構造
との間に取り付けられると、ステージを加速したり減速
したりする力はベース構造にも等しく、反対方向に、作
用する。その様な反作用力はベース構造に望ましくない
運動及び振動を生じさせる可能性がある。そのために、
ステージをベースに対して相対的に精密に運動させたり
位置を定めたりすることは非常に困難になる。
【０００４】従って、ベース構造に作用する反作用力の
効果を回避するのが望ましいということが知られている
（米国特許第４，５２５，６５９号及び第５，１７２，
１６０号を参照）。
【０００５】図１は反作用力の技術的問題を示してお
り、本発明はこれに関連している。ステージ１０（ここ
では側面が図示されている）はベース構造１８の平らな
面１６の上のベアリング１２に載っている。（この図及
びその他の、本開示の一部分をなす図は、本質的要素だ
けを示すために簡略化されている。）
【０００６】実際のステージ１０は相当複雑な構造であ
り、半導体リソグラフィのための露光装置の場合レチク
ルやウェーハー或いはその他のワークピースを押さえつ
けるためのチャック、基準マーク、干渉計ミラー、及び
その他のレベリング用アクチュエータなどの要素を含ん
でいるが、普通のものであるので図には示されていな
い。更に、ベース構造１８は図１に示されているよりも
複雑であり、通常は大きく重くて、例えば精密に機械加
工された平らな面１６を持った大きくて平らなスチール
或いは花崗岩の構造を含む。ベアリング１２は例えば空
気ベアリング或いはその他の種類のベアリングである。
図１及びその他の図に示されているステージ１０は、１
方向だけに、例えば図示されているｘ軸方向）に動くこ
とができる。他の場合には、この様なステージはｙ軸方
向に（図の平面の中へ）、且つ／又はｚ軸方向にも動く
ことができるけれども、それらの場合は簡単のために図
示されていない。図１に示されている構造は、例えばウ
ェーハー及びレチクルのための２つの独立したステージ
が同じベース構造上に搭載される場合に拡張し得るもの
である。
【０００７】図１のステージ１０は（どんな物体もそう
であるように）重心ｃｇを有する。ベース１８は、例え
ば建物の床などの基礎２２の上に据え付けられている。
基礎２２は、地面に堅固に結合されるので、“グラン
ド”とも呼ばれる。基礎２２に存在する如何なる振動か
らもベース１８を絶縁させるために、ベース１８は基礎
２２に堅く結合されてはいない。絶縁構造２６がベース
１８を基礎２２に結合させている。例えば、絶縁構造２
６はバネ、エアー・ジャッキ、ダンパー、及び／又はそ
の他の種類の受動的又は能動的な一連の振動減衰装置で
ある。
【０００８】ステージ１０はベース面１６上で図示のよ
うにｘ方向に前後に動く。この運動は、普通は、何らか
の種類のリニア型アクチュエータ（図示されていない）
によって達成される。リニア型アクチュエータは、例え
ば、第１エレメント（コイル）がステージ１０に取り付
けられていて第２エレメント（磁気トラック）がベース
１８に取り付けられている磁気リニアーモーターであ
る。リニア型アクチュエータは、親ねじ、ボールねじ、
ベルト又はチェーン伝導装置、油圧装置、或いはその他
のリニア型の駆動装置であっても良い。
【０００９】従って自由度１（ｘ方向）のステージ１０
は絶縁構造２６によって基礎２２上に懸垂されているベ
ース構造１８に搭載されており、ステージ１０をｘ方向
に動かすためにステージ１０とベース１８との間にステ
ージ加速力Ｆが加えられる。力Ｆはステージをｘ方向に
加速させ、反作用力−Ｆ（力Ｆと大きさが同じで方向が
反対）はベース１８を反対方向に動かしてベース１８に
撓み振動モードを励起する可能性がある。
【００１０】図２で、ベース１８に対する正味の反作用
は、反作用力及び反作用モーメントの両方から成る。反
作用モーメントはｍであり、これはステージの重心ｃｇ
を通る線から力Ｆまでのオフセット距離ｌと、力Ｆとの
積（ｍ＝ｌ×Ｆ）である。この反作用モーメントｍは、
ステージ１０を支持しているベアリング１２を通してベ
ース１８に移される。
【００１１】ベース１８の運動及び振動はステージ１０
についての相対的位置誤差を生じさせるので、振動して
いるベース１８に対して一定の相対的位置を維持するた
めにステージ１０を前後に駆動することが必要となる；
その結果として位置決め精度が低下して整定時間が長く
なる可能性がある。リソグラフィーの分野では、リソグ
ラフィーの精度を維持するために、システムをその様な
振動力にさらさないことはもちろん重要である。
【００１２】従って、これらの問題を克服して整定時間
を短縮すると共にリソグラフィーの精度を高めることが
望ましい。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、能動的に反
作用相殺力を作用させることによって上記の反作用力を
補償すること、及び消極的に反作用力を絶縁することに
よって上記の反作用力を補償することの両方を目指して
いる。いずれの場合にも補償力ベクトルを作用させるけ
れども、それは、ステージの重心を通るステージの運動
方向に平行な軸を持っていて、ステージの質量とステー
ジの運動方向の直線加速度との積に等しい大きさを持っ
ている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、一面
において、ステージの重心を通るステージの運動方向に
平行な反作用相殺力ベクトルをベース作用させる。或る
実施例では、この反作用相殺力は、ステージの重心を通
るステージの運動方向に平行な正味の力を作用させるア
クチュエータ（例えばボイスコイルモーター或いはその
他の力を作用させる装置）によって加えられる。そうす
ることによって、ベースの安定性を乱す反作用モーメン
トは無くなり、ステージ装置の精度が向上する。
【００１５】従って、本発明は、ステージの重心と一直
線に且つステージの運動方向と平行に正味の反作用相殺
力ベクトルをベースに加える。本発明では、実際にステ
ージを駆動するリニア型アクチュエータのある場所に関
係なく、そのようにする。
【００１６】本発明は、他面においては、反作用力をベ
ースから絶縁させ、ステージの加速力をベースを乱さな
いようにグランドに直接伝える。
【００１７】有益なことに、本発明のステージ装置は、
ステージの駆動に伴う加速／減速時にベースの安定性を
向上させ、ステージが動かされるときのステージの機械
的整定時間を著しく短縮することができる。
【００１８】本発明の一実施例においては、ベースと、
該ベースによって第１方向に移動可能に支持されたステ
ージと、前記ベース上で前記ステージを駆動する第１ア
クチュエータと、前記ステージの重心を通り、前記第１
方向と略平行な方向に作用する補償力を前記ベースに加
える補償力印加手段と、を備え、前記補償力印加手段
は、前記第１アクチュエータが前記ステージを駆動した
際に前記ベースに作用する力を補償するように前記補償
力を設定することを特徴とするステージ装置を提供す
る。
【００１９】本発明の第２の実施例の装置は、上記ステ
ージ装置において、前記補償力印加手段は、前記ベース
と当該ステージ装置が載置される基礎部との間に設置さ
れて前記ベースに力を作用させる少なくとも１つの第２
アクチュエータを有し、該第２アクチュエータは、前記
力の正味の成分が、前記第１方向と略平行な方向で、か
つ前記ステージの重心を通るように設定することを特徴
とする。
【００２０】本発明の第３の実施例の装置は、第２実施
例の装置で、前記第１アクチュエータは、前記ベースに
対して変位可能に取り付けられるとともに、前記基礎部
と該ベースとの間に設置された少なくとも１つの第３ア
クチュエータを含むことを特徴とする。
【００２１】本発明第４実施例の装置は、上記第２実施
例の装置において、前記第２のアクチュエータは、ボイ
スコイルモーターであることを特徴とする。
【００２２】本発明第５実施例のステージ装置は、上記
第２実施例の装置において、前記第１アクチュエータ
は、前記ベースに設置され、前記補償力印加手段は、前
記第１アクチュエータと前記基礎部との間に設けられた
可撓性を有する結合部材を有し、該結合部材は、前記第
１方向に対する可撓性の程度が、該第１方向以外に対す
る可撓性の程度よりも低いことを特徴とする。
【００２３】本発明の第６実施例の装置は、上記第５実
施例の装置において、前記第１アクチュエータの重心
は、前記ステージの重心と前記結合部材の軸とで規定さ
れる軸方向に沿って存在することを特徴とする。
【００２４】本発明第７実施例の装置は、上記第５実施
例の装置において、前記結合部材は可撓継手によって前
記基礎部及び前記第１アクチュエータの各々に結合され
ていることを特徴とする。
【００２５】本発明第８実施例の装置は、前記第６実施
例の装置において、前記第１アクチュエータが前記ステ
ージを駆動した際に前記ベースに作用する力は、前記ス
テージの重心を通らない軸に沿って作用することを特徴
とする。
【００２６】本発明第９実施例の装置は、上記第２実施
例の装置において、前記ステージは複数の自由度に対し
て移動可能であり、更に、 前記複数の各自由度に対応
する方向に前記ステージを駆動するために、該ステージ
に各々設置された複数の第１アクチュエータと、前記ス
テージと前記基礎部との間に各々結合された複数の第２
アクチュエータとを備え、該複数の第２アクチュエータ
は、各々、前記自由度の少なくとも１つと平行な方向に
対して前記ベースに力を作用させることを特徴とする。
【００２７】本発明第１０実施例の装置は、上記第２実
施例の装置において、前記ステージは、複数の自由度に
対して移動可能であり、さらに、前記複数の各自由度に
対応する方向に前記ステージを駆動するために、該ステ
ージに各々設置された複数の第１アクチュエータと、前
記ステージと前記基礎部との間に各々結合された複数の
第２アクチュエータとを備え、該複数の第２アクチュエ
ータは、各々、前記自由度の少なくとも１つの軸まわり
に関するモーメントを前記ベースに作用させることを特
徴とする。
【００２８】本発明第１１実施例の装置は、上記第３実
施例の装置において、前記補償力印加手段は、前記第１
アクチュエータが前記ステージを駆動した際に前記ベー
スに作用する反作用力を相殺する力を前記補償力とする
ものであり、前記第２アクチュエータは、前記補償力の
正味の成分を、前記ステージの重心を通る軸方向に沿っ
て前記ベースに作用させることを特徴とする。
【００２９】本発明第１２実施例の装置は、上記第１乃
至第１１実施例のいずれかの装置において、前記補償力
は、前記第１アクチュエータが前記ステージを駆動する
際に、該ステージが加速及び減速の少なくとも一方の動
作を行うことによって前記ベースに作用する力を補償す
るものであることを特徴とする。
【００３０】本発明第１３実施例の装置は、上記第１乃
至第１２実施例のいずれかの装置において、前記ステー
ジ装置は、光源からの光を基板に照射して該基板上に所
定のパターンを形成する露光装置の基板ステージである
ことを特徴とする。
【００３１】本発明第１４実施例の装置は、上記第１乃
至第１２実施例のいずれかの装置において、前記ステー
ジ装置は、光源からの光をマスクに照射して投影光学系
を介して基板に投影することで、前記マスク上のパター
ンを前記基板に転写する露光装置のマスクステージであ
ることを特徴とする。
【００３２】本発明の第１５実施例においては、光源
と、マスクを保持するマスクステージと、基板を保持す
る基板ステージと、前記マスクステージと前記基板ステ
ージの間に配置される投影光学系とを備え、前記光源か
らの光を前記マスクステージに保持されたマスクに照射
して、前記投影光学系を介して前記基板ステージに保持
された基板に前記マスク上のパターンを転写する露光装
置において、前記マスクステージおよび前記基板ステー
ジの少なくとも一方は、上記第１乃至第１２実施例のい
ずれかのステージ装置より構成されている露光装置を提
供する。
【００３３】本発明の第１６実施例においては、 ベー
スと、該ベースによって第１方向に移動可能に支持され
たステージとを備えたステージ装置の駆動方法であっ
て、前記ステージを駆動する際に、前記ステージの重心
を通り前記第１方向と略平行な方向に作用する補償力を
前記ベースに加えることで、前記駆動によって前記ベー
スに作用する力を補償することを特徴とするステージ装
置の駆動方法を提供する。
【００３４】本発明の第１７実施例の方法は、上記第１
６実施例のステージ装置の駆動方法において、前記ステ
ージを移動させる第１アクチュエータと、一端が前記第
１アクチュエータに接続し、他端が当該ステージ装置を
載置するための基礎部に結合された可撓性を有する結合
部材とを設け、前記結合部材における前記第１方向に対
する可撓性の程度を、該第１方向以外に対する可撓性の
程度よりも低くしたことを特徴とする。
【００３５】本発明第１８実施例の方法は、上記第１６
実施例のステージ装置の駆動方法において、前記補償力
は、前記ベースに設けられた第２アクチュエータによっ
て生成され、前記補償力の正味の成分が、前記第１方向
と略平行で、かつ前記ステージの重心を通るように設定
されていることを特徴とする。
【００３６】本発明第１９実施例の方法は、上記第１６
乃至第１８実施例のいずれかのステージ装置の駆動方法
において、前記ステージは複数の自由度で移動可能であ
り、これら複数の各自由度の各々に対して前記補償力を
加えることを特徴とする。
【００３７】本発明第２０実施例の方法は、上記第１６
乃至第１９実施例のいずれかのステージ装置の駆動方法
において、前記補償力は、前記第１アクチュエータが前
記ステージを駆動する際に、該ステージが加速および減
速の少なくとも一方の動作を行うことによって前記ベー
スに作用する力を補償するものであることを特徴とす
る。
【００３８】本発明第２１実施例においては、光源から
の光をマスクステージに保持されたマスクに照射し、投
影光学系を介して基板ステージに保持された基板に前記
マスク上のパターンを転写する露光方法において、前記
マスクステージおよび前記基板ステージの少なくとも一
方を駆動する際に、上記第１６乃至第２０実施例のいず
れかのステージ装置の駆動方法を用いることを特徴とす
る露光方法を提供する。
【００３９】本発明の第２２実施例においては、光源か
らの光を基板ステージに保持された基板に照射して該基
板上に所定のパターンを形成する露光方法において、前
記基板ステージを駆動する際に、上記第１６乃至第２０
実施例のいずれかのステージ装置の駆動方法を用いるこ
とを特徴とする露光方法を提供する。
【００４０】
【発明の実施の形態】まず本発明の装置及び方法が適用
される半導体リソグラフィ用の投影露光装置を説明す
る。 −投影露光装置の全体構成− まず投影露光装置の全体構成を図１２を参照して説明す
る。図１２は、波長１９２〜１９４ｎｍの間で酸素の吸
収帯を避けるように狭帯化されたＡｒＦエキシマレーザ
光源２０１を用い、レチクル等のマスク（以下、レチク
ルＲと称する）の回路パターンを、投影光学系ＰＬを通
して半導体ウエハなどの基板（以下、ウエハＷと称す
る）上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを相対走
査するステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置
の構成を示す。
【００４１】−エキシマレーザ光源− 図１２において、ＡｒＦエキシマレーザ光源２０１の本
体は防振台２０２を介して半導体製造工場のクリーンル
ーム内（場合によってはクリーンルーム外）の床ＦＤ上
に設置される。そしてレーザ光源２０１本体には、キー
ボードやタッチパネル等の入力ユニットを含む専用の光
源制御系２０１Ａとディスプレー２０１Ｂとが設けら
れ、レーザ光源２０１から射出されるパルス光の発振中
心波長の制御、パルス発振のトリガ制御、レーザチャン
バー内のガスの制御等が自動的に行われる。
【００４２】−照明ユニット− ＡｒＦエキシマレーザ光源２０１から射出する狭帯化さ
れた紫外パルス光は、遮光性のベローズ２０３とパイプ
２０４とを通り、露光装置本体部との間での光路を位置
的にマッチングさせるビームマッチングユニット（以
下、ＢＭＵと称する）２０５内の可動ミラー２０５Ａで
反射され、遮光性のパイプ２０７を介して光量検出用の
ビームスプリッタ２０８に達し、ここで大部分の光量が
透過し、わずかな部分（例えば１％程度）が光量検出器
２０９の方に反射される。
【００４３】ビームスプリッタ２０８を透過した紫外パ
ルス光は、ビームの断面形状を整形するとともに紫外パ
ルス光の強度を調整する可変減光系２１０に入射する。
この可変減光系２１０は駆動モータを含み、図１２では
不図示の主制御系からの指令に応じて紫外パルス光の減
光率を段階的または無段階に調整する。
【００４４】また可動ミラー２０５Ａは、アクチュエー
タ２０５Ｂによって２次元に反射面の方向が調整される
が、ここではレーザ光源２０１に内蔵された可視レーザ
光源（半導体レーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等）から紫外パ
ルス光と同軸に射出される位置モニター用のビームを受
光する検出器２０６からの信号に基づいてアクチュエー
タ２０５Ｂがフィードバック、又はフィードフォワード
制御される。
【００４５】そのために可動ミラー２０５Ａは、位置モ
ニター用のビームの波長に対して透過率が高く、紫外パ
ルス光の波長に対して高い反射率を有するように作ら
れ、検出器２０６は可動ミラー２０５Ａを透過してきた
位置モニター用のビームの受光位置の変化を光電的に検
出するような４分割センサ、ＣＣＤ撮像素子等で構成さ
れる。尚、可動ミラー２０５Ａを傾斜させるアクチュエ
ータ２０５Ｂの駆動は、検出器２０６からの信号の代わ
りに露光装置本体部の床ＦＤに対する振動を別途検出す
る加速度センサや位置センサからの信号に応答して行っ
てもよい。
【００４６】さて可変減光系２１０を通った紫外パルス
光は、所定の光軸ＡＸに沿って配置される固定ミラー２
１１、集光レンズ２１２、オプチカルインテグレータと
しての第１フライアイレンズ２１３Ａ、可干渉性を低減
するための振動ミラー２１４、集光レンズ２１５、第２
フライアイレンズ２１３Ｂ、光源像の分布を切替えるた
めの交換可能な空間フィルター２１６、ビームスプリッ
タ２１７、第１結像レンズ系２２２、レチクルＲ上の照
明範囲を矩形スリット状に整形する視野絞り開口２２３
Ａを含むレチクルブラインド機構２２３、第２結像レン
ズ系２２４、反射ミラー２２５、及び主コンデンサーレ
ンズ系２２６からなる照明ユニットＩＬＵを通してレチ
クルＲに照射される。
【００４７】さらに上記の空間フィルター２１６から射
出してビームスプリッタ２１７を透過した数％程度の紫
外パルス光は、集光レンズと拡散板を含む光学系２１８
を介して光電検出器２１９に受光される。本実施の形態
の場合、基本的には光電検出器２１９からの光電検出信
号を露光量制御用の処理回路で演算処理して走査露光時
の露光条件が決定される。
【００４８】また図１２中のビームスプリッタ２１７の
左側に配置された集光レンズ系２２０と光電検出器２２
１は、ウエハＷに照射される露光用照明光の反射光を投
影光学系ＰＬから主コンデンサーレンズ２２６を介して
光量として光電検出するものであり、その光電信号に基
づいてウエハＷの反射率が検出される。
【００４９】以上の構成において、第１フライアイレン
ズ２１３Ａの入射面、第２フライアイレンズ２１３Ｂの
入射面、レチクルブラインド機構２２３の開口２２３Ａ
の面、レチクルＲのパターン面は、光学的に互いに共役
に設定され、第１フライアイレンズ２１３Ａの射出面側
に形成される光源面、第２フライアイレンズ２１３Ｂの
射出面側に形成される光源面、投影光学系ＰＬのフーリ
エ変換面（射出瞳面）は光学的に互いに共役に設定さ
れ、ケーラー照明系となっている。従ってレチクルブラ
インド機構２２３内の視野絞り開口２２３Ａの面とレチ
クルＲのパターン面とで、紫外パルス光は一様な強度分
布の照明光に変換される。
【００５０】上述の照明ユニットＩＬＵは、外気に対し
て気密状態にする照明系ハウジング（不図示）内に設け
られ、その照明系ハウジングは露光装置本体部を床ＦＤ
上に設置するためのベースフレーム２４９に立設された
支持コラム２２８上に設置される。この支持コラム２２
８の基部とベースフレーム２４９との間には、照明ユニ
ットＩＬＵと露光装置本体部との間での相対位置決めを
行うとともに床ＦＤからの振動を隔絶することを目的と
した防振ユニット２４８Ａ〜２４８Ｄ（図１２において
紙面奥側に配設される防振ユニット２４８Ｃ、２４８Ｄ
は図示せず）が介装される。また、照明系ハウジング内
は、空気（酸素）の含有濃度を数％以下、望ましくは１
％未満にしたクリーンな乾燥窒素ガスやヘリウムガスに
よって充填される。
【００５１】−レチクルブラインド− レチクルブラインド機構２２３内の視野絞り開口２２３
Ａは、本実施例では例えば特開平４−１９６５１３号公
報に開示されているように、投影光学系ＰＬの円形視野
内の中央で走査露光方向と直交した方向に延在する直線
スリット状または矩形状に配置される。さらにレチクル
ブラインド機構２２３内には、視野絞り開口２２３Ａに
よるレチクルＲ上での照明視野領域の走査露光方向の幅
を可変とするための可動ブラインドが設けられ、この可
動ブラインドによって特開平４−１９６５１３号公報に
開示されているように、レチクルＲの走査移動時のスト
ロークの低減、レチクルＲ上の遮光帯の幅の低減を図っ
ている。
【００５２】こうしてレチクルブラインド機構２２３の
照明視野絞り開口２２３Ａで一様な強度分布とされた紫
外パルス照明光は、結像レンズ系２２４と反射ミラー２
２５を介して主コンデンサーレンズ系２２６に入射し、
レチクルＲ上の回路パターン領域の一部を開口２２３Ａ
のスリット状または矩形状の開口部と相似な形状となっ
て一様に照射する。
【００５３】−レチクルステージ− 一方、レチクルＲはレチクルステージ２３０上に吸着固
定され、そのステージ２３０の位置はレーザ干渉計２３
２によってリアルタイムに計測されつつ、リニアモータ
等を含む駆動ユニット３４によって走査露光時に図１２
の左右方向（Ｙ軸方向）に所定の速度Ｖｒで移動され
る。尚、レーザ干渉計２３２は、レチクルステージ２３
０の走査方向（Ｙ軸方向）の位置変位の他に非走査方向
（Ｘ軸方向）の位置変位と回転変位とをリアルタイムに
計測し、駆動ユニット２３４の駆動モータ（リニアモー
タやボイスコイルモータ等）は走査露光時に計測される
それらの位置変位と回転変位とが所定の状態に保たれる
ようにステージ２３０を駆動する。
【００５４】−リアクションフレーム− 上述のレチクルステージ２３０、レーザ干渉計２３２お
よび駆動ユニット２３４（リニアモータの固定子側）は
露光装置本体部の支持コラム２３１Ａの上方に取り付け
られる。支持コラム２３１Ａの上端部にはまた、レチク
ルステージ２３０の走査移動時の加速期間中、または減
速期間中に生じる走査方向の反力を吸収するためのアク
チュエータ２３５が設けられる。このアクチュエータ２
３５の固定子側は、取付け部材２３６Ａを介してベース
フレーム２４９の縁端部近くに立設されるリアクション
フレーム２３６Ｂに固定される。
【００５５】−投影光学系− レチクルＲが紫外パルス照明光で照射されると、レチク
ルＲの回路パターンの照射部分の透過光が投影光学系Ｐ
Ｌに入射し、その回路パターンの部分像が紫外パルス照
明光の各パルス照射のたびに投影光学系ＰＬの像面側の
円形視野の中央にスリット状または矩形状（多角形）に
制限されて結像される。そして投影された回路パターン
の部分像は、投影光学系ＰＬの結像面に配置されたウエ
ハＷ上の複数のショット領域のうちの１つのショット領
域表面のレジスト層に転写される。
【００５６】その投影光学系ＰＬのレチクルＲ側には、
走査露光時に発生するダイナミックな歪曲収差、特にラ
ンダムなディストーション特性を低減するための像歪み
補正板（石英板）２４０が配置される。この補正板２４
０は、その表面を局所的に波長オーダーで研磨加工し、
投影視野内における部分的な結像光束の主光線を微小に
偏向させるものである。
【００５７】投影光学系ＰＬには、内部の特定のレンズ
素子を光軸方向に平行移動させたり、微小傾斜させたり
することで、結像特性（投影倍率やある種のディストー
ション）を、露光すべきウエハＷ上のショット領域の歪
み状態の検出結果、投影光路内の媒体（光学素子や充填
される気体）の温度変化の検出結果、大気圧変化による
投影光学系ＰＬ内の内圧変化の検出結果に基づいて自動
調整するためのアクチュエータ２４１Ａ、２４１Ｂが設
けられている。
【００５８】なお投影光学系ＰＬは、本実施例では屈折
光学素子（石英レンズと蛍石レンズ）のみで構成され、
物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側とが共に
テレセントリックな系になっている。
【００５９】−ウエハステージ−ウエハＷは投影光学系
ＰＬの像面と平行なＸＹ平面に沿って２次元移動するウ
エハステージ２４２上に吸着固定され、このウエハステ
ージ２４２の位置は投影光学系ＰＬの鏡筒下端に固定さ
れた基準鏡Ｍｒを基準としてウエハステージ２４２の一
部に固定された移動鏡Ｍｓの位置変化を計測するレーザ
干渉計２４６によってリアルタイムに計測される。その
計測結果に基づいてウエハステージ２４２は複数個のリ
ニアモータを含む駆動ユニット２４３によって、ステー
ジベース板２３１Ｄ上を二次元移動される。
【００６０】−支持フレーム− 駆動ユニット２４３を構成するリニアモータの固定子
は、べ一ス板２３１Ｄから独立した支持フレーム２４４
を介してベースフレーム２４９上に取り付けられ、ウエ
ハステージ２４２の移動加速時や減速時に発生する反力
をべ一ス板２３１Ｄではなく床ＦＤに直接伝えるように
なっている。このため走査露光時のウエハステージ２４
２の移動に伴う反力が露光装置本体部に加えられること
がなく、露光装置本体部に生じる振動や応力が低減され
る。
【００６１】尚、ウエハステージ２４２は走査露光時に
図１２の左右方向（Ｙ軸方向）に速度Ｖｗで等速駆動さ
れる。ウエハステージ２４２はまた、一つのダイ上での
走査露光を終えて、次の走査露光の対象となるダイを投
影光学系ＰＬの投影領域に移動する際にＸ、Ｙ軸方向に
ステップ移動される。そしてレーザ干渉計２４６は、ウ
エハステージ２４２のＹ軸方向の位置変位の他にＸ軸方
向の位置変位と回転変位とをリアルタイムに計測する。
この計測結果に基づき、駆動ユニット２４３の駆動モー
タによりステージ２４２の位置変位が所定の状態になる
ように駆動される。
【００６２】またレーザ干渉計２４６によって計測され
たウエハステージ２４２の回転変位の情報は、主制御系
を介してレチクルステージ２３０の駆動ユニット２４３
にリアルタイムに送られ、そのウエハ側の回転変位の誤
差がレチクルＲ側の回転制御で補償するように制御され
る。
【００６３】−防振ユニット− さて、ステージベース板２３１Ｄの４隅はアクティブな
アクチュエータを含む防振ユニット２４７Ａ〜２４７Ｄ
（図１２において紙面奥側に配設される防振ユニット２
４７Ｃ、２４７Ｄは図示せず）を介してベースフレーム
２４９上に支持され、各防振ユニット２４７Ａ〜２４７
Ｂの上にはそれぞれ支柱２３１Ｃが立設され、その上に
は投影光学系ＰＬの鏡筒外壁に固定されたフランジＦＬ
Ｇを固定する定盤２３１Ｂが設けられ、さらに定盤２３
１Ｂの上に上記の支持コラム２３１Ａが取り付けられて
いる。
【００６４】以上の構成で防振ユニット２４７Ａ〜２４
７Ｄの各々は、露光装置本体部の床ＦＤに対する姿勢変
化をモニターする姿勢検出センサからの信号に応答し
て、本体の姿勢がレチクルステージ２３０、ウエハステ
ージ２４２の移動に伴う重心変化に拘わらず常に安定す
るように露光装置本体部のＺ方向の位置をフィードバッ
ク制御とフィードフォワード制御によって独立に調節す
る。
【００６５】−制御系− ところで図１２中には示していないが、露光装置本体部
の各駆動ユニットやアクチュエータ類は主制御系によっ
て統括的に制御されるが、その主制御系の下には個々の
駆動ユニットやアクチュエータを具体的に制御する中問
的なユニット制御器が設けられている。そのようなユニ
ット制御器として代表的なものは、レチクルステージ２
３０の移動位置、移動速度、移動加速度、位置オフセッ
ト等の各種情報を管理するレチクル側制御器であり、そ
してウエハステージ２４２の移動位置、移動速度、移動
加速度、位置オフセット等の各種情報を管理するウエハ
側制御器である。
【００６６】そして主制御系は、特に走査露光時にレチ
クルステージ２３０のＹ軸方向の移動速度Ｖｒとウエハ
ステージ２４２のＹ軸方向の移動速度Ｖｗとが投影光学
系ＰＬの投影倍率（１／５倍或いは１／４倍）に応じた
速度比に維持されるようにレチクル側制御器とウエハ側
制御器を同期制御する。
【００６７】また主制御系は、上述のレチクルブライン
ド機構２２３内に設けられている可動ブラインドの各ブ
レードの移動を走査露光時のレチクルステージ２３０の
移動と同期制御するための指令を送出する。さらに主制
御系は、ウエハＷ上のショット領域を適正露光量（目標
露光量）で走査露光するための各種の露光条件を設定す
るとともに、エキシマレーザ光源２１の光源制御系２１
Ａと可変減光系２１０とを制御する露光用制御器とも連
携して最適な露光シーケンスを実行する。
【００６８】−レチクルアライメント系、ウエハアライ
メント系− 以上の構成の他に、本実施例ではレチクルＲの初期位置
をアライメントするためのレチクルアライメント系２３
３がレチクルＲと主コンデンサーレンズ系２２６との間
の照明光路外に設けられ、レチクルＲ上の遮光帯で囲ま
れた回路パターン領域の外側に形成されたマークを光電
的に検出する。また定盤２３１Ｂの下側にはウエハＷ上
の各ショット領域毎に形成されたアライメントマークを
光電的に検出するためのオフ・アクシス方式のウエハア
ライメント系２５２が設けられる。
【００６９】−制振ユニット− リアクションフレーム２３６Ｂおよび照明ユニットＩＬ
Ｕには、それぞれ制振ユニット２６０Ａおよび２６０Ｂ
が設置される。これらの制振ユニット２６０Ａおよび２
６０Ｂはアクティブ制振装置であり、後述するように制
振ユニット２６０Ａはリアクションフレーム２３６Ｂに
生じる振動を抑制する一方、制振ユニット２６０Ｂは支
持コラム２２８によって支持される照明ユニットＩＬＵ
に生じる振動を抑制する。
【００７０】本発明は以上に述べた投影露光装置のウエ
ハステージに好適に適用される。以下において発明のス
テージ装置をウエハステージに適用した場合の実施形態
を説明する。なおここではウエハステージとして説明す
るが、本発明のステージ装置はレチクルステージにも適
用しうる。
【００７１】図１のそれと同一の構造を示す図２に示さ
れているように、本発明に従って、ステージの運動方向
ｘに平行でステージ１０の重心ｃｇを通る軸（破線で示
されている）に沿って反作用相殺力ベクトルＦ’（リニ
ア型アクチュエータの反作用力Ｆと大きさが等しくて方
向が反対）がベース１８に加えられる。もしステージ用
リニア型アクチュエータが運動方向と一直線に整列して
いなければ、反作用相殺力の大きさはステージ用リニア
型アクチュエータの力のステージ運動方向の成分に等し
くなければならない。また、もしステージとベースとの
間のステージ移動向の運動に抵抗する摩擦或いはその他
の力があるならば、その力は反作用相殺力の大きさから
差し引かれる。即ち、正味の反作用相殺力の大きさは、
ステージの質量と、ステージの、ステージ移動方向の加
速度との積に等しくなければならない。図２に示されて
いるステージ装置は詳しくは図示されていない。例え
ば、このステージ装置は米国特許第５，５２８，１１８
号に示されている種類のものであって良い。
【００７２】従って図２は、本発明に従って反作用相殺
ベクトル力を作用させる方法を示してはいるけれども、
それを実行するための具体的なメカニズムを示してはい
ない。反作用相殺力ベクトルＦ’を加えるためにいろい
ろなメカニズム及び方法を利用できることが当業者には
分かる。次にそれらの具体例を明らかにするけれども、
それは限定を目的とするものではない。
【００７３】図３に示されている実施例では、ステージ
１０を方向ｘに駆動するリニア型アクチュエータ５６
は、ベース１８に堅く取り付けられていて、リニア型ア
クチュエータ５６が発生させた反作用力Ｆは全てベース
１８に直接に伝わる。図３ではリニア型アクチュエータ
５６の一部分だけがベース１８に取り付けられて図示さ
れている。例えば、前述したようにリニア型アクチュエ
ータ５６が磁気リニアーモーターであれば、リニアーモ
ーター５６の磁気トラックはベース１８に取り付けら
れ、これと連携するモーターコイル（図示されていな
い）はステージ１０に取り付けられる。一般に、図３に
示されているように、リニア型アクチュエータ５６はス
テージ１０の重心と一直線に力を作用させる必要はなく
て、ステージのベアリング１２を通してベース１８に作
用する反作用モーメントがあっても良い。
【００７４】この場合、例えばアクチュエータ６０及び
６２などの、外部の反作用相殺アクチュエータがベース
１８と基礎２２の垂直延長部３６との間に結合される
（或いは、延長部３６はグランドに直接載っていても良
い）。アクチュエータ６０及び６２は、ステージ装置の
他の反作用力及びモーメントを相殺する力をベース１８
の側面に直接作用させる。反作用相殺アクチュエータ６
０、６２が作用させる力は、正味の力ベクトル（モーメ
ントがゼロ）がステージ１０の移動方向ｘと一直線に且
つステージ１０の重心ｃｇと一直線に作用するように、
加えられる。正味の力Ｆは： F = F60 - F62であり、
ここでF60、F62はそれぞれアクチュエータ６０、６２が
作用させる力である。正味のモーメント= - (F60×l60)
+ (F62×l62) = 0であり、ここでl60及びl62は図３に
示されている距離である。反作用相殺アクチュエータ６
０、６２は例えばボイスコイルモーターなどの電動モー
ター装置であり、該モーターは開ループ（位置フィード
バック無し）制御システムによって駆動され、該システ
ムは、該モーターにステージ１０の加速度に比例する力
をベース１８に加えさせる。
【００７５】反作用力（及び正味の反作用相殺力）はス
テージ１０の移動方向ｘと一直線に整列するけれども、
これはリニア型アクチュエータ５６が作用させる力ベク
トルと正確に整列しても良いし、そうでなくても良い。
例えば磁気リニアーモーターではなくてクランク及びロ
ッド型の装置を含むリニア型アクチュエータ駆動装置の
種類に関わらずに、この反作用力はステージ１０の重心
ｃｇと一直線になる。これらの力及びモーメントは、移
動方向ｘの軸に垂直な両方の軸（ｙ及びｚ）において相
殺される。（ｘ、ｙ、ｚ軸は参照を目的として図３に示
されている。）
【００７６】図３のように２つのアクチュエータ６０、
６２を含める必要はなく、他の実施例では、システムの
設計上の制約に応じて、アクチュエータが１つだけ（ア
クチュエータ６０）あっても良いし、或いはその様なア
クチュエータが３つ以上あっても良い。例えば、もし反
作用相殺アクチュエータが作用させる力がステージの重
心と一直線上にあり且つステージの移動方向と平行であ
るならば、必要なアクチュエータは１つ（アクチュエー
タ６０）だけである。
【００７７】基礎２２の振動からの絶縁を保つために、
アクチュエータ６０、６２は如何なる方向の位置および
速度とも無関係に力をｘ方向に加えることができるよう
になっている。従って、アクチュエータ６０、６２は、
ボイスコイルモーターがそうであるように、機械的にゼ
ロの“剛性”及び“減衰”を持つのが望ましい。ゼロ
（或いは低い）剛性或いは減衰とは、作用する力がアク
チュエータの位置や速度と無関係であることを意味す
る。機械的なねじ駆動式の反作用相殺アクチュエータ
は、可能ではあるけれども、剛性が大きすぎる傾向を有
する。或いは、反作用相殺アクチュエータ６０、６２
は、空圧式アクチュエータ或いはアーム付きトルクモー
ター或いはその他の種類のアクチュエータであっても良
い。例えば、トルクモーターの解説については、米国特
許第５，１７２，１６０号を参照されたい。
【００７８】図３のベアリング１２は例えばローラーベ
アリング、エアーベアリング、他の流体ベアリング或い
はその他の種類のベアリングである。リニア型アクチュ
エータ５６は、磁気リニアーモーターであっても良いけ
れども、前述したように該リニア型アクチュエータは、
モーターでなくても良くて、直進運動を与える他の種類
のアクチュエータであっても良く、例えば機械的リンク
機構或いは空圧式駆動装置或いは油圧駆動装置であって
も良い。
【００７９】動作時に、図３の実施例では、例えばリニ
ア型アクチュエータ５６に供給される電流の量を測定す
ることによって、ステージ用リニアアクチュエータ５６
からステージ１０に加わる力が測定される。この電流の
量は、反作用相殺アクチュエータ６０、６２によって加
えられるべき力の対応する量を決定して対応する電流を
アクチュエータ６０、６２に供給する制御システムによ
って測定される。或いは、ステージの加速度を測定して
も良い。通常、反作用力はアクチュエータ（例えばボイ
スコイルモーター）６０、６２と釣り合うので、各ボイ
スコイルモーターのコイルは何時でも動いてはいない、
即ちベースは乱されない。
【００８０】この様な制御システムが図４にブロック図
の形で示されており、該システムは、リニア型アクチュ
エータ５６を介してステージ１０を駆動する信号Fstage
を出力するサーボ・コントローラ６４（例えばコンピュ
ータ又はマイクロプロセッサ）を含んでいる。信号Fsta
geは、ＤＡＣ６６（ディジタル−アナログ変換器）と、
ＤＡＣ６８、７０をそれぞれ駆動する２つの定数掛け算
器K60、K62とに供給される。ＤＡＣ６６は増幅器７２を
駆動し、この増幅器はリニア型アクチュエータ５６を駆
動する。ＤＡＣ６８、７０はそれぞれ単相電流駆動増幅
器７４、７６を駆動し、該増幅器はそれぞれアクチュエ
ータ６０、６２を駆動する。定数K62は例えば負の値で
あり、K60は正の値である。
【００８１】図５は、本発明に従って反作用力絶縁を実
行する１つの実施例を示している。図５は、ステージ１
０を動かすリニアアクチュエータ１００をベース１８上
の例えばベアリング或いは撓み部材(flexure)１０４な
どの可撓性の台の上に装置することによってベース１８
を反作用力から絶縁させる反作用力絶縁メカニズムを示
している。（図３では、対応するリニア型アクチュエー
タ５６はベース１８に堅く取り付けられている）。
【００８２】図５では、リニア型アクチュエータ１００
は、ステージの移動方向に平行でステージ１０の重心ｃ
ｇを通る軸に沿って力を作用させるように装置されてい
る。リニア型アクチュエータ１００は、可撓性ではある
が軸方向には堅いリンク組立体１３８（本明細書では
“接地リンク”とも称する）を介して基礎２２の垂直延
長部３６にも結合されている。図３の場合と同じく、基
礎の垂直延長部３６はグランド及び／又は基礎２２の残
りの部分に例えば金属製骨組みで堅く結合されている。
【００８３】接地リンク組立体１３８は通常は例えば金
属ロッド接地リンク部材１４２を含んでおり、この部材
はそれぞれ継ぎ手１４４、１４６によって基礎延長部３
６及びリニア型アクチュエータ１００に結合されてい
る。継ぎ手１４４、１４６は例えば玉継ぎ手、ピン継ぎ
手、ちょうつがい、撓み部材、或いはそれらの同等物で
ある。組立体１３８は、反作用力を基礎延長部３６に直
接伝える。接地リンク部材１４２は、ステージの移動方
向ｘに平行である。この様な構成では、全ての加速力が
ステージ１０の重心ｃｇを通って加えられるので、反作
用モーメントはベース１８に作用しない。地面の振動が
接地リンク組立体１３８を介してベース１８になるべく
伝わらないようにするために、接地リンク組立体１３８
の慣性モーメントを最小限にするのが有利であるという
ことが分かっている。接地リンク組立体の質量を減らし
て慣性が最小限になっているので、ベース１８が基礎２
２に対して相対的に垂直に動くときには接地リンク組立
体の右端には垂直な力は殆ど存在しない。
【００８４】図６は、異なるリニア型アクチュエータ１
５０が使われていることを除いて図５のそれと殆どの点
で同様な別の実施例が示されており、この場合には、も
し接地リンク組立体１３８がステージ１０の重心と一直
線に並んでいて接地リンク組立体１３８の部材１４２に
より画定される線形軸がステージ１０の移動方向ｘに平
行であるならば、リニア型アクチュエータの力Ｆはステ
ージ１０の重心ｃｇからオフセットしている。この場合
にも、地面の振動がベース１８になるべく伝わらないよ
うにするためにリニア型アクチュエータ１５０の重心ｃ
ｇはステージ１０の重心ｃｇと一直線に並んでいる。
【００８５】この場合には、ステージのベアリング１２
によりステージ１０からベース１８に加わる反作用モー
メントは、リニア型アクチュエータのベアリング（或い
は撓み部材又は同等物）１０４によりリニア型アクチュ
エータ１５０からベース１８に伝わるモーメントによっ
て相殺される。
【００８６】ステージ１０の移動方向ｘと、接地リンク
部材１４２の軸方向との平行を保つために、基礎２２、
３６に対するベース１８の相対運動は小さく、接地リン
ク部材１４２は長い方が好都合である。明らかに、もし
ベース１８が上下に大幅に振動していて接地リンク部材
１４２が割合に短ければ、前記の平行は失われ、ベース
を乱す傾向のある軸はずれの力成分が生じる結果とな
る。
【００８７】上記の実施例は１方向ステージ移動、即ち
ｘ軸方向の移動、に関連するものであるが、ｙ軸方向に
動作する第２反作用力相殺メカニズムを設けることによ
って本発明を容易に２次元（ｘ、ｙ軸）又は３次元
（ｘ、ｙ、ｚ）のステージにも応用することができる。
ｘ、ｙ及び／又はｚ方向の正味の力は常にステージの移
動に平行で且つステージの重心を通っていなければなら
ない。
【００８８】別の実施例では、本発明は、追加のアクチ
ュエータを設けると共に、該アクチュエータ間の相対的
力をステージの重心の位置、加速方向、及び加速度の大
きさの関数として調整することによって、完全な６自由
度の運動（ｘ、ｙ、ｚ、θｘ、θｙ、及びθｚ軸）を伴
うシステムを含む。反作用力補正からの正味の力及びモ
ーメントは、移動するステージの重心の位置及び方向及
び方向と整合する。正味の力の大きさは、ステージの移
動している質量とその直線加速度との積に等しい。ま
た、正味のモーメントの大きさは、ステージの慣性モー
メントと、その角加速度との積に等しくなければならな
い。
【００８９】ステージを平面図で図示している図７の
（ａ）に示した状態において、ｃｇの周りの慣性モーメ
ントをIzz、種々のアクチュエータが作用させる力を
Ｆ、モーメントをＭ、質量をｍとすると（Ｆ、Ｍおよび
ｍは添字を付けて区別する）：
【数１】 であるので、
【数２】 従って
【数３】 従って
【数４】 となる。
【００９０】Ｆについて３つの方程式と３つの未知数が
あるので、それらの方程式は解くことができる。
【００９１】自由度３の運動を制御するには最低３個の
アクチュエータが必要であるが、力Fx1，Fx2，及びFyは
ステージの重心（ｃｇ）と同じｚ軸位置になければなら
ない。もしそうでなければ、上記のように構成された追
加のアクチュエータを使ってステージの重心ｃｇと同じ
平面内にある正味の力を作り出す。例えば、図７ａを参
照すると、もしアクチュエータをステージ重心ｘｙ平面
内に置くことができなければ、最低２個の追加のアクチ
ュエータが必要となる。実例としてのその様な構成が図
７ｂに示されている。
【００９２】ステージのｘ方向及びｙ方向の質量は異な
ることがあるので、それぞれの質量が上記のΣFx及びΣ
Fyの方程式に使われる。例えば、もしｙ軸に沿って動く
サブステージがｘ軸に沿って動くステージの上に載って
いるという構成であれば、ステージの質量は各方向で異
なることになり得る。
【００９３】自由度６で動くステージを取り囲む立方体
（３次元）の周りのＲＦＣ（反作用相殺 Reaction Forc
e cancellation）アクチュエータの実例としての構成が
図８に示されている。
【００９４】この構成は下記の方程式により支配され
る：
【数５】
【００９５】前述したように、質量mx、my及びmzは等し
くても良いし異なっていても良い。
【００９６】図８の３次元立方体のｙｚ射影を示す図９
を参照すると、下記の方程式によりｘ軸の周りのモーメ
ントを合計することができる：
【数６】
【００９７】図１０を参照すると、ｙ軸の周りのモーメ
ントの総和は次の通りである：
【数７】
【００９８】図１１を参照すると、ｚ軸の周りのモーメ
ントの総和は次の通りである：
【数８】
【００９９】ステージの移動範囲の外で反作用力を作用
させる必要はない、即ち、ＲＦＣ（反作用力相殺）アク
チュエータを殆どどこにでも配置することが可能であ
り、機械設計上の考慮事項及び該アクチュエータの最大
能力だけが制限要素である。例えば、自由度１の例で
は、所望の正味反作用相殺力はアクチュエータ間ではな
くて外側にあるので、１つのアクチュエータから必要と
される力は所望の正味の力より大きい。自由度６を制御
するには最低で６個のアクチュエータが必要である。
【０１００】本開示は例証であって限定をするものでは
ない。この開示を考慮すれば、別の修正形が当該技術分
野の専門家にとっては明白であり、それは添付の請求項
の範囲内に属するとされる。
【０１０１】前記実施形態において、ウエハステージや
レチクルステージの駆動源にリニアモータを用いる場
合、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレン
ツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちら
を用いてもよい。また、ステージは、ガイドに沿って移
動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレス
タイプでもよい。
【０１０２】また、ステージの駆動源としては、２次元
に磁石を配置した磁石ユニットと、２次元にコイルを配
置した電機子ユニットとを対向させ電磁力によりステー
ジを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁
石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステー
ジに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方を
ステージの移動面側に設ければよい。
【０１０３】また本実施形態の露光装置としては、走査
型露光装置の他に、マスクと基板とを静止した状態でマ
スクのパターンを露光し、基板を順次ステップ移動させ
るステップ・アンド・リピート型の露光装置を用いるこ
ともできる。また、投影光学系を用いることなくマスク
と基板とを密接させてマスクのパターンを露光するプロ
キシミティ露光装置にも適用することができる。
【０１０４】本実施例の露光装置の光源は、ｇ線、ｉ線
ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ2レ
ーザのみならず、Ｘ線や電子線（ＥＢ）などの荷電粒子
線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合
には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボラ
イト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることがで
きる。また、電子線を用いる場合は、マスク上のパター
ンを基板（ウエハ）に転写する方式と、マスクを用いず
に直接基板上にパターンを形成する方式の双方に適用す
ることができる。
【０１０５】
【発明の効果】以上のように各請求項に記載された発明
によれば、ステージ装置の整定時間を短縮することがで
きる。そのため、このステージ装置を用いる処理工程に
おいては、そのスループットを向上させることが可能に
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ステージに加速力が加えられているステージ装
置を示す図であり、本発明が対処する技術的問題を図解
している。
【図２】本発明による反作用相殺力の作用を示す模式図
である。
【図３】図２の反作用相殺アクチュエータの選択任意の
配置を示す図である。
【図４】図３の構造のための制御システムを示す図であ
る。
【図５】反作用力を絶縁させるための接地リンクの使用
を示す模式図である。
【図６】図５の構造の別形を示す図である。
【図７】本発明のシステムでの反作用相殺力の作用を示
す。
【図８】運動の自由度６を有するシステムでの反作用相
殺力の作用を示す図である。
【図９】図８に示したシステムでの反作用相殺力の作用
をＹＺ射影で示す図である。
【図１０】図８に示したシステムでの反作用相殺力の作
用をＺＸ射影で示す図である。
【図１１】図８に示したシステムでの反作用相殺力の作
用をＸＹ射影で示す図である。
【図１２】本発明によるステージ装置が適用される半導
体リソグラフィ用の露光装置を示す図である。
【符号の説明】
１０ ステージ １８ ベース ２２ 基礎 ５６ リニア型アクチュエータ

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ベースと、 該ベースによって第１方向に移動可能に支持されたステ
    ージと、 前記ベース上で前記ステージを駆動する第１アクチュエ
    ータと、 前記ステージの重心を通り、前記第１方向と略平行な方
    向に作用する補償力を前記ベースに加える補償力印加手
    段と、を備え、 前記補償力印加手段は、前記第１アクチュエータが前記
    ステージを駆動した際に前記ベースに作用する力を補償
    するように前記補償力を設定することを特徴とするステ
    ージ装置。
  2. 【請求項２】 前記補償力印加手段は、前記ベースと当
    該ステージ装置が載置される基礎部との間に設置されて
    前記ベースに力を作用させる少なくとも１つの第２アク
    チュエータを有し、 該第２アクチュエータは、前記力の正味の成分が、前記
    第１方向と略平行な方向で、かつ前記ステージの重心を
    通るように設定することを特徴とする請求項１に記載の
    ステージ装置。
  3. 【請求項３】 前記第１アクチュエータは、前記ベース
    に対して変位可能に取り付けられるとともに、前記基礎
    部と該ベースとの間に設置された少なくとも１つの第３
    アクチュエータを含むことを特徴とする請求項２に記載
    のステージ装置。
  4. 【請求項４】 前記第２アクチュエータは、ボイスコイ
    ルモーターであることを特徴とする請求項２に記載のス
    テージ装置。
  5. 【請求項５】 前記第１アクチュエータは、前記ベース
    に設置され、 前記補償力印加手段は、前記第１アクチュエータと前記
    基礎部との間に設けられた可撓性を有する結合部材を有
    し、該結合部材は、前記第１方向に対する可撓性の程度
    が、該第１方向以外に対する可撓性の程度よりも低いこ
    とを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
  6. 【請求項６】 前記第１アクチュエータの重心は、前記
    ステージの重心と前記結合部材の軸とで規定される軸方
    向に沿って存在することを特徴とする請求項５に記載の
    ステージ装置。
  7. 【請求項７】 前記結合部材は可撓継手によって前記基
    礎部及び前記第１アクチュエータの各々に結合されてい
    ることを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
  8. 【請求項８】 前記第１アクチュエータが前記ステージ
    を駆動した際に前記ベースに作用する力は、前記ステー
    ジの重心を通らない軸に沿って作用することを特徴とす
    る請求項６に記載のステージ装置。
  9. 【請求項９】 前記ステージは複数の自由度に対して移
    動可能であり、更に、 前記複数の各自由度に対応する
    方向に前記ステージを駆動するために、該ステージに各
    々設置された複数の第１アクチュエータと、 前記ステージと前記基礎部との間に各々結合された複数
    の第２アクチュエータとを備え、該複数の第２アクチュ
    エータは、各々、前記自由度の少なくとも１つと平行な
    方向に対して前記ベースに力を作用させることを特徴と
    する請求項２に記載のステージ装置。
  10. 【請求項１０】 前記ステージは、複数の自由度に対し
    て移動可能であり、さらに、 前記複数の各自由度に対応する方向に前記ステージを駆
    動するために、該ステージに各々設置された複数の第１
    アクチュエータと、 前記ステージと前記基礎部との間に各々結合された複数
    の第２アクチュエータとを備え、該複数の第２アクチュ
    エータは、各々、前記自由度の少なくとも１つの軸まわ
    りに関するモーメントを前記ベースに作用させることを
    特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
  11. 【請求項１１】 前記補償力印加手段は、前記第１アク
    チュエータが前記ステージを駆動した際に前記ベースに
    作用する反作用力を相殺する力を前記補償力とするもの
    であり、 前記第２アクチュエータは、前記補償力の正味の成分
    を、前記ステージの重心を通る軸方向に沿って前記ベー
    スに作用させることを特徴とする請求項３に記載のステ
    ージ装置。
  12. 【請求項１２】 前記補償力は、前記第１アクチュエー
    タが前記ステージを駆動する際に、該ステージが加速及
    び減速の少なくとも一方の動作を行うことによって前記
    ベースに作用する力を補償するものであることを特徴と
    する請求項１から請求項１１までのいずれか１項に記載
    されたステージ装置。
  13. 【請求項１３】 前記ステージ装置は、光源からの光を
    基板に照射して該基板上に所定のパターンを形成する露
    光装置の基板ステージであることを特徴とする請求項１
    から請求項１２までのいずれか１項に記載されたステー
    ジ装置。
  14. 【請求項１４】 前記ステージ装置は、光源からの光を
    マスクに照射して投影光学系を介して基板に投影するこ
    とで、前記マスク上のパターンを前記基板に転写する露
    光装置のマスクステージであることを特徴とする請求項
    １から請求項１２までのいずれか１項に記載されたステ
    ージ装置。
  15. 【請求項１５】 光源と、 マスクを保持するマスクステージと、 基板を保持する基板ステージと、 前記マスクステージと前記基板ステージの間に配置され
    る投影光学系とを備え、前記光源からの光を前記マスク
    ステージに保持されたマスクに照射して、前記投影光学
    系を介して前記基板ステージに保持された基板に前記マ
    スク上のパターンを転写する露光装置において、 前記マスクステージおよび前記基板ステージの少なくと
    も一方は、請求項１から請求項１２までのいずれか１項
    に記載のステージ装置により構成されていることを特徴
    とする露光装置。
  16. 【請求項１６】 ベースと、該ベースによって第１方向
    に移動可能に支持されたステージとを備えたステージ装
    置の駆動方法であって、 前記ステージを駆動する際に、前記ステージの重心を通
    り前記第１方向と略平行な方向に作用する補償力を前記
    ベースに加えることで、前記駆動によって前記ベースに
    作用する力を補償することを特徴とするステージ装置の
    駆動方法。
  17. 【請求項１７】 前記ステージを移動させる第１アクチ
    ュエータと、一端が前記第１アクチュエータに接続し、
    他端が当該ステージ装置を載置するための基礎部に結合
    された可撓性を有する結合部材とを設け、 前記結合部材における前記第１方向に対する可撓性の程
    度を、該第１方向以外に対する可撓性の程度よりも低く
    したことを特徴とする請求項１６に記載のステージ装置
    の駆動方法。
  18. 【請求項１８】 前記補償力は、前記ベースに設けられ
    た第２アクチュエータによって生成され、 前記補償力の正味の成分が、前記第１方向と略平行で、
    かつ前記ステージの重心を通るように設定されているこ
    とを特徴とする請求項１６に記載のステージ装置の駆動
    方法。
  19. 【請求項１９】 前記ステージは複数の自由度で移動可
    能であり、これら複数の各自由度の各々に対して前記補
    償力を加えることを特徴とする請求項１６から請求項１
    ８までのいずれか１項に記載のステージ装置の駆動方
    法。
  20. 【請求項２０】 前記補償力は、前記第１アクチュエー
    タが前記ステージを駆動する際に、該ステージが加速お
    よび減速の少なくとも一方の動作を行うことによって前
    記ベースに作用する力を補償するものであることを特徴
    とする請求項１６から請求項１９までのいずれか１項に
    記載されたステージ装置の駆動方法。
  21. 【請求項２１】 光源からの光をマスクステージに保持
    されたマスクに照射し、投影光学系を介して基板ステー
    ジに保持された基板に前記マスク上のパターンを転写す
    る露光方法において、 前記マスクステージおよび前記基板ステージの少なくと
    も一方を駆動する際に、請求項１６から請求項２０まで
    のいずれか１項に記載のステージ装置の駆動方法を用い
    ることを特徴とする露光方法。
  22. 【請求項２２】 光源からの光を基板ステージに保持さ
    れた基板に照射して該基板上に所定のパターンを形成す
    る露光方法において、 前記基板ステージを駆動する際に、請求項１６から請求
    項２０までのいずれか１項に記載のステージ装置の駆動
    方法を用いることを特徴とする露光方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258695A (ja) * 2006-03-03 2007-10-04 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法およびデバイス製造方法
JP2009033058A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理装置
JP2009033056A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理装置
KR100987939B1 (ko) * 2007-07-31 2010-10-18 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 반력처리장치
JP2011003587A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理機構、その反力処理機構を備えたステージ装置、及びそのステージ装置を備えた半導体検査装置
DE102011002399A1 (de) 2010-01-06 2011-07-07 Okuma Corporation, Aichi Verfahren zum Steuern einer Ablenkung eines Strukturelements

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL135139A0 (en) * 1997-09-19 2001-05-20 Nikon Corp Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same
JP3535749B2 (ja) * 1997-12-10 2004-06-07 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
JPH11189332A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Canon Inc ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
US6413090B1 (en) 1998-03-30 2002-07-02 Hitachi, Ltd. VR motion base control apparatus and it's supporting structure
JP3554186B2 (ja) * 1998-04-08 2004-08-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
JP4146952B2 (ja) * 1999-01-11 2008-09-10 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US6262490B1 (en) * 1999-11-05 2001-07-17 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Substrate strip for use in packaging semiconductor chips
US6525802B1 (en) 1999-11-05 2003-02-25 Nikon Corporation Kinematic mounted reference mirror with provision for stable mounting of alignment optics
JP2001148341A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Nikon Corp 露光装置
EP1111469B1 (en) * 1999-12-21 2007-10-17 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus with a balanced positioning system
TW546551B (en) 1999-12-21 2003-08-11 Asml Netherlands Bv Balanced positioning system for use in lithographic apparatus
TWI264617B (en) * 1999-12-21 2006-10-21 Asml Netherlands Bv Balanced positioning system for use in lithographic apparatus
JP3814453B2 (ja) * 2000-01-11 2006-08-30 キヤノン株式会社 位置決め装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法
DE10019226B4 (de) * 2000-04-18 2010-03-18 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co Elektromechanischer Linearantrieb mit Momentenkompensation
US6717159B2 (en) 2000-10-18 2004-04-06 Nikon Corporation Low distortion kinematic reticle support
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6927838B2 (en) * 2001-02-27 2005-08-09 Nikon Corporation Multiple stage, stage assembly having independent stage bases
US6844694B2 (en) 2001-08-10 2005-01-18 Nikon Corporation Stage assembly and exposure apparatus including the same
US6621241B2 (en) * 2001-12-20 2003-09-16 Dac International, Inc. System and method for reducing oscillating tool-induced reaction forces
JP3679776B2 (ja) * 2002-04-22 2005-08-03 キヤノン株式会社 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
US6724000B2 (en) 2002-05-16 2004-04-20 Nikon Corporation Reaction frame apparatus and method
US7221433B2 (en) 2004-01-28 2007-05-22 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly
JP2005216132A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Sumitomo Eaton Noba Kk 移動装置の制御方法、及び移動装置の連動装置、及び移動装置の連動方法、及び半導体製造装置、及び液晶製造装置、及びメカニカルスキャンイオン注入装置
DE102004057062B4 (de) * 2004-11-25 2012-06-14 Technische Universität Dresden Lineardirektantriebsanordnung und Verfahren zu seiner Regelung
KR100780250B1 (ko) * 2005-12-21 2007-11-27 주식회사 엘지화학 잉크 분사방법 및 장치
US7502103B2 (en) * 2006-05-31 2009-03-10 Asml Netherlands B.V. Metrology tool, system comprising a lithographic apparatus and a metrology tool, and a method for determining a parameter of a substrate
US8140288B2 (en) * 2007-04-18 2012-03-20 Nikon Corporation On-machine methods for identifying and compensating force-ripple and side-forces produced by actuators on a multiple-axis stage
JP5308249B2 (ja) * 2009-06-22 2013-10-09 三菱重工業株式会社 サーボ制御装置
JP5955574B2 (ja) * 2012-02-03 2016-07-20 株式会社東光高岳 立体形状計測装置
US9052250B1 (en) * 2012-05-04 2015-06-09 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method of calibrating a force balance
KR102653016B1 (ko) 2018-09-18 2024-03-29 삼성전자주식회사 척 구동 장치 및 기판 처리 장치
CN109623499B (zh) * 2019-01-31 2020-08-25 大连理工大学 数控机床几何/热误差在线测量与补偿系统
DE102019202709A1 (de) * 2019-02-28 2020-09-03 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Schwingungsisolierung einer Positioniereinrichtung

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5868118A (ja) * 1981-10-20 1983-04-22 Telmec Co Ltd 高精度位置決めステ−ジ用防振装置
US4812725A (en) * 1987-10-16 1989-03-14 Anwar Chitayat Positioning device with dual linear motor
US5022619A (en) * 1988-12-09 1991-06-11 Tokyo Aircraft Instrument Co., Ltd. Positioning device of table for semiconductor wafers
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258695A (ja) * 2006-03-03 2007-10-04 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法およびデバイス製造方法
JP4638454B2 (ja) * 2006-03-03 2011-02-23 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法
JP2009033058A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理装置
JP2009033056A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理装置
JP4485550B2 (ja) * 2007-07-30 2010-06-23 住友重機械工業株式会社 反力処理装置
KR100981604B1 (ko) * 2007-07-30 2010-09-10 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 반력처리장치
US7948198B2 (en) 2007-07-30 2011-05-24 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Reaction force cancel system
KR100987939B1 (ko) * 2007-07-31 2010-10-18 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 반력처리장치
JP2011003587A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Sumitomo Heavy Ind Ltd 反力処理機構、その反力処理機構を備えたステージ装置、及びそのステージ装置を備えた半導体検査装置
DE102011002399A1 (de) 2010-01-06 2011-07-07 Okuma Corporation, Aichi Verfahren zum Steuern einer Ablenkung eines Strukturelements

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Publication number Publication date
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