JP6697563B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[001] 本出願は、２０１６年１月７日に出願された欧州特許出願第１６１５０４２４．６号の優先権を主張し、参照により全体として本明細書に取り入れられる。

[002] 本発明は、リソグラフィ装置及びデバイスを製造するための方法に関する。

[003]リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。

[004] パターンがターゲット部分に適切に投影されることを保証するために、ターゲット部分がパターン付き放射ビームに対して正確に位置決めされることを保証することが重要である。このため、パターン付き放射ビームの位置が振動のために変位しないことを保証する際に多大な労力が費やされる。典型的に、リソグラフィ装置は、投影システムに対して基板を移動させるためのステージ装置及び投影システムがその上に装着されるベースフレームを含む。ステージ装置の移動による振動が投影システムに伝搬しないように隔離するために、リソグラフィ装置の投影システムは、例えば、複数の防振装置により装置のベースフレームによって支持される別個のフレームに装着することができる。しかしながら、正確さの要件がより厳しくなるにつれて、このような配置は投影システムを隔離するために十分なものではなくなる可能性がある。

[005] リソグラフィ装置の投影装置の振動隔離を改善することが望ましい。これを実現するために、本発明の一実施形態により、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
投影システムに対して基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
ベースフレームが、ステージアセンブリを支持するように構成された第１の部分と、投影システムを支持するように構成された第２の部分とを含み、第１の部分と第２の部分がベースフレームのコンプライアント部分を介して互いに接続される、リソグラフィ装置が提供される。

[006] 本発明の他の実施形態では、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
投影システムに対して基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
ベースフレームが、ステージアセンブリを支持するように構成された第１の部分と、投影システムを支持するように構成された第２の部分とを含み、ベースフレームが、第１の部分と第２の部分との間のギャップを埋めるように配置された変形可能シールを更に含む、リソグラフィ装置が提供される。

[007] 本発明の一実施形態により、本発明によるリソグラフィ装置を使用して基板にパターン付き放射ビームを投影することを含むデバイス製造方法が提供される。

[008] 対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。

[009]本発明の第１の実施形態によるリソグラフィ装置を図示している。 [0010]本発明によるベースフレームを適用することにより動的分離を有する効果を図示している。 [0010]本発明によるベースフレームを適用することにより動的分離を有する効果を図示している。 [0011]本技術分野で知られているリソグラフィ装置を図示している。 [0011]本技術分野で知られているリソグラフィ装置を図示している。 [0012]本発明の第２の実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に図示している。 [0013]本発明によるリソグラフィに適用できるステージアセンブリの上面図を概略的に図示している。

[0014] 図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又はその他の任意の好適な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された位置決めデバイスＰＭに接続されたマスク支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴとを含む。リソグラフィ装置は、また、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴ又は「基板サポート」を含む。リソグラフィ装置は、パターニングデバイスＭＡによって基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に放射ビームＢに付与されたパターンを投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを更に備える。

[0015] 照明システムは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。

[0016] マスク支持構造は、パターニングデバイスを支持、すなわち、その重量を支えている。マスク支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。マスク支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電式等のクランプ技術を使用することができる。マスク支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。マスク支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置に来るようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。

[0017] 本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。

[0018] パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ）位相シフトマスク、ハーフトーン型（ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、更には様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小型ミラーのマトリクス配列を使用し、ミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを付与する。

[0019] 本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これは更に一般的な「投影システム」という用語と同義と見なすことができる。
本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。

[0020] リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板サポート」（及び／又は２つ以上のマスクテーブル又は「マスクサポート」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル又はサポートを並行して使用するか、又は１つ以上の他のテーブル又はサポートを露光に使用している間に１つ以上のテーブル又はサポートで予備工程を実行することができる。

[0021] リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で使用することができる。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。

[0022] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。

[0023] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように設定されたアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒ及びσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。

[0024] 放射ビームＢは、マスク支持構造（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。マスクＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。本発明によれば、基板Ｗは、ステージアセンブリＳＡにより投影システムＰＳに対して変位させることができ、ステージアセンブリＳＡは、基板Ｗを保持するように構築された基板テーブルＷＴと、投影システムＰＳに対して基板テーブルＷＴを変位させるように構成された位置決めデバイスＰＷとを含む。

[0025] 位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路に位置決めするように正確に移動できる。同様に、位置決めデバイスＰＭと別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めできる。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」の移動は、位置決めデバイスＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよい（スクライブラインアライメントマークとして周知である）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークをダイ間に配置してもよい。

[0026] 図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。

[0027] １．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴ又は「マスクサポート」及び基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」は基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」がＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。

[0028]２．スキャンモードでは、マスクテーブルＭＴ又は「マスクサポート」及び基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。マスクテーブルＭＴ又は「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。

[0029] ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴ又は「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴ又は「基板サポート」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。

[0030] 上述した使用モードの組み合わせ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。

[0031] 本発明により、リソグラフィ装置は、その上にステージアセンブリＳＡと投影システムＰＳが装着されるベースフレームＢＦを更に含む。図示されている実施形態では、投影システムＰＳは、エアマウントなどの防振装置によりベースフレームＢＦに装着可能ないわゆるメトロロジフレームＭＦに装着される。図示されている実施形態では、ベースフレームＢＦはベースフレームサポートＢＦＳによりペデスタル（ｐｅｄｅｓｔａｌ）ＰＤに装着される。代替例として、ベースフレームＢＦは地面又は工場の床に装着することもできる。更に、本発明の一実施形態により、ベースフレームＢＦは、ステージアセンブリＳＡを支持するように構成された第１の部分ＦＰＢＦと、投影システムＰＳを支持するように構成された第２の部分ＳＰＢＦとを含み、第１の部分と第２の部分はベースフレームＢＦのコンプライアント部分ＤＰＢＦを介して互いに接続される。以下により詳細に説明されるように、コンプライアント部分ＤＰＢＦは、ベースフレームＢＦに対するステージアセンブリの変位によって引き起こされる振動からの投影システムＰＳの隔離を改善できるようにするものである。本発明の意味の範囲内では、コンプライアント部分又はコンプライアントシールは、少なくとも１自由度で柔軟な又は変形可能な部分又はシールを指す。

[0032] リソグラフィ装置では、基板Ｗのそれぞれのターゲット部分Ｃにパターンを投影するために、基板ステージＷＴが投影システムＰＳに対して変位される。この変位により、ステージアセンブリＳＡは、ステージアセンブリＳＡを支持するベースフレームＢＦに対して力及び／又はトルクを行使する可能性がある。その結果発生する振動は、いかなる対策も講じられない場合、投影システムＰＳが防振装置を介してベースフレームＢＦに装着されている場合でも投影システムＰＳに向かって伝搬する可能性がある。この影響を緩和するために、本発明の一実施形態によるベースフレームＢＦは、第１の部分と第２の部分との間に配置されたコンプライアント部分、即ち、変形可能又は柔軟な部分ＤＰＢＦを含む。このようなコンプライアント部分を含むことにより、特にステージアセンブリＳＡを支持するベースフレーム部分ＦＰＢＦの特定の垂直及び回転変位における振動の伝搬を緩和することができる。変形可能又はコンプライアント部分ＤＰＢＦを取り入れることにより、ベースフレームＢＦは実際に、少なくとも特定の周波数範囲内の振動について動的に隔離される２つのベースフレームとして作用することができる。この原理は図２ａ及び図２ｂに概略的に示されている。

[0033] 図２ａは、従来の手法でペデスタルＰＤに装着されたベースフレームＢを概略的に図示している。図示の通り、ペデスタルＰＤは比較的堅いサポートＳ１によって地面ＧＦに装着される。ベースフレームＢはサポートＳ２によりペデスタルＰＤに装着され、このサポートも例えば１ｅ８Ｎ／ｍの剛性を有する比較的堅いサポートにすることができる。例えばステージアセンブリＳＡ又はその一部の変位ＤＳＡによりトルクＴがベースフレームＢに加えられる場合、ベースフレームＢの垂直移動ＶＭが発生する可能性がある。この垂直移動は例えばステージアセンブリＳＡに隣接してベースフレームＢに装着されるオブジェクト又はシステムＭ、例えば投影システム又はメトロロジフレームに悪影響を及ぼす可能性がある。

[0034] 図２ｂに示されているように、本発明の一実施形態によりベースフレームＢＦを適用することにより、ステージアセンブリの変位ＤＳＡは、ステージアセンブリに隣接して装着されたオブジェクト又はシステムＭに及ぼす影響がかなり小さくなる可能性がある。ベースフレームＢＦの第１の部分ＢＦ１とベースフレームＢＦの第２の部分ＢＦ２との間にコンプライアント部分（点線ＤＰによって示されている）を設けることにより、その上にステージアセンブリＳＡが装着されるベースフレームの一部分ＢＦ１（例えば基板テーブル及び位置決めデバイス）に作用するトルクＴの影響はかなり伝搬しにくくなる。コンプライアント部分ＤＰにより、振動は基本的にペデスタルＰＤを介して伝搬する必要があり、このペデスタルは一般に比較的大きい質量を有する。ベースフレームＢＦが地面又は工場の床に装着されるときに同じことが当てはまる。その結果、第２の部分ＢＦ２ではステージアセンブリ誘発トルクによる影響が小さくなる。

[0035] 図１及び図２ｂに示されているベースフレームの概念は、ＥＵＶ放射を適用する、即ちそれにより露光プロセスが真空条件下で行われるリソグラフィ装置でも適用することができる。

[0036] 図３及び図４は、本技術分野で知られているリソグラフィ装置などの考えられるレイアウトを概略的に示している。図３は、照明システムＩＬと投影システムＰＳとを含み、投影システムＰＳが基板テーブルＷＴ上に装着された基板Ｗにパターン付き放射ビームＰＲを向け直すように構成された複数のミラーＭＳを含む、ＥＵＶタイプのリソグラフィ装置の断面図を概略的に示している。図示されている配置では、基板テーブルＷＴは、位置決めデバイスＰＷ、例えば平面モータアセンブリ又はリニアモータアセンブリによって変位可能な２つの基板テーブルＷＴを含むデュアルステージアセンブリＳＡの一部を形成する。図示されている配置では、照明システムＩＬはパターニングデバイスＭＡ（この場合は反射型パターニングデバイス）上に調節された放射ビームＰＣを投影して、パターン付き放射ビームＰＲを発生する。パターニングデバイスＭＡは、例えばパターニングデバイスＭＡを保持するためのオブジェクトテーブルと、パターニングデバイスＭＡを位置決めするための位置決めデバイスとを含む、第２のステージアセンブリＳＡ２に装着される。ステージアセンブリは、例えば、それに対して反力を行使できるバランスマスＢＭを含むことができる。図示されている配置は、振動的に隔離されたフレーム、例えばメトロロジフレームＭＦを更に含み、その上に位置測定装置あるいは露光前に基板を特徴付けるための測定装置を装着することができ、このような測定装置は例えば基板Ｗ’の高さマップを決定するためのレベルセンサＬＳ及び基板Ｗ’上のアライメントマークの位置を決定するためのアライメントセンサＡＳを含む。図示されている配置では、ステージアセンブリ、照明システムＩＬ、メトロロジフレーム、及び投影システムＰＳはいずれも共通のベースフレームＢＦに（直接又は防振装置ＶＩを介して）装着され、ベースフレームＢＦはステージアセンブリ、照明システムＩＬ、メトロロジフレーム、及び投影システムＰＳを密閉する真空チャンバＶＣの最下部を形成する。図示されている配置では、ベースフレームＢＦは比較的堅いサポートＳＰを介してペデスタルＰＤに装着され、ペデスタルＰＤは地面ＧＦに装着される。ステージアセンブリＳＡの基板テーブルＷＴの１つが水平面で変位すると、図４に示されているように、図２ａに示されているものと同様の問題が発生する可能性がある。主にベースフレームＢＦが限られた剛性のペデスタルＰＤに接続される、即ち、剛性が非常に大きいわけではないために、ベースフレームＢＦに行使されたトルクはベースフレームＢＦの傾斜又は回転を引き起こす可能性がある。その結果発生する回転により、防振装置ＶＩなどの防振装置の位置の変位が発生する可能性があり、それがメトロロジフレームＭＦに伝搬し、したがってメトロロジフレームの加速が発生する可能性がある。その結果、基板Ｗへのパターン付き放射ビームＰＲの投影があまり正確ではなくなり、それに応じてオーバーレイエラーを引き起こす可能性がある。

[0037] この問題を回避又は緩和するために、本発明は、ステージアセンブリが装着されているベースフレーム部分を投影システムＰＳ又は照明システムＩＬなどのその他のアセンブリが装着されているベースフレーム部分から少なくとも部分的に動的に分離することを提案する。このような配置は図５に概略的に示されている。

[0038] 図５は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置の断面図を概略的に示している。図５の実施形態では、ステージアセンブリＳＡはベースフレームの第１の部分ＳＡＢＦによって支持され、照明システムＩＬ、投影システムＰＳ、及びメトロロジフレームＭＦはベースフレームの第２の部分ＢＦ２によって支持される。図示されている実施形態では、ベースフレームの第１の部分ＳＡＢＦをベースフレームの第２の部分ＢＦ２に接続するカップリングＤＣが設けられる。本発明により、カップリングＤＣは様々な手法で実現することができる。一実施形態では、カップリングＤＣは、第１のベースフレーム部分ＳＡＢＦと第２のベースフレーム部分ＢＦ２との間のギャップをシールする変形可能シールを含む。ＥＵＶタイプのリソグラフィ装置においてベースフレームを適用する場合、真空チャンバＶＣ内部の真空を維持するために、第１のベースフレーム部分ＳＡＢＦと第２のベースフレーム部分ＢＦ２との間のギャップをシールしなければならない。コンプライアンス、即ち、シールの変形性又は柔軟性については、図４に示されている回転又は傾斜の影響を緩和するために、主に垂直方向のコンプライアンスが必要であると指摘することができる。このため、コンプライアント又は変形可能シールは、例えば、水平方向に比較的大きい剛性を有しながら、垂直方向に変形するように配置された板バネを含むことができる。１つ以上の板バネの使用の代替例として、第１のベースフレーム部分ＳＡＢＦと第２のベースフレーム部分ＢＦ２との間のギャップを埋めるためにベローも適用することができる。

[0039] 一実施形態では、ベースフレームの第１の部分と第２の部分はベースフレーム自体のコンプライアント部分を介して互いに接続される。このような実施形態では、ベースフレームは接続された別個のコンポーネントから構成されるのではなく、むしろ、ベースフレームの第１の部分とベースフレームの第２の部分とベースフレームのコンプライアント部分が１つの集合体を形成することができる。このような配置は例えば図１に概略的に示されている。このような実施形態では、ベースフレームの上面は連続表面にすることができる。

[0040] 一実施形態では、ベースフレームのコンプライアント部分はステージアセンブリの動作領域に外接することができる。図６は、これを例示するために、本発明によるリソグラフィ装置に適用可能なステージアセンブリの上面図を概略的に示している。

[0041] 図６は、永久磁石の２次元アレイＰＭＡを含む平面モータ配置と、基板テーブルＷＴが装着されるコイルアセンブリを励振することにより永久磁石アレイＰＭＡに対して変位可能な２つの基板テーブルＷＴとを含む、ステージアセンブリＳＡの上面図を概略的に示している。代替配置では、ＰＭＡは、基板テーブルＷＴが装着される永久磁石アレイと共働するように構成された２次元コイルアレイとして構成することができる。図６は、ステージアセンブリＳＡが装着されるベースフレームのコンプライアント部分の位置を示す輪郭ＤＰを更に概略的に示している。一実施形態では、図１にも概略的に示されているように、ベースフレームのコンプライアント部分は、ベースフレームの第１の部分、即ち、ステージアセンブリを支持する部分より小さい厚さをこの部分に提供することにより実現することができる。

[0042] 一実施形態では、コンプライアント部分は、垂直方向に又は水平軸の周りで第２の部分に対する第１の部分の変位を可能にするように構成される。

[0043] 図４に示されている悪影響を緩和するために、例えば、ベースフレームを支持するサポート、例えば図５に示されているサポートＳＰの垂直剛性より小さい桁の垂直方向の剛性を備えたコンプライアント部分又は変形可能シールを設計することを考慮することができる。

[0044] 本発明の一実施形態では、図４に示されている悪影響は、ベースフレームが装着されるペデスタルを２つの部分に細分化し、それによりベースフレームの第１の部分がペデスタルの第１の部分に装着され、ベースフレームの第２の部分がペデスタルの第２の部分に装着されることにより、更に軽減される。このような実施形態では、ペデスタルの第１及び第２の部分は、例えば、動的に分離するか又は部分的に分離することができる。

[0045] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[0046] 光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。

[0047] 本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。

[0048] 「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組み合わせを指すことができる。

[0049] 以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明の実施形態は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。

[0050] 上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。

Claims (13)

1. 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
   パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
   基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
   前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
   前記投影システムに対して前記基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
   を含む、ステージアセンブリと、
   その上にステージアセンブリと前記投影システムが装着されるベースフレームと、
   を含み、
   前記ベースフレームが、前記ステージアセンブリを支持するように構成された第１の部分と、前記投影システムを支持するように構成された第２の部分とを含み、前記第１の部分と前記第２の部分が前記ベースフレームのコンプライアント部分を介して互いに接続され、
   前記第１の部分、前記第２の部分、及び前記コンプライアント部分が単一の集合体を構成し、前記ベースフレームの前記コンプライアント部分が前記第１の部分より小さい厚さを有する、
   リソグラフィ装置。
2. 前記コンプライアント部分が前記ステージアセンブリの動作領域に外接する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記コンプライアント部分が、垂直方向に又は水平軸の周りで前記第２の部分に対する前記第１の部分の変位を可能にするように構成される、請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
4. 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
   パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
   基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
   前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
   前記投影システムに対して前記基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
   を含む、ステージアセンブリと、
   その上にステージアセンブリと前記投影システムが装着されるベースフレームと、
   を含み、
   前記ベースフレームが、前記ステージアセンブリを支持するように構成された第１の部分と、前記投影システムを支持するように構成された第２の部分とを含み、前記ベースフレームが、前記第１の部分と前記第２の部分との間のギャップを埋めるように配置された変形可能シールを更に含み、
   前記ベースフレームが前記投影システムを密閉する真空チャンバの最下部部分を構成し、前記ベースフレームの上面は連続表面になっている、
   リソグラフィ装置。
5. 前記変形可能シールがベローを含む、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記ベースフレームが前記投影システムを密閉する真空チャンバの最下部部分を構成する、請求項１から３のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7. 前記真空チャンバが前記照明システム及び前記ステージアセンブリを更に密閉する、請求項４又は６に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記投影システムが、防振装置を介して前記ベースフレームの前記第２の部分に装着される、請求項１から７のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9. 前記防振装置がシールされた空気アイソレータ及び／又は板バネを含む、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記照明システムが前記ベースフレームの前記第２の部分に装着される、請求項１から９のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
11. 前記ベースフレームがペデスタルに装着される、請求項１から１０のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
12. 前記ベースフレームの前記第１の部分が前記ペデスタルの第１の部分に装着され、前記ベースフレームの前記第２の部分が前記ペデスタルの第２の部分に装着される、請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
13. 請求項１から１２のいずれかに記載のリソグラフィ装置を使用して基板にパターン付き放射ビームを投影することを含むデバイス製造方法。
    

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