KR102109761B1 - 능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 리소그래피 장치 - Google Patents

능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 리소그래피 장치 Download PDF

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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
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Abstract

리소그래피 장치는 리소그래피 장치의 지지 구조를 형성하도록 구성된 베이스 프레임, 베이스 프레임과 지면 플로어 사이에 배치된 능동 베이스 프레임 지지부를 포함한다. 능동 베이스 프레임 지지부는 지면 플로어의 베이스 프레임을 지지하도록 구성된다. 능동 베이스 프레임 지지부는 베이스 프레임과 지면 사이에 수평 방향으로 힘을 가하도록 구성된 액추에이터를 포함한다. 리소그래피 장치는 상기 액추에이터를 구동하도록 구성된 제어 디바이스를 더 포함하며, 상기 베이스 프레임 상의 외란력을 나타내는 신호는 상기 제어 디바이스에 제공되며, 상기 제어 디바이스는 힘 센서 신호를 사용하여 상기 액추에이터를 구동하도록 구성된다.

Description

능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 리소그래피 장치
본 출원은 2015년 12월 21일자로 출원된 EP 출원 15201466.8의 우선권을 주장하며, 본 명세서에서 그 전체가 참조로서 통합된다.
본 발명은 능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 리소그래피 장치에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판 상에, 통상적으로는 기판의 타겟부 상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조 시에 사용될 수 있다. 이러한 경우, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 (예를 들어, 다이의 일부분, 한 개 또는 수 개의 다이를 포함하는) 타겟부 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판 상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층 상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 종래의 리소그래피 장치는, 한 번에 타겟부 상으로 전체 패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사(irradiate)되는 소위 스테퍼, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"-방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향(같은 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판 상으로 패턴을 임프린트(imprint)함으로써, 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.
리소그래피 장치에서, 기판의 지지부 또는 패터닝 디바이스의 지지부와 같은 지지체는 동작 동안, 예를 들어, 스캐닝 동작을 수행하기 위하여 이동한다. 여기에는 전기 모터 또는 같은 복수의 전기 모터, 가령 평면 모터들과 같은 액추에이터가 제공된다. 액추에이터는 예를 들어 넓은 범위의 이동에 걸친 위치 설정을 제공하는 장 행정 액추에이터와 결합된, 보다 작은 범위의 이동에 걸쳐 정확한 위치 설정을 수행하는 단 행정 액추에이터를 포함할 수있다. 액추에이터는 밸런스 매스와 관련하여 지지체를 이동시킨다. 지지체(및 지지체에 의해 유지되는 기판 또는 패터닝 디바이스)의 무게 중심이 밸런스 매스의 무게 중심과 일치하지 않기 때문에, 밸런스 매스에 대한 반발력은 밸런스 매스에 토크를 제공할 수 있다. 지지체는 액추에이터에 의한 수평 힘(예를 들어, Z 축 방향)이 제공되는 경우 밸런스 매스의 상부에 위치될 수 있다(즉, Z 방향으로 이격된다). x 또는 y 방향의 힘은 밸런스 매스의 x 방향과 y 방향 주위로 각각의 토크뿐만 아니라 반대 방향으로의 반발력을 제공한다. X 및 Y 방향은 Z 방향에 수직인 수평면을 형성하는 것으로 정의된다.
밸런스 매스는 리소그래피 장치의 베이스 프레임에 의하여 지지되며, 이는 리소그래피 장치가 배치되는 건물의 접지면(예를 들어, 바닥면, 받침대 등)에 의해 지지된다.
카운터 이동의 진동, 토크 및 효과는 지지체의 위치 설정에 외란을 초래하여 리소그래피 장치의 오버레이 에러를 야기할 수 있다.
밸런스 매스가 제공되지 않는 경우, 지지체의 이동은 유사하게 리소그래피 장치의 베이스 프레임 상에 외란력(disturbing force)을 야기할 수 있다. 밸런스 매스의 밸런싱 효과가 없으므로 베이스 프레임 상의 외란력이 더 심할 수 있다.
지지체의 정확한 위치설정을 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 리소그래피 장치는:
상기 리소그래피 장치의 지지 구조를 형성하도록 구성된 베이스 프레임,
지면 상에 상기 베이스 프레임을 지지하도록 구성되며, 상기 베이스 프레임 상에 수평 방향의 힘을 가하도록 구성된 액추에이터를 포함하는 능동 베이스 프레임 지지체
를 포함하고,
상기 리소그래피 장치는,
상기 액추에이터를 구동시키도록 구성된 제어 디바이스를 더 포함하고, 신호는 상기 제어 디바이스에 제공되는 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내고, 상기 제어 디바이스는 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호에 기초하여 상기 액추에이터를 구동하도록 구성된다.
본 발명의 실시 예는 대응하는 참조 부호가 상응하는 부분을 나타내는 첨부된 개략적인 도면을 참조하여 단지 예로서 설명될 것이다.
도 1은 본 발명이 구현될 수 있는 리소그래피 장치를 도시한다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 리소그래피 장치에서 사용하기 위한 능동 베이스 프레임 지지부의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 리소그래피 장치의 일부의 매우 개략적인 측면도를 도시한다.
도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 리소그래피 장치의 일부의 매우 개략적인 측면도를 도시한다.
도 5a 내지도 5c는 도 3을 참조하여 기술된 바와 같은 본 발명의 실시 예의 효과를 설명하기위한 베이스 프레임 진동의 시간 다이아그램을 도시한다.
도 1은 리소그래피 장치(LA)를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 DUV 방사선)을 컨디셔닝(condition)하도록 구성되는 조명 시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정기(PM)에 연결되는 패터닝 디바이스 지지체 또는 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 각각 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정기(PW)에 각각 연결되는 2 개의 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WTa 및 WTb); 및 기판(W)의 (예를 들어, 1 이상의 다이를 포함하는) 타겟부(C) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성되는 투영 시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형, 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 타입의 광학 구성요소들, 또는 여하한의 그 조합과 같은 다양한 타입들의 광학 구성요소들을 포함할 수 있다.
마스크 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 지지, 즉 그 무게를 안게된다. 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 마스크 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 마스크 지지 구조체는, 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동가능할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 마스크 지지 구조체는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는 데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature)들 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부 내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스 내의 특정 기능 층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이, 및 프로그램가능한 LCD 패널들을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형과 같은 마스크 타입, 및 다양한 하이브리드(hybrid) 마스크 타입들을 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 침지 액체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭(catadioptric), 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템, 또는 여하한의 그 조합을 포함하는 여하한 타입의 투영 시스템을 포괄하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형으로 구성된다. 대안적으로, 상기 장치는 (예를 들어, 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성될 수 있다.
리소그래피 장치는 2 개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블(및/또는 2 이상의 마스크 테이블)을 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 1 이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계들이 수행될 수 있다.
또한, 리소그래피 장치는 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위해서, 기판의 전체 또는 일부분이 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체, 예컨대 물로 덮일 수 있는 형태로도 구성될 수 있다. 또한, 침지 액체는 리소그래피 장치 내의 다른 공간들, 예를 들어 마스크와 투영 시스템 사이에도 적용될 수 있다. 침지 기술은 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)를 증가시키는 기술로 당업계에 잘 알려져 있다. 본 명세서에서 사용되는 "침지"라는 용어는 기판과 같은 구조체가 액체 내에 담겨야 함을 의미하는 것이라기보다는, 노광 시 액체가 투영 시스템과 기판 사이에 놓이기만 하면 된다는 것을 의미한다.
도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 소스가 엑시머 레이저(excimer laser)인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고도 칭해질 수 있다.
일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면 내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터는 방사선 빔의 단면에 원하는 균일성(uniformity) 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는 데 사용될 수 있다.
방사선 빔(B)은 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 상기 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 가로질렀으면, 상기 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하며, 이는 기판(W)의 타겟부(C) 상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서(IF)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 리니어 인코더, 2-D 인코더 또는 용량성 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 (도 1에 명확히 도시되지 않은) 또 다른 위치 센서는, 예를 들어 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는 데 사용될 수 있다. 일반적으로, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)의 이동은 장-행정 모듈(long-stroke module: 개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module: 미세 위치설정)의 도움으로 실현될 수 있으며, 이는 제 1 위치설정기(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WT)의 이동은 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제 2 위치설정기(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)는 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크들(M1, M2) 및 기판 정렬 마크들(P1, P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들은 지정된(dedicated) 타겟부들을 차지하고 있지만, 그들은 타겟부들 사이의 공간들 내에 위치될 수도 있다[이들은 스크라이브-레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)들로 알려져 있음]. 이와 유사하게, 마스크(MA) 상에 1 이상의 다이가 제공되는 상황들에서, 마스크 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 1 이상에서 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여된 전체 패턴은 한번에 타겟부(C) 상에 투영된다[즉, 단일 정적 노광(single static exposure)]. 그 후, 기판 테이블(WT)은 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광 시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.
2. 스캔 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다[즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)]. 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광 시 타겟부의 (스캐닝 되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.
3. 또 다른 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)는 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안 기판 테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채택되며, 프로그램가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)의 매 이동 후, 또는 스캔 중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.
전술 한 바와 같이, 액추에이터는 밸런스 매스에 대해 지지체(기판 지지체 또는 패터닝 디바이스 지지체)를 이동시킨다. 지지부의 무게 중심이 밸런스 매스의 무게 중심으로부터 Z 방향으로 이격됨에 따라, 밸런스 매스 상의 결과적인 반발력이 밸런스 매스에 토크를 제공할 수 있다. 특히, 액추에이터에 의한 수평 방향의 힘, 예를 들어. X 방향 또는 Y 방향의 힘은 밸런스 매스의 X 방향과 Y 방향의 토크뿐만 아니라 반대 방향으로의 반발력을 제공한다.
밸런스 매스 상의 힘을 적어도 부분적으로 보상하는 솔루션이 능동 베이스 프레임 지지부의 형태로 고안되어져 왔다. 이에 따라, 지면에 대하여 베이스 프레임을지지하는 지지부에는 압전 액추에이터 또는 모터와 같은 임의의 다른 액추에이터와 같은 베이스 프레임 지지 액추에이터가 제공된다. 지지 액추에이터는 수직(Z) 방향으로 힘을 가하도록 구성된다. 따라서, 수평 방향으로 이동되는 지지의 결과로서 베이스 프레임 상으로의 토크는 보상될 수 있다: 베이스 프레임 지지 액추에이터가 X 방향으로 지지부 상에 힘을 가할 때, Ry 토크가 밸런스 매스 상에 작용한다. 베이스 프레임지지 액추에이터가 y 방향으로 지지부에 힘을 가하면, Rx 토크가 밸런스 매스에 가해진다.
밸런스 매스 상의 이러한 토크는 베이스 프레임 지지 액추에이터의 작동에 의해 적어도 부분적으로 보상될 수 있으며, 베이스 프레임의 일 측부에서의 상향 방향으로의 그리고 기부 프레임의 다른 측부에서 하향 방향으로의 수직 방향 힘의 작동은 적어도 부분적으로 보상 토크를 발생시킨다. 베이스 프레임 지지 액추에이터(들)는 적절한 제어 장치에 의해 구동될 수 있다. 수직력을 감지하도록 구성된 힘 센서가 베이스 프레임 지지체에 포함될 수있다. 압전 센서(piezo sensor) 또는 임의의 다른 힘 센서의 형태로 제공될 수 있다. 힘 센서의 출력 신호는 제어 장치에 제공될 수 있으며, 따라서 제어 장치는 (특히) 베이스 프레임 지지부 내 힘 센서의 출력 신호에 응답하여 베이스 프레임 지지 액추에이터를 구동하도록 구성될 수 있다.
도 2는 수직 베이스 프레임 지지 액추에이터(VBSA) 뿐만 아니라 수평 베이스 프레임 지지 액추에이터(HBSA)를 포함하는 능동 베이스 프레임 지지 액추에이터(ABSA)를 도시한다. 본 실시 예에서, 베이스 프레임 지지 액추에이터는 수직으로 적층된 압전 스택을 포함하고, 이는 하부에서 상부로 수직 압전 힘 센서(VBSS), 수직 압전 액추에이터(VBSA), 수평 압전 액추에이터(HBSA) 및 수평 압전 힘 센서(HBSS)를 포함한다. 수평 압전 엑츄에이터는 예를 들어 시어 피에조 엑츄에이터(sheer piezo actuator)일 수 있다. 따라서 수직 및 수평 감지 및 작동을 가능하게 하는 압전 스택이 제공된다. 수평 감지 및 작동은 X- 방향 또는 Y- 방향과 같은 단일 수평 방향으로 이루어질 수 있다. 또한, 이중 수평 압전 엑추에이터들 및 센서들을 제공함으로써 X 및 Y 모두에서 작동 및 감지가 제공될 수 있다. 수평 액추에이터와 수직 액추에이터, 즉 수평 액추에이터의 상부에 있는 수직 액추에이터가 서로 교환될 수 있음을 주목해야 한다. 수평 액추에이터와 수평 센서 사이에 기계적 디커플링이 제공되어 액추에이터에서 센서로의 크로스토크(cross talk)를 감소시킬 수 있다. 마찬가지로, 수직 액추에이터와 수직 센서 사이에 기계적 디커플링이 제공될 수 있다. 액추에이터 압전 소자 상의 힘이 최대값을 초과하여 압전 액추에이터를 과부하로부터 확실히 보호하기 위한 보호 기구가 제공될 수 있다.
도 3은 도 2를 참조하여 기술된 바와 같은 능동 베이스 프레임 지지부가 적용될 수 있는 실시 예를 도시한다. 도 3은 단 행정 액추에이터(SSA) 및 장 행정 액추에이터(LSA)에 의해 위치되는 기판 스테이지(즉, 기판 테이블)와 같은 스테이지를 도시하며, 각각은 평면 모터와 같은 모터에 의해 형성된다. 도 3은 장 행정 액추에이터의 가동 부분에서의 코일 및 그 고정 부분에서의 자석을 개략적으로 도시한다. 코일과 자석이 상호 교환되는 실시 예가 또한 적용될 수 있음을 주목한다. 장 행정 액추에이터의 고정부는 베이스 프레임(BF)에 의해 지지된다. 베이스 프레임은 리소그래피 장치의 지지 구조를 형성한다. 베이스 프레임은, 4개의 능동 베이스 프레임 지지체로서 각각 도 2에 도시되고 도 2를 참조하여 설명된 바와 같은, 능동 베이스 프레임 지지부(ABS)에 의해, (예를 들어 받침대 또는 지면 플로어(GF)에 의해 형성되는) 지면에 의해 지지된다. 본 실시 예가 기판 스테이지에 기초하고 있지만, (마스크 테이블과 같이) 패터닝 디바이스 또는 레티클 마스크를 지지하는 지지부와 같이 유사한 원리가 리소그래피 장치의 임의의 다른 이동부에 적용될 수 있다. 따라서, 이 예에서 스테이지, 기판 테이블 또는 웨이퍼 테이블에 대한 참조가 이루어지는 경우, 임의의 다른 지지가 또한 의도될 수 있음을 이해해야 한다.
수평 또는 수평 방향이라는 용어는 수평면, 일반적으로 접지면에 평행한 면인 수평면에서의 방향을 의미한다. 마찬가지로, 수직 또는 수직 방향이라는 용어는 수평면에 직교하는 방향을 말하며, 그에 따라 수평 방향에 직교한다. 일 실시 예에서, 힘 센서가 측정하는 능동 베이스 프레임 액추에이터가 각각 작동하는 수평 방향은 Y 방향으로 정의될 수 있는 리소그래피 장치의 스캐닝 방향이다.
도 3은 제어 디바이스(C)를 더욱 개략적으로 도시한다. 제어 디바이스에는 베이스 프레임에 외란 력을 나타내는 신호가 제공된다. 제어 장치의 구동 출력은 외란 력을 나타내는 신호에 응답하여 능동 베이스 프레임 지지 액추에이터를 구동한다. 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 신호는 수평 외란 력과 같은 외란 력을 나타낼 수 있다. 외란 력을 나타내는 신호의 많은 실시 예가 이하에서 보다 상세히 설명되는 바와 같이 제공된다. 예를 들어, 이하에서 보다 상세히 설명되는 바와 같이, 신호는 지지부의 세트 포인트 신호, 베이스 프레임 또는 능동 베이스 프레임 지지부 상의 힘 센서의 힘 센서 신호, 베이스 프레임 상의 가속도계 또는 지면 또는 받침대에 제공되는 가속도계에 의해 제공되는 가속 신호 등에 의해 형성될 수 있다. 기술된 바와 같은 신호들의 임의의 조합이 제어 디바이스에 제공되어 신호들의 조합에 기초한 제어 디바이스에 의해 액추에이터의 구동을 제공할 수 있다.
일 실시 예에서, 능동 베이스 프레임 지지부의 힘 센서로부터의 출력 신호가 힘 신호 입력부(FSI)에서 제어 디바이스에 제공된다. 능동 베이스 프레임 지지부의 힘 센서는 능동 베이스 프레임 지지부에서 감지된 외란에 대한 정보를 제어 디바이스에 제공한다. 제어 디바이스의 구동 출력은 Z 방향 액추에이터 및/또는 수평 액추에이터와 같은 능동 베이스 프레임 지지 액추에이터를 구동한다. 능동 베이스 프레임 지지부에서의 수평력 센싱은, 수평 액추에이터를 경유하여 능동 베이스 프레임 지지부의 수평 액추에이터와 결합되어 수평 방향의 공진을 감쇠시킨다. 이러한 능동 베이스 프레임 지지체의 다수를 사용하여, 예를 들어 베이스 프레임의 모서리 또는 에지 각각에 이러한 능동 베이스 프레임 지지체 4 개를 지원하면 수직 방향을 중심으로 한 회전이 마찬가지로 상쇠(counteract)될 수 있다. 힘 센서는 능동 베이스 프레임 지지체, 베이스 프레임 또는 기타에 제공될 수 있다.
일 실시 예에서,도 2를 참조하여 기술된 능동 베이스 프레임 지지부의 실시 예를 참조하면, 수직 힘 센서 및 수평 힘 센서로부터의 출력 신호 모두가 제어 장치에 제공된다. 따라서, 수평 및 수직 액추에이터를 경유하여 능동 베이스 프레임 지지체의 수평 및 수직 구동부에 결합된 능동 베이스 프레임 지지체에서의 수평 및 수직 힘 감지의 조합은, 수직 및 수평 방향의 공진 뿐만 아니라 이들 방향을 중심으로 한 회전 또한 감쇠시킬 수 있다.
능동 베이스 프레임이 여러 개 지원되는 경우, 네 개의 능동 베이스 프레임 지지 시스템 모두에 대해 하나의 컨트롤러가 제공될 수 있다. 이 컨트롤러는 모든 ABS로부터의 힘 센서 입력, 하나 이상의 가속도계로부터의 가속 신호 및 스테이지 세트포인트 정보를 수신하고 출력 신호를 다중 능동 베이스 프레임 지지부의 액추에이터 쪽으로 분배한다.
또한, 제어 디바이스는, 제어 디바이스가 지지체의 원하는 위치, 속도 및 가속도에 관한 정보를 이로부터 유도할 수 있도록 하는 세트포인트 입력부(SPI)에서 지지체의 세트포인트를을 제공할 수 있다. 따라서 지지체의 세트포인트는은 피드 포워드 신호로 사용되며, 이에 따라 지지체의 세트포인트는은 지지체의 이동, 가속 등에 의한 베이스 프레임의 외란에 대한 정보를 제공한다.
제어 디바이스로의 추가 입력 신호는 베이스 프레임 상의 가속 센서에 의해 제공될 수 있다. 가속 센서 입력(ASI)에서 가속 센서에 의해 제공된 가속 신호는 베이스 프레임의 진동에 대한 정보를 제공할 수 있다. 예를 들어, 각각의 가속도계가 능동 베이스 프레임 지지체들 각각에 근접하여 베이스 프레임 상에 제공될 수 있다. 기본 프레임의 각 가장자리 또는 모서리에서 4 개의 능동 베이스 프레임 지지체를 사용하여 4 개의 가속도계가 제공될 수 있으며 각 가속도계는 가장자리 또는 모서리 중 하나에 각각 제공된다. 다중 가속도계를 사용하여, 제어 디바이스에 의하여 베이스 프레임의 공진 모드, 굽힘 모드, 비틀림 모드 등의 여기(excitation)에 대한 정보가 고려될 수 있다. 가속도계는 각각의 능동 베이스 프레임 지지부에 근접한 베이스 프레임 상에 위치되어, 베이스 프레임 지지부 부근에서 베이스 프레임에 가해지는 가속도 수치에 가능한 한 가깝게 관련되는 제어 디바이스에 가속 신호를 제공함에 의하여 보다 정확한 제어가 가능하게 된다. 가속도계의 수가 4보다 높을 수 있으며, 특히 또한 수평 방향들이나 다양한 공진 모드 또는 비틀림 모드가 측정될 필요가 있는 경우에는 더욱 그러하다.
상술한 입력을 사용하여, 피드 포워드 및 피드백의 조합이 제공될 수 있으며, 이에 의해 지지 세트포인트는은 피드 포워드 입력 신호를 형성하는 한편, 가속 및 힘 센서 신호는 피드백 입력 신호를 제공하고, 피드 포워드 및 피드백의 조합은 피드백에 의한 정확성과 결합된 피드 포워드에 의해 지지 이동에 대한 빠른 응답을 제공한다.
도 4는 상술한 바와 같이 부가적인 센서가 시스템에 추가된 다른 실시 예를 도시한다. 베이스 프레임에 (외란) 힘을 나타내는 신호를 제공하는 몇 가지 가능한 추가 센서가 아래에서 설명된다.
제 1의 가능한 부가 센서는 공진하는 경향이 있는 리소그래피 장치의 구조체 (RES)에 또는 그 부근에 제공된 또 다른 가속도계와 같은 다른 가속도계(추가 가속도 센서 FAS)에 의해 제공될 수 있다. 예를 들어, 기판 스테이지 밸런스 매스와 같이 지지 밸런스 매스가 공진하는 경향이 있을 수 있다. 구조물 또는 그러한 구조물의 공진이 검출될 수 있는 위치에 가속 센서 또는 가속 센서들을 위치시키면, 능동 베이스 프레임 지지부를 이에 따라 작동시키도록 구성된 제어 디바이스에 의하여, 제어 디바이스에 제공된 가속도 센서 신호가 제어 디바이스로 하여금 베이스 프레임 상의 그러한 공진의 효과를 저감시킬 수 있도록 한다.
제 2의 가능한 부가 센서는 추가적인 힘 센서(FFS)의 형태, 예를 들어 프레임 연결을위한 지지체(예를 들어, 웨이퍼 스테이지 또는 레티클 스테이지) 내의 힘 센서의 형태로 제공될 수 있다. 힘 센서는 베이스 프레임을 향한 힘 경로에 위치될 수 있다. 힘 센서 신호는 힘 센서 입력에서 제어 디바이스에 제공된다. 제어 디바이스는 베이스 프레임 상의 힘의 효과를 적어도 부분적으로 보상하도록 능동 베이스 프레임 지지 액추에이터를 구동시킨다. 이들 센서는 예를 들어 베이스 프레임에 지지체(예를 들어, 스테이지 모듈)를 장착할 때 제공될 수 있다.
또 다른 부가 센서는 능동 베이스 프레임 지지부를 지지하는 지면 플로어 또는 받침대에 장착된 지면 가속도계(GFA)의 형태로 제공될 수 있다. 리소그래피 장치의 환경에서 다른 장치로부터의 진동과 같은 지면 플로어를 통해 전파하는 진동은 이러한 센서에 의해 검출될 수 있고, 베이스 프레임으로의 이러한 진동의 영향은, 지면 플로어 가속도계 입력에서 지면 플로어 가속도계 신호를 수신하고 검출된 진동을 적어도 부분적으로 보상하기 위해 능동 베이스 프레임 지지부를 구동시키는 제어 디바이스에 의해 적어도 부분적으로 상쇄될 수 있다. 따라서, 베이스 프레임으로의 그러한지면 플로어 진동의 전파가 크게 방지될 수 있다.
도 5a 내지 도 5c는 능동 베이스 프레임 지지 댐핑의 결과를 도시하며, 능동 베이스 프레임 지지부의 수평 및 수직 방향으로의 작동이 제공된다. 도 5a는 주파수의 함수로서 X 방향의 기본 프레임 위치의 주파수 스펙트럼을 도시하며, 도 5b는 주파수의 함수로서 Y 방향으로 베이스 프레임 위치의 주파수 스펙트럼을 도시하고, 도 5c는 주파수의 함수로서의 Z 방향의 기본 프레임 위치의 주파수 스펙트럼을 도시한다. 도 5a, 도 5b 및 도 5c는 각각, 능동 베이스 프레임 지지부가 없는 구성(1로 식별됨), 수직(Z) 방향으로 작동 및 감지를 갖는 능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 구성(2로 식별됨), 및 수직 (Z) 및 수평(이 예에서는 Y) 방향으로 작동 및 감지를 갖는 능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 구성(3으로 식별됨)을 도시한다. 이 예에서, 능동 베이스 프레임 지지부는, 지지 세트포인트로부터의으로부터의 피드 포워드 및 베이스 프레임 가속 센서와 능동 베이스 프레임 지지부 힘 센서로부터의 피드백의 조합에 의해 제어된다. 본 실시 예에서, 스테이지 이동 프로파일은 공진을 일으키는 여기(excitation)로서 적용된다.
도 5a, 도 5b 및 도 5c에서와 같이, 수동 베이스 프레임 지지부를 갖는 구성은 X, Y 및 Z 방향으로 어느 정도의 공진을 나타낸다. 수직 방향으로 작용하는 힘 센서와 결합하여 수직 방향으로 작용하는 베이스 프레임 지지부에 액추에이터가 있는 능동 구성은 X 방향 및 Z 방향의 공진이 감소하고 Y 방향의 공진이 유지된다는 것을 보여준다.
베이스 프레임 지지부에 더하여, Y 방향으로의 작동과 Y 방향의 베이스 프레임 지지부에서의 해당 힘의 측정은 도 5b에서와 같이 Y 방향의 공진을 감소시킨다.
베이스 프레임의 공진은 수직 및 수평(예, Y) 방향으로 작동 및 감지된 능동 베이스 프레임 지지부를 갖는 구성에 의해 감소될 수 있기 때문에, 베이스 프레임의 보다 안정된 위치 설정이 제공될 수 있으며, 이는 작동시에 지지부 상에 가해지는 외란이 줄어드는 결과가 되어, 지지부의 보다 정확한 위치 설정의 결과가 된다. 지지부의 보다 정확한 위치 설정은 리소그래피 프로세스에서 오버레이 에러를 덜 일으킬 수 있다.
앞서 설명된 원리는 모든 지지부에 적용될 수 있다. 예를 들어, 지지부는 기판 테이블에 의해 형성될 수 있다. 또한, 지지부는 마스크 테이블과 같은 패터닝 디바이스의 지지부에 의해 형성될 수 있다. 또한, 지지부는 레티클 마스크에 의해 형성될 수 있다. 일반적으로, 본 명세서에 설명된 기술을 사용하여, 베이스 프레임 상에 작용하는 외란 력은 크게 보상될 수 있다. 외란 력은 가령 베이스 프레임에 토크를 발생시키는 리소그래피 투영 장치의 이동 부품으로부터 기인할 수 있다. 나아가, 지면 플로어를 통해 전파되는 외란, 리소그래피 장치의 다른 구조에서의 공진에 의해 야기되는 외란 등과 같은 다른 소스로부터의 외란은 여분의 센서를 사용하여 보상될 수 있다.
본 명세서에서는, IC 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같이 다른 적용들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판(W)은 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트 층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판(W)이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판(W)이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.
이상, 광학 리소그래피와 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 적용예들, 예를 들어 임프린트 리소그래피에 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면 광학 리소그래피로 제한되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스 내의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스(MA)의 토포그래피는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화되는 기판(W)에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있다. 패터닝 디바이스(MA)는 레지스트로부터 이동되며, 레지스트는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남긴다.
본 명세서에서 사용되는 "방사선” 및 "빔"이라는 용어는 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔뿐만 아니라, (예를 들어, 365, 248, 193, 157 또는 126 nm, 또는 그 정도의 파장을 갖는) 자외(UV) 방사선 및 (예를 들어, 5 내지 20 nm 범위의 파장을 갖는) 극자외(EUV) 방사선을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.
본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 형태의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합으로 언급될 수 있다.
본 발명의 특정 실시 예들이 상술되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 본 발명은 전술한 방법을 기술하는 기계 판독 가능 명령어의 하나 이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램 또는 저장된 이러한 컴퓨터 프로그램을 갖는 데이터 저장 매체(예를 들어 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크) 의 형태를 취할 수 있다.
앞선 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 아래에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수 있다는 것을 분명히 알 것이다.

Claims (14)

  1. 리소그래피 장치로서,
    상기 리소그래피 장치의 지지 구조를 형성하도록 구성된 베이스 프레임;
    지면 상에 상기 베이스 프레임을 지지하도록 구성되며, 상기 베이스 프레임 상에 수평 방향의 힘을 가하도록 구성된 액추에이터를 포함하는 능동 베이스 프레임 지지부
    를 포함하고, 상기 리소그래피 장치는,
    상기 액추에이터를 구동시키도록 구성된 제어 디바이스를 더 포함하고, 신호는 상기 제어 디바이스에 제공되는 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내고, 상기 제어 디바이스는 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호에 기초하여 상기 액추에이터를 구동하도록 구성되며,
    상기 능동 베이스 프레임 지지부에서의 수평 방향 힘 센싱은, 수평 액추에이터를 경유하여 능동 베이스 프레임 지지부의 수평 구동과 결합되어 수평 방향의 공진을 감쇠시키고,
    상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호는 상기 지지부의 세트포인트 신호를 포함하고, 상기 제어 디바이스는 세트포인트 입력을 포함하고, 상기 지지부의 상기 세트 포인트 신호는 상기 베이스 프레임의 상기 세트포인트 입력에 제공되며, 상기 제어 디바이스는 상기 세트포인트 신호에 기초하여 상기 액추에이터를 구동하도록 구성되는 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어 디바이스는 상기 지지부의 세트포인트를 피드 포워드 신호로서 사용하도록 구성되는 리소그래피 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 상기 베이스 프레임 상의 수평 힘을 측정하도록 구성된 수평 힘 센서를 더 포함하며, 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호는, 상기 수평 힘 센서의 수평 힘 센서 신호를 포함하고, 상기 제어 디바이스는 상기 수평 힘 센서의 수평 힘 센서 신호를 수신하도록 구성된 수평 힘 센서 입력을 포함하고, 상기 제어 디바이스는 수평 힘 센서 신호에 기초하여 액추에이터를 구동하도록 구성되는 리소그래피 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 수평 힘 센서는 상기 능동 베이스 프레임 지지부에 포함되는 것을 특징으로하는 리소그래피 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 프레임에는, 상기 베이스 프레임의 가속도를 감지하도록 구성된 가속도계가 제공되고, 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호는 상기 가속도계의 가속도계 신호를 포함하고, 상기 제어 디바이스는 가속도계 입력을 더 포함하며, 상기 가속도계의 가속도계 신호는 상기 가속도계 입력에 제공되고, 상기 제어 디바이스는 상기 가속도계 신호에 기초하여 액추에이터를 구동하도록 구성된 리소그래피 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 가속도계는 상기 능동 베이스 프레임 지지부 근처의 상기 베이스 프레임에 위치되는 리소그래피 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치의 구조체 또는 그 부근에 추가 가속도계를 더 포함하며, 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 신호는 상기 추가 가속도계의 출력 신호를 포함하고, 상기 제어 디바이스는 추가의 가속도계 입력을 포함하고, 상기 추가 가속도계의 출력 신호는 상기 제어 디바이스의 상기 추가 가속도계 입력에 제공되고, 상기 제어 디바이스는 상기 베이스 프레임 상의 구조체의 공진 효과를 감소시키기 위해 상기 추가 가속도계의 출력 신호에 응답하여 상기 액추에이터를 구동하도록 구성되는 리소그래피 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치의 이동 부분으로부터 상기 베이스 프레임으로의 힘 경로 내에 배치된 힘 센서를 더 포함하고, 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 신호는 상기 추가의 힘 센서의 출력 신호를 포함하고, 상기 추가의 힘 센서의 출력 신호는 상기 제어 디바이스의 추가의 힘 센서 입력에 제공되고, 상기 제어 디바이스는 상기 추가 힘 센서의 출력 신호에 응답하여 상기 액추에이터를 구동하여 상기 힘 경로를 따라 상기 베이스 프레임에 대한 상기 힘의 전파 효과를 감소시키도록 구성되는 리소그래피 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    지면은 지면 플로어에 의해 형성되고, 상기 리소그래피 장치는 상기 지면 플로어에 배치된 지면 플로어 가속도계를 더 포함하고, 상기 베이스 프레임 상의 힘을 나타내는 상기 신호는 상기 지면 플로어 가속도계의 출력 신호를 포함하고, 상기 제어 디바이스는 지면 플로어 가속도계 입력을 포함하고, 상기 지면 플로어 가속도계의 출력 신호는 상기 제어 디바이스의 지면 플로어 가속도계 입력에 제공되고, 상기 제어 디바이스는 상기 지면 플로어 가속도계의 출력 신호에 응답하여 상기 액추에이터를 구동하여 상기 지면 플로어를 통해 상기 베이스 프레임으로 전파되는 진동의 전파 효과를 감소시키도록 구성되는 리소그래피 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 상기 베이스 프레임 상의 수직력을 측정하도록 구성된 수직력 센서를 더 포함하고, 상기 제어 디바이스는 수직력 센서 입력을 포함하고, 상기 수직력 센서의 수직력 센서 신호가 상기 수직력 센서 입력에 제공되고, 상기 제어 디바이스는 상기 수직력 센서 신호를 사용하여 액추에이터를 구동하도록 구성된 리소그래피 장치.
  12. 제 1 항, 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지부는,
    패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체,
    상기 패터닝 디바이스의 일부를 마스킹하도록 구성된 마스킹 디바이스, 및
    기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블
    중 하나를 포함하는 리소그래피 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 능동 베이스 프레임 액추에이터의 수평 방향은 상기 기판 테이블의 스캐닝 동작의 스캐닝 방향인 리소그래피 장치.
  14. 제 1 항, 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 능동 베이스 프레임 지지부는 수평 및 수직 압전 액추에이터, 및 수평 및 수직 힘 센서의 스택을 포함하는 리소그래피 장치.
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