JP4922089B2 - 平面モータ駆動のサポートを有するリソグラフィ装置 - Google Patents
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Claims (7)
- パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために照明システムからの前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、第一のパターニングサポートと、
基板を保持するように構成された第一の基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達するように構成され、ベースと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記第一のパターニングサポートと前記第一の基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
を備え、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含み、
前記第二モータアセンブリが、
第一ガイドと、実質的に前記第一ガイドに対して直角に延在する第二ガイドと、
前記第一ガイドに沿って前記第二ガイドを動かすように構成された第一リニアモータと、前記第二ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、を備え、かつ、
前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方が第一側を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを備え、前記複数のアクチュエータの各々が前記追加のサポートと前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成され、
前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方は、前記第一側において前記複数のアクチュエータによる力が作用する部分とは異なる一又は複数の部分に、第二のパターニングサポートおよび第二の基板サポートのうちの一方が前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方と一緒に動かされるように当接して配置される部分を有し、更に、
前記線アセンブリの第一部分と前記追加のサポートとの間の第一のカップリング、前記線アセンブリの前記第二部分と前記追加のサポートとの間の第二のカップリング、及び、前記線アセンブリの前記第二部分と前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方との間の第三のカップリングの少なくともいずれかのカップリングが可撓性を有し、かつ、
前記第一のカップリング及び前記第二のカップリングが、前記追加のサポートの同じ面側において異なる位置に配置された、
リソグラフィ装置。 - 前記第一および第二モータアセンブリの各々がステータおよびムーバを備え、前記ステータまたは前記ムーバのうちの一方が1組のコイルを含み、前記ステータまたは前記ムーバの他方が1組の永久磁石を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一ガイドは、1組の平行なガイドであり、
前記第二ガイドは、前記1組の平行なガイドに対して直角に延在する横方向ガイドであり、
前記第一リニアモータは、前記1組の平行なガイドに沿って前記横方向ガイドを動かすように構成された1組のリニアモータであり、
前記第二リニアモータは、前記横方向ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成されたリニアモータである、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第一側が多面的な形状を有し、前記第二側が前記第一側の前記形状をなす少なくとも2つの部分に沿って少なくとも部分的に延在する少なくとも2つの部分を有し、前記複数のアクチュエータが前記第一側および第二側のうちの前記少なくとも2つの部分に沿って配置された、請求項1〜3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方が前記第一側を4つの辺で画定する全体的に長方形の形状を有する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記追加のサポートが前記第二側を4つの辺で画定する全体的に長方形の形状を有する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために照明システムからの前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、第一のパターニングサポートと、
基板を保持するように構成された第一の基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達するように構成され、フレームと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記第一のパターニングサポートと前記第一の基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
各々が前記追加のサポートと前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成された複数のアクチュエータと、を含み、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含み、
前記第二モータアセンブリが、
第一ガイドと、実質的に前記第一ガイドに対して直角に延在する第二ガイドと、
前記第一ガイドに沿って前記第二ガイドを動かすように構成された第一リニアモータと、
前記第二ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、を備え、かつ、
前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方は、前記第一側において前記複数のアクチュエータによる力が作用する部分とは異なる一又は複数の部分に、第二のパターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方が前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方と一緒に動かされるように当接して配置される部分を有し、更に、
前記線アセンブリの第一部分と前記追加のサポートとの間の第一のカップリング、前記線アセンブリの前記第二部分と前記追加のサポートとの間の第二のカップリング、及び、前記線アセンブリの前記第二部分と前記第一のパターニングサポートおよび前記第一の基板サポートのうちの前記一方との間の第三のカップリングの少なくともいずれかのカップリングが可撓性であり、かつ、
前記第一のカップリング及び前記第二のカップリングが、前記追加のサポートの同じ面側において異なる位置に配置された、
リソグラフィ装置。
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