JP2008034844A - 平面モータ駆動のサポートを有するリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。線アセンブリの第一部分はベースと追加のサポートとの間に延在し、第二部分は追加のサポートとパターニングサポートまたは基板サポートとの間に延在する。第一モータアセンブリは少なくとも1つの方向に力を発生して、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方に結合される。第二モータアセンブリは少なくとも1つの方向に力を発生して、追加のサポートに結合される。第一モータアセンブリは平面モータを含む。
【選択図】図3
Description
Claims (14)
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達するように構成され、ベースと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートと前記基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
を備え、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含む、
リソグラフィ装置。 - 前記第二モータアセンブリが平面モータを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一および第二モータアセンブリの各々がステータおよびムーバを備え、前記ステータまたは前記ムーバのうちの一方が1組のコイルを含み、前記ステータまたは前記ムーバの他方が1組の永久磁石を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第二モータアセンブリが、
第一ガイドと、
実質的に前記第一ガイドに対して直角に延在する第二ガイドと、
前記第一ガイドに沿って前記第二ガイドを動かすように構成された第一リニアモータと、
前記第二ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、
を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第二モータアセンブリが、
1組の平行なガイドと、
実質的に前記1組の平行なガイドに対して直角に延在する横方向ガイドと、
前記1組の平行なガイドに沿って前記横方向ガイドを動かすように構成された1組の第一リニアモータと、
前記横方向ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、
を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が第一側を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを備え、前記複数のアクチュエータの各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が複数の第一側を画定する概ね多面的な形状を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側の少なくとも2つに沿って少なくとも部分的に延在する少なくとも2つの第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側のうちの前記少なくとも2つに沿って配置された複数のアクチュエータを備え、前記複数のアクチュエータの各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が4つの第一側を画定する全体的に長方形の形状を有する、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記追加のサポートが4つの第二側を有する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記線アセンブリの第一部分と前記追加のサポートとの間のカップリングが可撓性である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記線アセンブリの前記第二部分と前記追加のサポートとの間のカップリングが可撓性である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記線アセンブリの前記第二部分と前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間のカップリングが可撓性である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニング装置はパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達するように構成され、ベースと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの少なくとも1つとの間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
を備え、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含み、
前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が第一側を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを備え、各アクチュエータが前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に力を発生するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達するように構成され、フレームと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートと前記基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも1つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成された複数のアクチュエータと、を含み、
前記第一モータアセンブリが平面モータからなる、
リソグラフィ装置。
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