JP4157511B2 - リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
放射投影ビーム(例えば、UV放射)PBを提供する照明システム(照明器)ILと、
パターン化手段(例えばマスク)MAを支持し、要素PLに対してパターン化手段を正確に位置決めする第1位置決め手段PMに連結された第1支持構造(例えばマスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジストを被覆したウエハ)Wを保持し、要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2位置決め手段PWに連結された基板テーブル(例えばウエハ・テーブル)WTと、
基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)目標部分C上に、パターン化手段MAによって投影ビームPBに付与されたパターンを結像する投影システム(例えば屈折型投影レンズ)PLとを備える。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは本質的に固定したまま、目標部分C上に投影ビームに付与されたパターン全体を1回で(すなわち1回の静止露光で)投影する。次いで、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に移動して、異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードでは、露光領域の最大サイズが、1回の静止露光で画像形成される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャン・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期して走査され、投影ビームに付与されたパターンが目標部分C上に投影される(すなわち、1回の動的な露光)。マスク・テーブルMTに対する相対的な基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び像の反転特性によって決まる。スキャン・モードでは、露光領域の最大サイズが、1回の動的な露光における目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動長により、目標部分の(走査方向の)高さが決まる。
3.別のモードでは、プログラム可能なパターン化手段を保持するマスク・テーブルMTが本質的に固定され、基板テーブルWTが移動すなわち走査され、目標部分C上に投影ビームに付与されたパターンが投影される。一般に、このモードでは、パルス化された放射源を用い、基板テーブルWTの各移動動作後に、又は走査中に連続放射パルス間で、プログラム可能なパターン化手段が必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で言及したタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン化手段を利用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
2 平面ベース
3 移動可能ステージ
4 計測ビーム
5 下側部分
6 上側部分
7 エア・シャワー
8 ポンプ
9 乱流
10 ガス・チャネル
11 エア・ポンプ
12 冷却・浄化装置
13 磁気平面モータ
14 磁石要素
15 電流導線
16 コイル
17 水冷ダクト
18 ステージ表面
19 干渉計
20 ポンプ
21 第2ポンプ
22 バルブ
23 ポンプ
AM 調節手段
BD ビーム送達システム
C 目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム
IN 統合器
MA パターン化手段
MT 第1支持構造
M1 マスク位置合わせマーク
M2 マスク位置合わせマーク
PB 放射投影ビーム
PL 投影システム
PM 第1位置決め手段
PW 第2位置決め手段
P1 基板位置合わせマーク
P2 基板位置合わせマーク
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (12)
- リソグラフィ投影機器であって、
放射投影ビームを提供する放射システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第1支持構造と、
基板を支持する第2支持構造と、
前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影する投影システムとを備え、
前記第1及び第2支持構造の少なくとも一方が、
平面ベースと、
前記パターン化手段又は前記基板を支持し、該平面ベースの上を移動することができる移動可能なステージと、
該ステージの動きを与えるアクチュエータと、を備え、
このリソグラフィ投影機器が、
前記ステージの位置計測を実施する非接触位置計測装置と、
前記計測装置と前記ステージとの間にガスを供給して前記位置計測を改善する第1ポンプと、
前記ベース内に設けられた複数のガス・チャネルと、
前記ガス・チャネルに連結され、該複数のガス・チャネルから前記ガスを吸引する第2ポンプと、をさらに備え、
前記第1ポンプから供給される前記ガスが前記ガス・チャネルを介して前記第2ポンプに吸引されるよう前記ガスの容量が調整されており、
それによって、該ベース内のガス・チャネルを通るガス流路が形成されることを特徴とする、機器。 - 前記ステージが、該ステージと前記ベースの間からガスを除去する第3ポンプを備える、請求項1に記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記ステージと前記ベースの間で、該ベース上の該ステージの最大速度よりも大きいガス流速度を与えるように、前記ガス・チャネルの流れ抵抗および前記第2ポンプの吸引圧が設定される、請求項1または2に記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記ベース内のガス・チャネルが、前記第3ポンプの吸気により閉じるように構成されたバルブを備える、請求項2に記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記ガス・チャネルが、前記平面ベースのほぼ全体にわたって規則的なパターンで設けられる、請求項1から4までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
- 閉ループのエア・シャワーが得られるように前記第1ポンプおよび前記第2ポンプを連結する、請求項1から5までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記ベース及び前記ステージが閉じた環境内に収容され、冷却及び/又は浄化装置が、前記第1ポンプおよび前記第2ポンプの間に連結される、請求項6に記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記ガス流路が前記ベースに直交する向きである、請求項1から7までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記計測装置が、前記ベースに平行な計測ビームを提供する干渉計である、請求項1から8までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記アクチュエータが平面電磁モータを備える、請求項1から9までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記平面磁気モータが、
前記ベースに連結された固定子と、
該固定子に対して相対的に移動可能であり、且つ電磁力により前記ステージを移動させるために該ステージに連結された可動子とを備え、
前記固定子及び前記可動子の少なくとも1つが、グリッド状の磁石及び/又は電気配線を備え、前記ガス・チャネルが前記グリッドのあらかじめ選択されたコーナに設けられる、請求項10に記載のリソグラフィ投影機器。 - 前記ステージが、該ステージと前記ベースの間にエア・ベアリングを設けるために別のポンプを備える、請求項1から11までのいずれかに記載のリソグラフィ投影機器。
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