JP3013837B2 - ステージ位置計測装置およびその計測方法 - Google Patents

ステージ位置計測装置およびその計測方法

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JP3013837B2
JP3013837B2 JP10116907A JP11690798A JP3013837B2 JP 3013837 B2 JP3013837 B2 JP 3013837B2 JP 10116907 A JP10116907 A JP 10116907A JP 11690798 A JP11690798 A JP 11690798A JP 3013837 B2 JP3013837 B2 JP 3013837B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ステッパ等の露光
装置のステージの位置を計測するステージ位置計測装置
およびその計測方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路製造用の露光装
置では、通常二次元移動するステージの位置計測の手段
としてレーザ干渉計が使用されている。このレーザ干渉
計を利用したステージ等の位置計測装置は、使用してい
るレーザ光の波長が距離計測の基準となっている。この
距離基準となるレーザ光の波長の長さは、そのレーザ光
が伝播する媒質の屈折率によって変化する。ステッパ等
の露光装置のステージ位置計測に使用されるレーザ干渉
計の場合、レーザ光が伝播する媒質は空気であり、その
屈折率は大気圧変化及び温度変化などによって変化す
る。従って、ステッパなどに使用されている高精度を要
求されるレーザ干渉計においては、通常大気圧センサに
より気圧変化をモニタし、大気圧変化による波長変化が
原因となる計測誤差分を補正している。
【0003】しかし、気圧センサや温度センサなどによ
る計測誤差補正のみでは、レーザ干渉計の光路中の局所
的な温度、気圧変化による計測値のゆらぎは完全に補正
することは不可能である。さらに、このレーザ干渉計の
光路中の空気のゆらぎによる計測誤差は光路長が長くな
るにつれ増大する。また、レーザ干渉計の光路長はステ
ージの可動ストロークに応じて長さが必要となるため、
今後ウェハの大口径化が進みステージの可動ストローク
が伸びると、更にレーザ干渉計の光路の空気ゆらぎの影
響が深刻となる。
【0004】より具体的な従来例として、ステッパ等の
露光装置のステージ位置計測に使用されるレーザ干渉計
の場合を、図4(a)(b)の基本構成を示すXY平面
図および図5のウェハステージ部分のXZ軸の模式的側
面図により説明する。この露光装置は、図4のように、
ステージ定盤2上に設けたX方向Y方向の可動(ウェ
ハ)ステージ3,4の上にウェハ5が載置され、このウ
ェハ5を位置調整してレチクルパターンが転写される所
定照射点(9)に光学系1から照射を行い露光が実施さ
れる。この際の各可動ステージ3,4の位置決めは、X
Y軸の二系統のレーザ干渉計11,13により行われ
る。これらレーザ干渉計11,13のレーザ光路の交点
9が、露光系の照射点となるが、レーザ干渉計11,1
3と可動ステージ3,4との間の距離計測は、可動ステ
ージ3,4の端部に固定された移動鏡15,17との間
で計測される。
【0005】このウェハステージ可動機構は、ステージ
定盤2と、このステージ定盤2上をX方向に移動可能な
X方向可動ステージ4と、Y方向に移動可能なY方向可
動ステージ3とにより構成され,この構造によりウェハ
5がステージ定盤2上のX―Y平面を自由に移動可能と
なっている。このウェハステージ上のウェハ位置は,レ
ーザ干渉計11,13により常時位置計測されている。
【0006】次に、レーザ干渉計によるステージ位置計
測の方法の詳細な説明をする。ウェハステージ可動機構
は、図5に示すように、レーザ干渉計11から射出され
たレーザ光は、ビームスプリッタ7により2本のビーム
に分割され、一方のビームは反射鏡8を介して光学系1
の投影レンズに固定された固定鏡6に投射され、もう一
方のビームはステージ4に固定された移動鏡15に投射
される。またこの移動鏡15は、X方向可動ステージ4
の一端に設けられており、可動ステージ4のステージX
方向位置の基準となる。なお、図5には、レーザ干渉計
の光路に温調した空気20を吹き出す温度調節機構10
も示されている。
【0007】このレーザ干渉計によるステージ位置計測
において、図4(a)の場合には、照射点9にくるレチ
クルパターンをウェハ5の右下に転写しているが、レー
ザ干渉計11,13の光路長は短く、これら光路の空気
ゆらぎによる影響は少ないため、ステージの位置決め精
度が良好に測定できる。
【0008】一方、図4(b)に示すように、照射点9
にくるレチクルパターンをウェハ5の左上に転写する場
合には、レーザ干渉計11,13の光路長は最大とな
り、この状態でのステージ位置決め精度は、図4(a)
の状態と比較して悪化し、重ね合わせ露光をする場合に
問題となる。すなわち、従来例では、ウェハ右下露光時
(図4(a))の場合、X方向Y方向共にレーザ干渉計
の光路長は短く計測誤差は少ないが、ウェハ左上露光時
(図4(b))の場合、X方向Y方向共にレーザ干渉計
の光路長は長く、光路中の空気の屈折率変化の影響を受
けやすいためステージ位置計測誤差は(図4(a))と
比べ増大する。
【0009】この問題の対策としては、図5に示す従来
例のように、レーザ干渉計の光路に温調された気体の調
温空気20を温度調節機構10により吹き付けることに
より、レーザ光路中のゆらぎを低減する方法がある。さ
らに、この方法を発展させたものとして、例えば特開平
5−283313号公報(以下従来例1という)では、
対固定鏡の光路と対移動鏡の光路の各々にカバーを設
け、さらに対移動鏡の光路用のカバーはステージに追従
してスライドする機構として、伸縮する光路を完全にカ
バーし、かつそのカバー内に温調気体を供給することに
より光路の空調効果を向上させたものもある。
【0010】また、空気ゆらぎ低減対策のもう一つの例
として特開平6−109417号公報(以下従来例2と
いう)では、レーザ光を固定鏡に投射するビームと移動
鏡に投射するビームとを分割する光学系(7,8)をス
テージに追従し移動させて対移動鏡の光路Aを最小に保
ち,光路上の空気ゆらぎの影響を低減しているものもあ
る。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来例のレー
ザ干渉計11は、レーザの波長を基準としてステージ位
置計測を行っているため、ビーム光路の空気ゆらぎ(屈
折率の変化)によって計測誤差が生じる。このため一般
には、レーザ干渉計はビームの光路長が長くなるほどゆ
らぎの影響による計測誤差は増大し、位置計測精度を向
上させることは困難となる。
【0012】このために従来例のうち、光路を空調する
タイプの例では、光路長がステージ位置により変化する
対移動鏡の光路を完全に空調する事は難しく、また従来
例1のように移動鏡に追従して光路に空調のカバーを可
動式にした例では、光路を覆うカバーが動くことによ
り、カバー内の空気に乱流が生じるという問題も考えら
れる。また、光学系7,8を可動式とした例では、対移
動鏡の光路Aを縮めることにより,空気ゆらぎの影響を
抑えることはできるが、光学系を可動式とすることはレ
ーザ干渉計の安定性や信頼性を考慮すると好ましいこと
ではない。
【0013】以上の従来例の問題点は、ステージ(移動
鏡)が、レーザ干渉計から離れた際の長い光路長におい
て問題となる空気ゆらぎの影響にあり、この空気ゆらぎ
の影響を抑えようとすることが課題となる。
【0014】本発明の目的は、一軸方向の位置計測に対
向する二組のレーザ干渉計を使用することにより、光学
系に特別な可動機構を持たせることなく対移動鏡の光路
長を縮め、位置計測の精度を向上させたステージ位置計
測装置およびその計測方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明のステージ位置計
測装置の構成は、可動軸方向の位置を可変できる可動ス
テージと、この可動ステージの位置を計測するように前
記可動軸上に対向して設けられた1対のレーザ干渉計
と、この1対のレーザ干渉計で計測された前記可動ステ
ージの光路のうち短い方のレーザ干渉計の計測出力を選
択して出力する選択手段とを備えたことを特徴とする。
【0016】また、1対のレーザ干渉計が、前記可動ス
テージの直交する可動軸上にそれぞれ設けられ、選択手
段が、前記各対のレーザ干渉計の計測出力をそれぞれ選
択するようにすることもでき、また各レーザ干渉計は、
前記各可動ステージ上にそれぞれ固定された各移動鏡に
よる反射光により前記各可動ステージとの間の距離を計
測するものとすることができ、選択手段は、前記各レー
ザ干渉計の位置計測データ出力を用いて、データの単位
時間当りのデータばらつきの少ない方のデータを選択す
るものでよく、さらに各レーザ干渉計の光路に一定の温
度に温調された気体を吹き付ける温調機構を設けるよう
にしてもよい。
【0017】また、本発明のステージ位置計測方法の構
成は、可動ステージ上で直交する可動軸上に対向して設
けた2対のレーザ干渉計の計測出力のうち光路の短い方
の計測出力を選択してステージ位置の計測をそれぞれ行
うことを特徴とし、また各レーザ干渉計の光路に一定の
温度に温調された気体を吹き付けながら前記可動ステー
ジの位置計測を行うこともできる。
【0018】
【発明の実施の形態】次に本発明を図面により詳細に説
明する。図1(a)(b)は本発明の一実施形態のステ
ッパ等の露光装置のの計測系の基本構成を説明するXY
平面図、図2は本実施形態を説明するウェハステージ部
分のXZ側面図である。図において、2はステージ定
盤、3,4はそれぞれY方向X方向可動ステージ、5は
ウェハであり、6,6aは光学系1の投影レンズに固定
された固定鏡、7,7aはビームスプリッタ、8,8a
は反射鏡であり、11〜14はレーザ干渉計、15〜1
8は可動ステージ3,4に固定された移動鏡である。
【0019】本実施形態では、従来一方向の位置計測に
つき1台づつレーザ干渉計11、13を設置していたも
のを、図1のように、可動ステージ3,4の相対する二
辺にそれぞれ1台ずつ(一方向の位置計測につき2台)
のレーザ干渉計11,12((X軸)、13,14(Y
軸)を設けて計測するようにしたものである。従って、
各光学系(6,6a、7,7a、8,8a、15,1
6)、計測系も2組づつ必要となる。
【0020】本実施形態において、X軸の1対のレーザ
干渉計11,12から出たビームは、可動ステージ3上
に設けられた移動鏡15,16に投射されると共に、ま
た光路の途中のビームスプリッタ7,7aで分割された
もう一方のビームは反射鏡8,8aを介して投影光学系
1の下部に固定された固定鏡6,6aに投射される。ま
た移動鏡15,16と固定鏡6,6aから戻ったビーム
は、ビームスプリッタ7,7aで再び合成され干渉させ
られ、その干渉縞の移動鏡15,16の移動に伴う変化
を検出することによってステージと投影光学系との相対
位置変化が計測される。
【0021】図2において、右方向へステージが移動す
る場合、左側レーザ干渉計11の光路長Aが長く、右側
レーザ干渉計12の光路長Bは短くなる。この場合、光
路長A<Bのときには、左側レーザ干渉計11によりス
テージ位置の計測を行い、光路長A>Bのときには、右
側レーザ干渉計12によりステージ位置の計測を行うよ
うにする。つまり、ステージ位置の計測を行う場合に、
光路長の短くなる方のレーザ干渉計を選択することによ
って、レーザ干渉計の光路長が伸びることを防ぎ、光路
長内の空気ゆらぎの影響による計測誤差を軽減してい
る。
【0022】図1を参照すると、ウェハステージ可動機
構は、ステージ定盤2とこのステージ定盤2上をX方向
に移動可能なX方向可動ステージ4と,Y方向に移動可
能なY方向可動ステージ3とにより構成されている。こ
の構造により、ウェハ5がステージ定盤2上のX―Y平
面を自由に移動可能となっている。また、このウェハス
テージ上のウェハ5の位置は、レーザ干渉計11〜14
により常時位置計測されている。
【0023】次に、レーザ干渉計によるステージ位置計
測の方法の詳細な説明をする。まずレーザ干渉計11の
動作の例をあげると、図2に示すように、レーザ干渉計
11から射出されたレーザ光は、ビームスプリッタ7に
より2本のビームに分割され一方は投影レンズ(光学
系)1に固定された固定鏡6に投射され、もう一方のビ
ームはステージ4に固定された移動鏡15に投射され
る。またこの移動鏡15はX方向可動ステージ4ととも
に移動することによりステージX方向位置の基準とな
る。
【0024】これら移動鏡15〜18の構造は,図1に
示すように、X方向位置計測基準となる移動鏡15,1
6はY方向に細長く、Y方向位置計測基準となる移動鏡
17,18はX方向に細長い形状となっている。
【0025】なお、図2において、固定鏡6及び移動鏡
15のそれぞれに反射して戻ったビームは、ビームスプ
リッタ7により再び合成される。この合成された干渉ビ
ームはレーザ干渉計11へ戻る。レーザ干渉計11は干
渉ビームを受光する(図示されない)光電検出器を備え
ており、干渉ビームにより固定鏡6と移動鏡15との相
対距離を算出する。レーザ干渉計によって算出された可
動ステージ位置情報は、図示されないステージ駆動機構
制御部へ渡され、ステージ駆動機構はレーザ干渉計から
の位置情報を基に可動ステージを目標位置まで移動させ
る。以上はレーザ干渉計11の構成であるが、これと同
様構成のステージ位置計測機構が、図1(a)(b)に
示すように、可動ステージ3,4の四辺にそれぞれ設け
られたレーザ干渉計12〜14にもあることになる。
【0026】次に、このレーザ干渉計の動作の説明をす
る。レーザ干渉計は、図1(a)(b)に示すように、
可動ステージ3,4の四辺にそれぞれ設けられており、
可動ステージ3,4のX方向位置計測にはレーザ干渉計
11,12が使用され、Y方向位置計測にはレーザ干渉
計13,14が使用される。
【0027】ここで可動ステージのX方向位置計測の動
作の例を、図2を参照して詳細に説明する。Xステージ
4の位置は、レーザ干渉計11,12により移動鏡1
5,16の位置として計測される。レーザ干渉計は干渉
計に使用しているレーザ光の波長を基準として測定して
いるため、一般にA,Bで示されるレーザ光路A,Bの
中の空気の温度変化や気圧変化による空気の屈折率変化
によって計測誤差が生じる。当然この光路中の屈折率変
化による計測誤差は光路長が長くなるにつれ増大する。
【0028】図2のX方向位置計測のレーザ干渉計1
1,12の構成では、これらが同軸上に配置されている
ため、A+B=一定の関係となり、ステージの位置によ
り光路長AとBの距離関係が決まる。そこでレーザ干渉
計11,12おのおのの光路長A,Bを比較し、ステー
ジ位置計測には光路長の短い方の干渉計の出力を使用す
る。A>Bの場合にはXレーザ干渉計11の出力に基づ
いてステージのX方向の位置決めを行い、B>Aの場合
にはXレーザ干渉計の出力に基づいてステージのX方向
の位置決めを行う。このように一軸方向の位置計測に二
系統設置したレーザ干渉計をその光路長によって選択使
用することにより、一軸方向に一系統のみのレーザ干渉
計を設置した構成に比べ最大光路長を1/2に抑えるこ
とが可能となる。
【0029】本実施形態の構成において、図1(a)の
ように、ウェハ5の左上の照射点9の露光を行う場合に
は、ステージ位置の計測に光路長の短いレーザ干渉計1
1,13を選択使用することによって光路長は短く抑え
られ、図1(b)のように、ウェハ5の右下の照射点9
の露光を行うの場合には、レーザ干渉計12,14を選
択使用すことにより、ステージ位置の計測で光路長が短
かく抑えられ、ステージ位置計測誤差を低く抑えること
ができる。
【0030】なお、本実施形態は、XY軸の平面上を移
動する可動ステージについて説明したが、基本的には平
面でなくとも良く、本発明の請求項1に記載したよう
に、1軸方向だけの直線上の計測を、1対のレーザ干渉
計を用いて行い、距離の短い方のレーザ干渉計のデータ
を用いて、計測精度を向上させることができることは明
かである。
【0031】図3は本発明の他の実施形態の側面図であ
る。この実施形態では、温度調節機構10によって所望
の温度にコントロールされた温調空気20をレーザ干渉
計のビーム光路の直上から光路に対して垂直に吹き付け
ることにより、光路の空調を行うことができるようにし
ている。図5の従来例では、Xステージ4がレーザ干渉
計11より最も離れた場所へ移動した場合、対移動鏡の
光路長Aは対固定鏡の光路長Cよりも長くなり、このと
き温調空気20は移動鏡15の近くは届かず、移動鏡1
5付近の光路空調を十分に行うことはできない。
【0032】図3の本実施形態においては、図5の従来
例のようにXステージ4がレーザ干渉計11より最も離
れた場所へ移動した場合には、レーザ干渉計12により
ステージ位置計測を行いため、ステージ位置計測を行う
レーザ干渉計の光路に関しては対移動鏡の光路長Aが対
固定鏡の光路長Cより著しく長くなることはなく、対移
動鏡の光路も十分に空調を行うことが出来る。
【0033】次に、もう一つの実施形態について説明す
る。この実施形態は、ステージの一軸方向の位置計測
に、二系統設置したレーザ干渉計のうちの一つを選択す
る他の方法である。この場合、レーザ干渉計の選択基準
として単位時間あたりのレーザ干渉計のデータのばらつ
き(ゆらぎ)の大小を利用する方法である。任意の位置
にステージが静止した状態において、一軸方向の位置計
測データは、2つのレーザ干渉計それぞれについて得る
事が出来るが、このときの2つレーザ干渉計が出力する
位置計測データを同時に記録し、単位時間当たりのデー
タのばらつきが少ない方のレーザ干渉計が、その位置に
おける適当なレーザ干渉計であると判断できる。
【0034】以上のように、予めステージ可動範囲内の
複数のステージ位置において、各位置計測軸での最適の
レーザ干渉計のデータを選択し、そのレーザ干渉計のデ
ータに基づき最適の位置にあるレーザ干渉計を選択使用
することができる。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ステージの一軸方向の位置計測に2系統のレーザ干渉計
を設置し、これらレーザ干渉計の各々の光路長を比較
し、光路長の短い一方のレーザ干渉計を選択使用するこ
とにより、各軸方向に1系統のみのレーザ干渉計を設置
した従来の構成と比較して最大光路長を1/2に抑える
ことができ、レーザ干渉計の光路中の空気ゆらぎによる
計測誤差の低減が可能となる。
【0036】また、一軸方向に1系統のみのレーザ干渉
計を設置した従来の構成では、対固定鏡の光路に対して
対移動鏡の光路が長くなった時に、移動鏡付近の光路は
投影レンズ鏡筒の下となるため十分な空調を行うことは
出来なかったが、本発明の構成では、ビーム光路上方よ
り温調空気を流し光路空調をする場合に、ステージ位置
計測に光路長の短い方の干渉計を選択使用するため、対
移動鏡の光路に対しても十分な空調を行うことができ、
従来と比較して効果的に光路空調を行うことができると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の露光装置におけるウェハ
露光位置とレーザ干渉計との基本構成を示すXY平面
図。
【図2】図1の実施形態のウェハステージ部分の構造を
示すXZ軸の模式的側面図。
【図3】本発明の第2の実施形態のウェハステージ部分
の構造を説明する側面図。
【図4】従来例の露光装置におけるウェハ露光位置とレ
ーザ干渉計との関係を示すXY軸基本平面図。
【図5】図4のウェハステージ部分の構造を説明するX
Z軸の模式的側面図。
【符号の説明】
1 光学系 2 ステージ定盤 3,4 可動ステージ 5 ウェハ 6,6a 固定鏡 7,7a ビームスプリッタ 8,8a 反射鏡 9 照射点 10 温度調節機構 11,12 レーザ干渉計(X軸) 13,14 レーザ干渉計(Y軸) 15,16 移動鏡(X軸) 17,18 移動鏡(Y軸) 20 温調空気
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 9/00 - 11/30 102 H01L 21/027 H01L 21/64 - 21/66

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可動軸方向の位置を可変できる可動ステ
    ージと、この可動ステージの位置を計測するように前記
    可動軸上に対向して設けられた1対のレーザ干渉計と、
    この1対のレーザ干渉計で計測された前記可動ステージ
    の光路のうち短い方のレーザ干渉計の計測出力を選択し
    て出力する選択手段とを備えたことを特徴とするステー
    ジ位置計測装置。
  2. 【請求項2】 前記1対のレーザ干渉計が、前記可動ス
    テージの直交する可動軸上にそれぞれ設けられ、前記選
    択手段が、前記各対のレーザ干渉計の計測出力をそれぞ
    れ選択するようにした請求項1記載のステージ位置計測
    装置。
  3. 【請求項3】 前記各レーザ干渉計は、前記各可動ステ
    ージ上にそれぞれ固定された各移動鏡による反射光によ
    り前記各可動ステージとの間の距離を計測するものであ
    る請求項1または2記載のステージ位置計測装置。
  4. 【請求項4】 前記選択手段は、前記各レーザ干渉計の
    位置計測データ出力を用いて、データの単位時間当りの
    データばらつきの少ない方のデータを選択するものであ
    る請求項1、2または3記載のステージ位置計測装置。
  5. 【請求項5】 前記各レーザ干渉計の光路に一定の温度
    に温調された気体を吹き付ける温度調節機構が設けられ
    た請求項1、2、3または4記載のステージ位置計測装
    置。
  6. 【請求項6】 可動ステージ上で直交する可動軸上に対
    向して設けた2対のレーザ干渉計の計測出力のうち光路
    の短い方の計測出力を選択してステージ位置の計測をそ
    れぞれ行うことを特徴とするステージ位置計測方法。
  7. 【請求項7】 前記各レーザ干渉計の光路に一定の温度
    に温調された気体を吹き付けながら前記可動ステージの
    位置計測を行う請求項6記載のステージ位置計測方法。
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