JPH1038757A - エキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】干渉光学系の制限が少なく測定に有利な干渉光
学系を採用でき、被検レンズの収差量を正確に把握する
ことができるエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定
装置及び方法を提供する。 【解決手段】エキシマレーザ光用露光投影レンズ６を被
検レンズとし、その波面収差を測定する装置で、レーザ
光をフィゾー面３及び被検レンズ６に入射させ、フィゾ
ー面で反射された参照光１３と、被検レンズを透過して
反射球面５で反射され、再び被検レンズを透過した被検
光１４とを合成して干渉縞を発生させる波面干渉計部４
と、干渉縞を撮像する撮像素子１１と、撮像された干渉
縞の画像情報に基づき被検レンズの波面収差を計算する
処理装置７とを備えるエキシマレーザ光用レンズの波面
収差測定装置において、ＫｒＦエキシマレーザ光（２４
８．３８５ｎｍ）よりコヒーレンス長の長いＡｒイオン
レーザ光の第２高調波（２４８．２５ｎｍ）を出射する
Ａｒイオンレーザ発振器１と、干渉縞を微小変化させる
ピエゾ素子１０とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エキシマレーザ光
用レンズの波面収差測定装置に係り、特にエキシマレー
ザ光を光源として用いる半導体露光装置における露光投
影レンズの性能を評価するのに好適なエキシマレーザ光
用レンズの波面収差測定装置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体露光装置においては、半導
体素子の微小化に伴い高精度な露光投影レンズが望まれ
ている。このような露光投影レンズを生産するために
は、そのレンズの性能即ち収差状態を高精度に把握する
必要がある。従来、エキシマレーザ光を光源として用い
る半導体露光装置の露光投影レンズを被検レンズとし、
そのレンズの性能を評価する方法として、例えば、特定
の空間パターンを被検レンズにより結像し、その結像状
熊から被検レンズの性能を評価するものが知られてい
る。しかしながら、この方法では、前記結像状態から即
ち空間像計測により被検レンズの性能を評価しており、
その収差量を直接求めているわけではないので、被検レ
ンズの性能即ち収差量を正確に把握することができな
い。この問題を解決するためになされた従来のエキシマ
レーザ光用レンズの評価装置として、発振波長を狭域化
したエキシマレーザ発振器と該発振器より射出したエキ
シマレーザ光を２つの光束に分け、それらの間に光路差
を与えた後、再び合成して干渉縞を発生させる光路差の
制御可能な干渉光学系と、該干渉光学系により発生する
干渉縞を撮像する撮像手段と、該撮像手段により撮像さ
れた干渉縞の画像情報より前記干渉光学系の一方の光路
内に挿入した被検レンズの波面収差を計算する処理装置
とを備えたことを特徴とするものが知られている（特開
平１−１３４２２４号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のエキシマレーザ光用レンズの評価装置では、下記の
問題点があった。 （１）干渉光学系の光源としてエキシマレーザ発振器を
用いており、エキシマレーザ光のコヒーレンス長が短い
ため、干渉光学系を構成する上で制限ができてしまい、
測定に有利な干渉光学系を採用することができないとい
う問題点があった。 （２）また、その制限の中で構成される干渉計、例えば
トワイマングリーン干渉計では、参照光の光路と被検光
の光路とがそれぞれ別の光軸上にあるので、空気の揺ら
ぎや振動などの外乱による誤差要因が多くなってしま
う。そのため、被検レンズの収差量を正確に把握するこ
とができないという問題点があった。本発明は、このよ
うな従来の問題点に鑑みてなされたもので、その課題
は、干渉光学系を構成する上での制限を少なくして測定
に有利な干渉光学系を採用でき、かつ被検レンズの収差
量を正確に把握することができるエキシマレーザ光用レ
ンズの波面収差測定装置及び方法を提供することであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１記載の発明は、エキシマレーザ光用露光投影レ
ンズを被検レンズとし、該被検レンズの波面収差を測定
する装置であって、レーザ光を参照面及び被検レンズに
入射させ、参照面で反射された参照光と、被検レンズを
透過して反射球面で反射され、再び被検レンズを透過し
た被検光とを合成して干渉縞を発生させる干渉光学系
と、該干渉光学系により発生する干渉縞を撮像する撮像
手段と、該撮像手段により撮像された干渉縞の画像情報
に基づき被検レンズの波面収差を計算する処理手段とを
備えるエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置に
おいて、レーザ光としてエキシマレーザ光よりコヒーレ
ンス長の長い収差測定用レーザ光を出射する光源と、干
渉縞を微小変化させる干渉縞走査手段とを備えることを
特徴とするエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装
置である。この構成により、エキシマレーザ光よりコヒ
ーレンス長の長い収差測定用レーザ光を使って干渉縞を
発生させているので、干渉光学系を構成する上での制限
が少なくなり、空気の揺らぎや振動などの外乱による誤
差要因が少ない測定に有利な干渉光学系を採用でき、被
検レンズの波面収差データが精度良く求まる。

【０００５】請求項２記載の発明は、請求項１記載のエ
キシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置において、
光源として、Ａｒイオンレーザ光の第２高調波を出射す
るＡｒイオンレーザ発振器を用いることを特徴とするも
のである。この構成により、Ａｒイオンレーザ光の第２
高調波のコヒーレンス長が長いので、干渉光学系として
空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が少ない
干渉計、例えばフィゾー型干渉計を用いることができ
る。

【０００６】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載のエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置にお
いて、干渉光学系は、被検光が参照面を透過するフィゾ
ー型干渉計で構成されていることを特徴とするものであ
る。この構成により、被検光の光路の一部が参照光の光
路と一致するので、空気の揺らぎや振動などの外乱によ
る誤差要因が少ない。そのため、被検レンズの波面収差
データがより精度良く求まる。

【０００７】請求項４記載の発明は、請求項１〜３のい
ずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収
差測定装置において、干渉縞走査手段は、参照面と反射
球面のいずれか一方を光軸方向に微小変位させるように
構成されていることを特徴とするものである。

【０００８】請求項５記載の発明は、請求項１〜４のい
ずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収
差測定装置において、参照面及び反射球面をｘ，ｙ，ｚ
方向へ移動させるステージと、参照面及び反射球面の位
置を測定する測長干渉計とを更に含んでいることを特徴
とするものである。この構成により、測長干渉計により
参照面及び反射球面の位置を測定しながらステージによ
り参照面及び反射球面をｘ，ｙ，ｚ方向へ移動させるこ
とにより、各移動位置での被検レンズの波面収差データ
が精度良く求まる。そのため、軸上の収差だけでなく、
軸外の収差、像面湾曲、歪曲収差、倍率などの波面収差
データが精度良く求まる。

【０００９】請求項６記載の発明は、請求項１〜５のい
ずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収
差測定装置において、処理手段は、エキシマレーザ光の
波長と収差測定用レーザ光の波長との差を補正するよう
に構成されていることを特徴とするものである。この構
成によりエキシマレーザ光の波長と収差測定用レーザ光
の波長との差による色補正を行うことができる。

【００１０】請求項７記載の発明は、請求項１〜６のい
ずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収
差測定装置において、収差測定用レーザ光の波長を測定
する波長モニタを更に含み、処理手段は波長モニタによ
り測定された収差測定用レーザ光の波長の変動を補正す
るように構成されていることを特徴とするものである。
この構成により、収差測定用レーザ光の波長の変動が補
正され、被検レンズの波面収差データがより精度良く求
まる。

【００１１】上記課題を解決するため請求項８記載の発
明は、エキシマレーザ光用露光投影レンズを被検レンズ
とし、該被検レンズの波面収差を測定するエキシマレー
ザ光用レンズの波面収差測定方法であって、Ａｒイオン
レーザ光の第２高調波をフィゾーレンズ及び被検レンズ
に入射させ、参照面であるフィゾーレンズのフィゾー面
で反射された参照光と、フィゾー面及び被検レンズを透
過して反射球面で反射され、再び被検レンズを透過した
被検光とを合成して干渉縞を発生させ、干渉縞を微小変
化させながら前記干渉縞を撮像し、かつ撮像された干渉
縞の画像情報に基づき被検レンズの波面収差を計算する
ことを特徴とするエキシマレーザ光用レンズの波面収差
測定方法である。この構成により、エキシマレーザ光よ
りコヒーレンス長の長いＡｒイオンレーザ光の第２高調
波を使って干渉縞を発生させていると共に、被検光の光
路の一部が参照光の光路と一致するので、空気の揺らぎ
や振動などの外乱による誤差要因が少なく、高精度な測
定が可能となる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１はこの発明の第１実施例に係
るエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置を示し
ている。この測定装置は、エキシマレーザ光を光源とし
て用いる半導体露光装置における露光投影レンズ６を被
検レンズとし、この被検レンズ６の性能を評価するため
のものである。この実施例では、エキシマレーザ光とし
て、例えばＫｒＦエキシマレーザ光（発振波長が２４
８．３８５ｎｍ）を使用している。

【００１３】図１に示す波面収差測定装置は、Ａｒイオ
ンレーザ光を出射するＡｒイオンレーザ発振器１と、フ
ィゾーレンズ２を有する波面干渉計部４と、Ａｒイオン
レーザ光を波面干渉計部４へ導くミラーＭ２〜Ｍ５と、
干渉縞を微小変化させるピエゾ素子１０と、カメラなど
の撮像素子１１と、被検レンズ６の波面収差などの演算
処理を行う処理装置７とを備えている。この実施例で
は、波面干渉計部４はフィゾー型干渉計で構成されてい
る。Ａｒイオンレーザ発振器１として、Ａｒイオンレー
ザ光の第２高調波（波長が４９６．５ｎｍのＡｒイオン
レーザ光の２倍高調波で，波長が２４８．２５ｎｍのレ
ーザ光）を出射する第２高調波発振器を用いている。

【００１４】Ａｒイオンレーザ発振器１とミラーＭ２と
の間には、ハーフミラーＭ１が設けられている。Ａｒイ
オンレーザ発振器１から出射されたＡｒイオンレーザ光
の第２高調波（以下単にレーザ光という）は、図１及び
図２に示すように、ハーフミラーＭ１を透過し、ミラー
Ｍ２、ミラーＭ３、ミラーＭ４及びミラーＭ５でそれぞ
れ反射されて波面干渉計部４のハーフミラーＭ６に入射
するようになっている。即ち、Ａｒイオンレーザ発振器
１から水平面内ｘ方向へ出射されたレーザ光は、ハーフ
ミラーＭ１を透過してミラーＭ２により垂直上方へ反射
され、この反射光はミラーＭ３により水平面内ｘ方向へ
反射され、この反射光はミラーＭ４により水平面内ｙ方
向に反射され、この反射光はミラーＭ５により水平面内
ｘ方向に反射された後ハーフミラーＭ６に入射するよう
になっている。

【００１５】波面干渉計部４は、ハーフミラーＭ６を透
過したレーザ光をビームエキスパンダ８により拡げて反
射ミラー９で垂直下方へ反射させ、この反射光をフィゾ
ーレンズ２の最終球面であるフィゾー面（参照面）３及
び被検レンズ６に入射させ、フィゾー面３で反射された
参照光１３と、フィゾー面３及び被検レンズ６を透過し
て反射球面５で反射され、再び被検レンズ６を透過した
被検光１４とを合成して干渉縞を発生させるように構成
されている。露光を行うときには、フィゾーレンズ２の
焦点位置に不図示のレティクルが、反射球面５の焦点位
置（曲率中心）に不図示のウエハーがそれぞれ配置され
る。ピエゾ素子１０は、入力信号例えば電圧信号に応じ
て変形し、この変形によってフィゾーレンズ２を光軸方
向（Ｚ方向）に微小変位させるようにフィゾーレンズ２
に設けられている。フィゾーレンズ２の微小変位によっ
て、波面干渉計部４により発生する干渉縞が微小変化す
る。

【００１６】フィゾーレンズ２を含む波面干渉計部４
は、ｘ，ｙ，ｚ方向に移動可能な３軸ステージ上に載置
されている。一方、反射球面５は、フィゾーレンズ２と
は別の３軸ステージ上に載置されている。また、フィゾ
ーレンズ２の焦点位置及び反射球面５の焦点位置（曲率
中心）をそれぞれ測定する測長干渉計（図示略）が設け
られている。なお、ミラーＭ５は、ｘ方向には移動不能
であり、ｙ方向にのみ波面干渉計部４と一緒に移動する
ように構成されている（図２参照）。これによって、波
面干渉計部４及び反射球面５がｘ及びｙ方向に移動して
も、Ａｒイオンレーザ発振器１から出射したレーザ光を
常に波面干渉計部４のハーフミラーＭ６に入射させるこ
とができる。ハーフミラーＭ１の反射光路中には、Ａｒ
イオンレーザ発振器１から出射されるＡｒイオンレーザ
光の基本波又は第２高調波の発振波長を測定する波長モ
ニタ１５が設けられている。そして、処理装置７は、波
長モニタ１５により測定される前記発振波長の変動を補
正するように構成されている。

【００１７】次に、上記第１実施例の動作を説明する。
Ａｒイオンレーザ発振器１から出射したレーザ光は、ハ
ーフミラーＭ１を透過し、ミラーＭ２、ミラーＭ３、ミ
ラーＭ４及びミラーＭ５でそれぞれ反射された後、波面
干渉計部４のハーフミラーＭ６に入射する。ハーフミラ
ーＭ６を透過したレーザ光はビームエキスパンダ８によ
り拡げられて反射ミラー９で反射される。この反射光は
フィゾーレンズ２及び被検レンズ６に入射し、フィゾー
面３で反射された参照光１３と、フィゾー面３及び被検
レンズ６を透過して反射球面５で反射され、再び被検レ
ンズ６を透過した被検光１４とが反射ミラー９で反射さ
れて合成され、干渉縞が発生する。この干渉縞がビーム
エキスパンダ８及びハーフミラーＭ６を経て撮像素子１
１に入射し、撮像素子１１により撮像される。撮像素子
１１は入射した干渉縞の画像情報の信号を処理装置７へ
出力する。ピエゾ素子１０によりフィゾーレンズ２を光
軸方向（Ｚ方向）に微小変位させて干渉縞を微小変化さ
せながら、撮像素子１１で干渉縞を撮像することによ
り、処理装置７が、撮像素子１１から出力される干渉縞
の画像情報の信号に基づき、被検レンズ６の波面収差を
演算処理して求める。この演算結果を不図示の表示装置
で表示したり、不図示のプリンタにより出力することが
できる。

【００１８】このように、上記第１実施例によれば、収
差測定用レーザ光としてエキシマレーザ光よりコヒーレ
ンス長の長いＡｒイオンレーザ光の第２高調波を使って
干渉縞を発生させているので、波面干渉計部４を構成す
る上での制限が少なくなり、測定に有利な波面干渉計部
４としてフィゾー型干渉計が採用されている。この干渉
計では被検光１４の光路の一部が参照光１３の光路と一
致しているそのため、空気の揺らぎや振動などの外乱に
よる誤差要因が少なくなり、被検レンズ６の波面収差デ
ータが精度良く求まる。したがって、被検レンズ６の収
差量を正確に把握することができる。

【００１９】また、上記第１実施例によれば、図示しな
い３軸ステージにより、フィゾーレンズ２及び反射球面
５の位置を変えることにより、任意の像点での収差を測
定することができるので、軸上の収差のみならず軸外の
収差、像面湾曲、歪曲収差及び倍率も測定することがで
きる。

【００２０】また、上記第１実施例によれば、Ａｒイオ
ンレーザ発振器１から出射されるＡｒイオンレーザ光の
第２高調波の発振波長（２４８．２５ｎｍ）とＫｒＦエ
キシマレーザ光の発振波長（２４８．３８５ｎｍ）にず
れがあるが、両波長の差による色補正を処理装置７で行
うことができる。

【００２１】また、上記第１実施例によれば、ミラーＭ
５は波面干渉計部４と一緒にｙ方向にのみ移動可能であ
るので、波面干渉計部４及び反射球面５をｘ及びｙ方向
に移動させる際に、Ａｒイオンレーザ発振器１から出射
したレーザ光を常に波面干渉計部４のハーフミラーＭ６
に入射させることができる。

【００２２】また上記第１実施例によれば、処理装置７
は波長モニタ１５により測定される発振波長の変動を補
正するように構成されているので、Ａｒイオンレーザ光
の基本波の発振波長（４９６．５ｎｍ）又はその第２高
調波の発振波長（２４８．２５ｎｍ）の変動が補正さ
れ、被検レンズ６の波面収差データがより精度良く求ま
る。

【００２３】図３は、この発明の第２実施例に係るエキ
シマレーザ光用レンズの波面収差測定装置を示してい
る。この第２実施例では、Ａｒイオンレーザ発振器１か
ら出射したレーザ光を波面干渉計部４のハーフミラーＭ
６へ入射させるためのレーザ光の引き回しを、光ファイ
バー１２を用いて行うように構成されている。光フィイ
バー１２の出射側端部は、上記第１実施例のビームエキ
スパンダ８に代えて設けられたコリメータレンズ８Ａの
焦点位置にある。これによって、その出射側端部から出
射されてハーフミラーＭ６を透過したレーザ光はコリメ
ータレンズ８Ａによって平行光になる。また、前記波長
モニタ１５がＡｒイオンレーザ発振器１内部のハーフミ
ラーＭ１０の反射光路中に設けられている。その他の構
成は上記第１実施例と同じである。この第２実施例によ
れば、レーザ光を波面干渉計部４のハーフミラーＭ６へ
光ファイバー１２によって簡単に入射させることができ
るので、上記第１実施例で用いたミラーＭ２〜Ｍ５を省
略することができる。これによって、構造を簡単にする
ことができると共に、ミラーなどの光学部材の調整作業
を簡単にすることができる。

【００２４】次に、この発明の一実施例に係るエキシマ
レーザ光用レンズの波面収差測定方法を説明する。な
お、この測定方法は、例えば図１に示す波面収差測定を
用いて実施することができる。エキシマレーザ光用レン
ズの波面収差測定方法は、（１）Ａｒイオンレーザ光の
第２高調波をフィゾーレンズ２及び被検レンズ６に入射
させ、フィゾーレンズ２のフィゾー面３で反射された参
照光１３と、フィゾー面３及び被検レンズ６を透過して
反射球面５で反射され、再び被検レンズ６を透過した被
検光１４とを合成して干渉縞を発生させ、（２）干渉縞
を微小変化させながら干渉縞を撮像し、かつ（３）撮像
された干渉縞の画像情報に基づき被検レンズ６の波面収
差を計算することからなる。この一実施例によれば、Ｋ
ｒＦエキシマレーザ光よりコヒーレンス長の長いＡｒイ
オンレーザ光の第２高調波を使って干渉縞を発生させて
いるので、波面干渉計部（干渉光学系）４を構成する上
での制限が少なくなり、測定に有利な波面干渉計部４と
してフィゾー型干渉計が採用されている。この干渉計で
は、被検光１４の光路の一部が参照光１３の光路と一致
するので、空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要
因が少なくなり、被検レンズ６の波面収差データが精度
良く求まる。したがって、被検レンズ６の収差量を正確
に把握することができる。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように請求項１記載の発明
によれば、エキシマレーザ光よりコヒーレンス長の長い
収差測定用レーザ光を使って干渉縞を発生させているの
で、干渉光学系を構成する上での制限を少なくして測定
に有利な干渉光学系を採用できる。そのため、被検レン
ズの収差量を正確に把握することができる。

【００２６】請求項２記載の発明によれば、Ａｒイオン
レーザ光の第２高調波のコヒーレンス長が長いので、干
渉光学系として空気の揺らぎや振動などの外乱による誤
差要因が少ない干渉計、例えばフィゾー型干渉計を用い
ることができる。

【００２７】請求項３記載の発明によれば、被検光の光
路の一部が参照光の光路と一致するので、空気の揺らぎ
や振動などの外乱による誤差要因が少ない。そのため、
被検レンズの波面収差データをより精度良く求めること
ができる。

【００２８】請求項５記載の発明によれば、軸上の収差
だけでなく、軸外の収差、像面湾曲、歪曲収差、倍率な
どの波面収差データを精度良く求めることができる。

【００２９】請求項６記載の発明によれば、エキシマレ
ーザ光の波長と収差測定用レーザ光の波長との差による
色補正を行うことができる請求項７記載の発明によれ
ば、収差測定用レーザ光の波長の変動が補正されるの
で、被検レンズの波面収差データをより精度良く求める
ことができる。

【００３０】請求項８記載の発明によれば、エキシマレ
ーザ光よりコヒーレンス長の長いＡｒイオンレーザ光の
第２高調波を使って干渉縞を発生させていると共に、被
検光の光路の一部が参照光の光路と一致するので、空気
の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が少なく、被
検レンズの波面収差データの収差量を正確に把握するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係るエキシマレーザ光用
レンズの波面収差測定装置を示す概略構成図である。

【図２】図１の一部を示す平面図である。

【図３】本発明の第２実施例に係るエキシマレーザ光用
レンズの波面収差測定装置を示す概略構成図である。

【符号の説明】 １ Ａｒイオンレーザ発振器（光源） ２ フィゾ
ーレンズ ３ フィゾー面（参照面） ４ 波面干
渉計部（干渉光学系） ５ 反射球面 ６ 露光投
影レンズ（被検レンズ） ７ 処理装置（処理手段） ８ ビーム
エキスパンダ ８Ａ コリメータレンズ ９ 反射ミ
ラー １０ ピエゾ素子（干渉縞走査手段） １１ 撮像
素子（撮像手段） １２ 光ファイバー １３ 参照
光 １４ 被検光 １５ 波長
モニタ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】エキシマレーザ光用露光投影レンズを被検
   レンズとし、該被検レンズの波面収差を測定する装置で
   あって、 レーザ光を参照面及び前記被検レンズに入射させ、前記
   参照面で反射された参照光と、前記被検レンズを透過し
   て反射球面で反射され、再び前記被検レンズを透過した
   被検光とを合成して干渉縞を発生させる干渉光学系と、
   該干渉光学系により発生する干渉縞を撮像する撮像手段
   と、該撮像手段により撮像された干渉縞の画像情報に基
   づき前記被検レンズの波面収差を計算する処理手段とを
   備えるエキシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置に
   おいて、 前記レーザ光としてエキシマレーザ光よりコヒーレンス
   長の長い収差測定用レーザ光を出射する光源と、 前記干渉縞を微小変化させる干渉縞走査手段とを備える
   ことを特徴とするエキシマレーザ光用レンズの波面収差
   測定装置。
2. 【請求項２】前記光源として、Ａｒイオンレーザ光の第
   ２高調波を出射するＡｒイオンレーザ発振器を用いるこ
   とを特徴とする請求項１記載のエキシマレーザ光用レン
   ズの波面収差測定装置。
3. 【請求項３】前記干渉光学系は、前記被検光が前記参照
   面を透過するフィゾー型干渉計で構成されていることを
   特徴とする請求項１又は２記載のエキシマレーザ光用レ
   ンズの波面収差測定装置。
4. 【請求項４】前記干渉縞走査手段は、前記参照面と前記
   反射球面のいずれか一方を光軸方向に微小変位させるよ
   うに構成されていることを特徴とする請求項１〜３のい
   ずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収
   差測定装置。
5. 【請求項５】前記参照面及び前記反射球面をｘ，ｙ，ｚ
   方向へ移動させるステージと、前記参照面及び前記反射
   球面の位置を測定する測長干渉計とを更に含んでいるこ
   とを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のエ
   キシマレーザ光用レンズの波面収差測定装置。
6. 【請求項６】前記処理手段は、エキシマレーザ光の波長
   と前記収差測定用レーザ光の波長との差を補正するよう
   に構成されていることを特徴とする請求項１〜５のいず
   れか１項に記載のエキシマレーザ光用レンズの波面収差
   測定装置。
7. 【請求項７】前記収差測定用レーザ光の波長を測定する
   波長モニタを更に含み、前記処理手段は前記波長モニタ
   により測定された前記収差測定用レーザ光の波長の変動
   を補正するように構成されていることを特徴とする請求
   項１〜６のいずれか１項に記載のエキシマレーザ光用レ
   ンズの波面収差測定装置。
8. 【請求項８】エキシマレーザ光用露光投影レンズを被検
   レンズとし、該被検レンズの波面収差を測定するエキシ
   マレーザ光用レンズの波面収差測定方法であって、 Ａｒイオンレーザ光の第２高調波をフィゾーレンズ及び
   前記被検レンズに入射させ、参照面である前記フィゾー
   レンズのフィゾー面で反射された参照光と、前記フィゾ
   ー面及び前記被検レンズを透過して反射球面で反射さ
   れ、再び前記被検レンズを透過した被検光とを合成して
   干渉縞を発生させ、 前記干渉縞を微小変化させながら前記干渉縞を撮像し、
   かつ前記撮像された干渉縞の画像情報に基づき前記被検
   レンズの波面収差を計算することを特徴とするエキシマ
   レーザ光用レンズの波面収差測定方法。