JPH1038758A - i線用レンズの波面収差測定装置及び方法 - Google Patents

i線用レンズの波面収差測定装置及び方法

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JPH1038758A
JPH1038758A JP8215399A JP21539996A JPH1038758A JP H1038758 A JPH1038758 A JP H1038758A JP 8215399 A JP8215399 A JP 8215399A JP 21539996 A JP21539996 A JP 21539996A JP H1038758 A JPH1038758 A JP H1038758A
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lens
wavefront aberration
line
test
light
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JP8215399A
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Jun Suzuki
順 鈴木
Takashi Genma
隆志 玄間
Yutaka Ichihara
裕 市原
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Abstract

(57)【要約】 【課題】被検レンズの収差量を正確に把握することがで
き、被検レンズの生産期間の短縮を図れるi線用レンズ
の波面収差測定装置及び方法を提供する。 【解決手段】i線(365nm)用露光投影レンズを被
検レンズとし、このレンズの波面収差を測定するi線用
レンズの波面収差測定装置であって、Arイオンレーザ
光のシングルモード(363.8nm)を出射するAr
イオンレーザ発振器1と、そのレーザ光をフィゾー面3
及び被検レンズ6に入射させ、フィゾー面で反射された
参照光13と、被検レンズを透過して反射球面5で反射
され、再び被検レンズを透過した被検光14とを合成し
て干渉縞を発生させる波面干渉計部4と、干渉縞を微小
変化させるピエゾ素子10と、波面干渉計部により発生
する干渉縞を撮像し、干渉縞の画像情報を出力する撮像
素子11と、干渉縞の画像情報に基づき被検レンズの波
面収差を計算する処理装置7とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、i線用レンズの波
面収差測定装置に係わり、特にi線を光源として用いる
半導体露光装置における露光投影レンズの性能を評価す
るのに好適なi線用レンズの波面収差測定装置及び方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体露光装置においては、半導
体素子の微小化に伴い高精度な露光投影レンズが望まれ
ている。このような露光投影レンズを生産するために
は、そのレンズの性能即ち収差状態を高精度に把握する
必要がある。従来、i線を光源として用いる半導体露光
装置の露光投影レンズ(i線用レンズ)を被検レンズと
し、この被検レンズの性能を評価する方法として、例え
ば、特定の空間パターンを被検レンズにより結像し、そ
の結像状態から被検レンズの性能を評価するものが知ら
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の評価方法では、下記の問題点があった。 (1)前記結像状態から即ち空間像計測により被検レン
ズの性能を評価しており、その収差量を直接求めている
わけではないので、被検レンズの性能即ち収差量を正確
に把握することができない。 (2)照明条件、空間像条件、像高条件などに制限があ
るため、これらの条件を自由に変えた計算機によるシミ
ュレーション結果を得ることができない。また、被検レ
ンズの収差量を正確に把握できないので、間隔修正指示
値を計算することができない。即ち、レンズ修正の為の
情報が得られないため、必要とされる性能を満たす被検
レンズの生産期間が長くなってしまう。本発明は、この
ような従来の問題点に鑑みてなされたもので、その課題
は、被検レンズの収差量を正確に把握することができ、
被検レンズの生産期間の短縮を図れるi線用レンズの波
面収差測定装置及び方法を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項1記載の発明は、i線用露光投影レンズを被検レ
ンズとし、被検レンズの波面収差を測定するi線用レン
ズの波面収差測定装置であって、レーザ光を出射する光
源と、レーザ光を参照面及び被検レンズに入射させ、参
照面で反射された参照光と、被検レンズを透過して反射
球面で反射され、再び被検レンズを透過した被検光とを
合成して干渉縞を発生させる干渉光学系と、干渉縞を微
小変化させる干渉縞走査手段と、干渉光学系により発生
する干渉縞を撮像し、該干渉縞の画像情報を出力する撮
像手段と、干渉縞の画像情報に基づき被検レンズの波面
収差を計算する処理手段とを備えることを特徴とするi
線用レンズの波面収差測定装置である。この構成によ
り、干渉光学系により発生する干渉縞を干渉縞走査手段
により微小変化させながら、撮像手段から出力される干
渉縞の画像情報に基づき、処理手段により被検レンズの
波面収差が計算されて求まる。また、得られた波面収差
を計算処理することにより、照明条件、空間像条件、像
高条件などを自由に変えた計算機によるシミュレーショ
ン結果を得ることができ、かつ得られた波面収差に基づ
き間隔修正指示値を計算することができる。つまり、従
来の空間像計測により被検レンズの性能を評価するのに
代えて、干渉計を用いた計測により被検レンズの性能を
評価しているため、被検レンズの波面収差データが精度
良く求まり、レンズ修正のための情報が得られる。
【0005】請求項2記載の発明は、請求項1記載のi
線用レンズの波面収差測定装置において、光源として、
Arイオンレーザ光のシングルモードを出射するArイ
オンレーザ発振器を用いることを特徴とするものであ
る。この構成により、Arイオンレーザ光のシングルモ
ードのコヒーレンス長が長いので、干渉光学系として空
気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が少ない干
渉計例えばフィゾー型干渉計を用いることができる。
【0006】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載のi線用レンズの波面収差測定装置において、干渉光
学系は、被検光が参照面を透過するフィゾー型干渉計で
構成されていることを特徴とするものである。この構成
により、被検光の光路の一部が参照光の光路と一致する
ので、空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が
少ない。そのため、被検レンズの波面収差データがより
精度良く求まる。
【0007】請求項4記載の発明は、請求項1〜3のい
ずれか1項に記載のi線用レンズの波面収差測定装置に
おいて、干渉縞走査手段は、参照面と反射球面のいずれ
か一方を光軸方向に微小変位させるように構成されてい
ることを特徴とするものである。
【0008】請求項5記載の発明は、請求項1〜4のい
ずれか1項に記載のi線用レンズの波面収差測定装置に
おいて、参照面及び反射球面をx,y,z方向へ移動さ
せるステージと、参照面及び反射球面の位置を測定する
測長干渉計とを更に含んでいることを特徴とするもので
ある。この構成により、測長干渉計により参照面及び反
射球面の位置を測定しながらステージにより参照面及び
反射球面をx,y,z方向へ移動させることにより、各
移動位置での被検レンズの波面収差データが精度良く求
まる。そのため、軸上の収差だけでなく、軸外の収差、
像面湾曲、歪曲収差、倍率などの波面収差データが精度
良く求まる。
【0009】請求項6記載の発明は、請求項2〜5のい
ずれか1項に記載のi線用レンズの波面収差測定装置に
おいて、処理手段は、i線の波長とArイオンレーザ光
のシングルモードの発振波長との差を補正するように構
成されていることを特徴とするものである。この構成に
よりi線の波長とArイオンレーザ光のシングルモード
の発振波長との差による色補正を行うことができる。
【0010】上記課題を解決するため請求項7記載の発
明は、i線用露光投影レンズを被検レンズとし、被検レ
ンズの波面収差を測定するi線用レンズの波面収差測定
方法であって、Arイオンレーザ光のシングルモードを
フィゾーレンズ及び被検レンズに入射させ、フィゾーレ
ンズのフィゾー面で反射された参照光と、フィゾー面及
び被検レンズを透過して反射球面で反射され、再び被検
レンズを透過した被検光とを合成して干渉縞を発生さ
せ、干渉縞を微小変化させながら干渉縞を撮像し、かつ
撮像された干渉縞の画像情報に基づき被検レンズの波面
収差を計算することを特徴とするi線用レンズの波面収
差測定方法である。この構成により、干渉縞を微小変化
させながら撮像することにより、撮像された干渉縞の画
像情報に基づき被検レンズの波面収差が計算されて求ま
る。また、得られた波面収差を計算処理することによ
り、照明条件、空間像条件、像高条件などを自由に変え
た計算機によるシミュレーション結果を得ることがで
き、かつ得られた波面収差に基づき間隔修正指示値を計
算することができる。即ち、被検レンズの波面収差デー
タが精度良く求まり、レンズ修正の為の情報が得られ
る。しかも、被検光の光路の一部が参照光の光路と一致
するので、空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要
因が少なく、高精度な測定が可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1はこの発明の第1実施例に係
るi線用レンズの波面収差測定装置を示している。この
測定装置は、i線(波長が365nm)を光源として用
いる半導体露光装置における露光投影レンズ(i線用レ
ンズ)6を被検レンズとし、この被検レンズ6の性能を
評価するためのものである。図1に示すi線用レンズの
波面収差測定装置は、Arイオンレーザ光を出射するA
rイオンレーザ発振器1と、フィゾーレンズ2を有する
波面干渉計部(干渉光学系)4と、Arイオンレーザ光
を波面干渉計部4へ導くミラーM1〜M4と、干渉縞を
微小変化させるピエゾ素子10と、カメラなどの撮像素
子11と、被検レンズ6の波面収差などの演算処理を行
う処理装置7とを備えている。この実施例では、波面干
渉計部4はフィゾー型干渉計で構成されている。
【0012】Arイオンレーザ発振器1として、Arイ
オンレーザ光のシングルモード(波長が363.8n
m)を出射するものが使用される。Arイオンレーザ発
振器1から出射されたArイオンレーザ光のシングルモ
ード(以下単にレーザ光という)は、図1及び図2に示
すように、ミラーM1、ミラーM2、ミラーM3及びミ
ラーM4でそれぞれ反射されて波面干渉計部4のハーフ
ミラーM5に入射するようになっている。即ち、Arイ
オンレーザ発振器1から水平面内x方向へ出射されたレ
ーザ光はミラーM1により垂直上方へ反射され、この反
射光はミラーM2により水平面内x方向へ反射され、こ
の反射光はミラーM3により水平面内y方向へ反射さ
れ、この反射光はミラーM4により水平面内x方向へ反
射された後ハーフミラーM5に入射するようになってい
る。
【0013】波面干渉計部4は、ハーフミラーM5を透
過したレーザ光をビームエキスパンダ8により拡げて反
射ミラー9で垂直下方へ反射させ、この反射光をフィゾ
ーレンズ2の最終球面であるフィゾー面(参照面)3及
び被検レンズ6に入射させ、フィゾー面3で反射された
参照光13と、フィゾー面3及び被検レンズ6を透過し
て反射球面5で反射され、再び被検レンズ6を透過した
被検光14とを合成して干渉縞を発生させるように構成
されている。露光を行うときには、フィゾーレンズ2の
焦点位置に不図示のレティクルが、反射球面5の焦点位
置(曲率中心)に不図示のウエハーがそれぞれ配置され
る。
【0014】ピエゾ素子10は、入力信号例えば電圧信
号に応じて変形し、この変形によってフィゾーレンズ2
を光軸方向(Z方向)に微小変位させるようにフィゾー
レンズ2に設けられている。フィゾーレンズ2の微小変
位によって、波面干渉計部4により発生する干渉縞が微
小変化する。フィゾーレンズ2を含む波面干渉計部4
は、x,y,z方向に移動可能な3軸ステージ上に載置
されている。一方、反射球面5は、フィゾーレンズ2と
は別の3軸ステージ上に載置されている。また、フィゾ
ーレンズ2の焦点位置及び反射球面5の焦点位置(曲率
中心)をそれぞれ測定する測長干渉計(図示略)が設け
られている。なお、ミラーM4はx方向には移動不能
で、y方向にのみ波面干渉計部4と一緒に移動するよう
に構成されている(図2参照)。これによって、波面干
渉計部4及び反射球面5がx及びy方向に移動しても、
Arイオンレーザ発振器1から出射したレーザ光を常に
波面干渉計部4のハーフミラーM5に入射させることが
できる。
【0015】次に、上記第1実施例の動作を説明する。
Arイオンレーザ発振器1から出射したレーザ光は、ミ
ラーM1、ミラーM2、ミラーM3及びミラーM4でそ
れぞれ反射された後、波面干渉計部4のハーフミラーM
5に入射する。ハーフミラーM5を透過したレーザ光は
ビームエキスパンダ8により拡げられて反射ミラー9で
反射される。この反射光はフィゾーレンズ2及び被検レ
ンズ6に入射し、フィゾー面3で反射された参照光13
と、被検レンズ6を透過して反射球面5で反射され、再
び被検レンズ6を透過した被検光14とが反射ミラー9
で反射されて合成され、干渉縞が発生する。この干渉縞
がビームエキスパンダ8及びハーフミラーM5を経て撮
像素子11に入射し、撮像素子11により撮像される。
撮像素子11は入射した干渉縞の画像情報の信号を処理
装置7へ出力する。ピエゾ素子10によりフィゾーレン
ズ2を光軸方向(Z方向)に微小変位させて干渉縞を微
小変化させながら、撮像素子11で干渉縞を撮像するこ
とにより、処理装置7が、撮像素子11から出力される
干渉縞の画像情報の信号に基づき、被検レンズ6の波面
収差を演算処理して求める。この演算結果を不図示の表
示装置で表示したり、不図示のプリンタにより出力する
ことができる。
【0016】このように、上記第1実施例によれば、ピ
エゾ素子10により干渉縞を微小変化させながら、波面
干渉計部4により発生する干渉縞の画像情報に基づき被
検レンズ6の波面収差を直接求めることができる。ま
た、得られた波面収差を計算処理することにより、照明
条件、空間像条件、像高条件などを自由に変えた計算機
によるシミュレーション結果を得ることができ、かつ得
られた波面収差に基づき間隔修正指示値を計算すること
ができる。したがって、被検レンズ6の収差量を正確に
把握してその性能を高精度に評価することができ、かつ
必要とされる性能を満たす被検レンズ6の生産期間を短
縮することができる。
【0017】また、上記第1実施例によれば、図示しな
い3軸ステージにより、波面干渉計部4及び反射球面5
の位置を変えることにより、任意の像点での収差を測定
することができるので、軸上の収差のみならず軸外の収
差、像面湾曲、歪曲収差及び倍率も測定することができ
る。
【0018】また、上記第1実施例によれば、Arイオ
ンレーザ発振器1から出射されるArイオンレーザ光の
シングルモードの発振波長(363.8nm)とi線の
波長(365nm)にずれがあるが、両波長の差による
色補正を処理装置7で行うことができる。
【0019】また、上記第1実施例によれば、レーザ光
として、Arイオンレーザ光のシングルモードを用いる
構成により、レーザ光のコヒーレンス長が長くなり、波
面干渉計部(干渉光学系)4としてフィゾー型干渉計を
用いることができる。これによって、被検光14がフィ
ゾー面3を透過し、被検光14の光路の一部が参照光1
3の光路と一致するので、空気の揺らぎや振動などの外
乱による誤差要因が少なくなる。そのため、被検レンズ
6の波面収差をより正確に求めることができる。
【0020】また、上記第1実施例によれば、ミラーM
4は波面干渉計部4と一緒にy方向に移動可能であるの
で、波面干渉計部4及び反射球面5をx及びy方向に移
動させる際に、Arイオンレーザ発振器1から出射した
レーザ光を常に波面干渉計部4のハーフミラーM5に入
射させることができる。なお、上記第1実施例におい
て、フィゾー型干渉計4に代えてトワイマングリーン型
干渉計を用いても良い。
【0021】図3は、この発明の第2実施例に係るi線
用レンズの波面収差測定装置を示している。この第2実
施例では、Arイオンレーザ発振器1から出射したレー
ザ光を波面干渉計部4のハーフミラーM5へ入射させる
ためのレーザ光の引き回しを、光ファイバー12で行う
ように構成されている。光フィイバー12の出射側端部
は、上記第1実施例のビームエキスパンダ8に代えて設
けられたコリメータレンズ8Aの焦点位置にある。これ
によって、その出射側端部から出射されてハーフミラー
M5を透過したレーザ光はコリメータレンズ8Aによっ
て平行光になる。その他の構成は上記第1実施例と同じ
である。
【0022】この第2実施例によれば、レーザ光を波面
干渉計部4のハーフミラーM5へ光ファイバー12によ
って簡単に入射させることができるので、上記第1実施
例で用いたミラーM1〜M4を省略することができる。
これによって、構造を簡単にすることができると共に、
ミラーなどの光学部材の調整作業を簡単にすることがで
きる。
【0023】次に、この発明の一実施例に係るi線用レ
ンズの波面収差測定方法を説明する。なお、この測定方
法は、例えば図1に示す波面収差測定を用いて実施する
ことができる。i線用レンズの波面収差測定方法は、
(1)Arイオンレーザ光のシングルモードを同一の光
軸上に配置されたフィゾーレンズ2及び被検レンズ6に
入射させ、フィゾーレンズ2のフィゾー面3で反射され
た参照光13と、被検レンズ6を透過して反射球面5で
反射され、再び被検レンズ6を透過した被検光14とを
合成して干渉縞を発生させ、(2)干渉縞を微小変化さ
せながら干渉縞を撮像し、かつ(3)撮像された干渉縞
の画像情報に基づき被検レンズ6の波面収差を計算する
ことからなる。このようなi線用レンズの波面収差測定
方法によれば、干渉縞を微小変化させながら干渉縞を撮
像し、撮像された干渉縞の画像情報に基づき被検レンズ
6の波面収差を直接求めることができる。しかも、被検
光14の光路の一部が参照光13の光路と一致するの
で、空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が少
なく、被検レンズの波面収差を精度良く求めることがで
きる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の発明
によれば、被検レンズの波面収差データが精度良く求ま
り、レンズ修正の為の情報が得られるので、被検レンズ
の収差量を正確に把握することができると共に、被検レ
ンズの生産期間の短縮を図ることができる。また、測定
時に露光及び現像を行わないので、露光条件、現像条件
など、レンズの性能以外の要因によって測定値が影響さ
れることがなく、精度良く被検レンズの評価を行うこと
ができる。
【0025】請求項2記載の発明によれば、干渉光学系
として空気の揺らぎや振動などの外乱による誤差要因が
少ないフィゾー型干渉計を用いることができる。
【0026】請求項3記載の発明によれば、空気の揺ら
ぎや振動などの外乱による誤差要因が少ないので、被検
レンズの波面収差データをより精度良く求めることがで
きる。
【0027】請求項5記載の発明によれば、軸上の収差
だけでなく、軸外の収差、像面湾曲、歪曲収差、倍率な
どの波面収差データを精度良く求めることができる。
【0028】請求項6記載の発明によれば、i線の波長
とArイオンレーザ光のシングルモードの発振波長との
差による色補正を行うことができる。
【0029】請求項7記載の発明によれば、被検レンズ
の波面収差データが精度良く求まり、レンズ修正の為の
情報が得られるので、被検レンズの収差量を正確に把握
することができると共に、被検レンズの生産期間の短縮
を図ることができる。しかも、被検光の光路の一部が参
照光の光路と一致するので、空気の揺らぎや振動などの
外乱による誤差要因が少なく、高精度な測定が可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るi線用レンズの波面
収差測定装置を示す概略構成図である。
【図2】第1実施例のレーザ光の引き回し部を示す平面
図である。
【図3】本発明の第2実施例に係るi線用レンズの波面
収差測定装置を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1 Arイオンレーザ発振器(光源) 2 フィゾ
ーレンズ 3 フィゾー面(参照面) 4a 波面
干渉計部(干渉光学系) 5 反射球面 6 露光投
影レンズ(被検レンズ) 7 処理装置(処理手段) 8 ビーム
エキスパンダ 8A コリメータレンズ 9 反射ミ
ラー 10 ピエゾ素子(干渉縞走査手段) 11 撮像
素子(撮像手段) 12 光ファイバー 13 参照
光 14 被検光

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】i線用露光投影レンズを被検レンズとし、
    該被検レンズの波面収差を測定するi線用レンズの波面
    収差測定装置であって、 レーザ光を出射する光源と、 前記レーザ光を参照面及び前記被検レンズに入射させ、
    前記参照面で反射された参照光と、前記被検レンズを透
    過して反射球面で反射され、再び前記被検レンズを透過
    した被検光とを合成して干渉縞を発生させる干渉光学系
    と、 前記干渉縞を微小変化させる干渉縞走査手段と、 前記干渉光学系により発生する干渉縞を撮像し、該干渉
    縞の画像情報を出力する撮像手段と、 前記干渉縞の画像情報に基づき前記被検レンズの波面収
    差を計算する処理手段とを備えることを特徴とするi線
    用レンズの波面収差測定装置。
  2. 【請求項2】前記光源として、Arイオンレーザ光のシ
    ングルモードを出射するArイオンレーザ発振器を用い
    ることを特徴とする請求項1記載のi線用レンズの波面
    収差測定装置。
  3. 【請求項3】前記干渉光学系は、前記被検光が前記参照
    面を透過するフィゾー型干渉計で構成されていることを
    特徴とする請求項1又は2記載のi線用レンズの波面収
    差測定装置。
  4. 【請求項4】前記干渉縞走査手段は、前記参照面と前記
    反射球面のいずれか一方を光軸方向に微小変位させるよ
    うに構成されていることを特徴とする請求項1〜3のい
    ずれか1項に記載のi線用レンズの波面収差測定装置。
  5. 【請求項5】前記参照面及び前記反射球面をx,y,z
    方向へ移動させるステージと、前記参照面及び前記反射
    球面の位置を測定する測長干渉計とを更に含んでいるこ
    とを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のi
    線用レンズの波面収差測定装置。
  6. 【請求項6】前記処理手段は、i線の波長と前記Arイ
    オンレーザ光のシングルモードの発振波長との差を補正
    するように構成されていることを特徴とする請求項2〜
    5のいずれか1項に記載のi線用レンズの波面収差測定
    装置。
  7. 【請求項7】i線用露光投影レンズを被検レンズとし、
    該被検レンズの波面収差を測定するi線用レンズの波面
    収差測定方法であって、 Arイオンレーザ光のシングルモードをフィゾーレンズ
    及び前記被検レンズに入射させ、前記フィゾーレンズの
    フィゾー面で反射された参照光と、前記フィゾー面及び
    前記被検レンズを透過して反射球面で反射され、再び前
    記被検レンズを透過した被検光とを合成して干渉縞を発
    生させ、 干渉縞を微小変化させながら干渉縞を撮像し、かつ撮像
    された干渉縞の画像情報に基づき前記被検レンズの波面
    収差を計算することを特徴とするi線用レンズの波面収
    差測定方法。
JP8215399A 1996-07-25 1996-07-25 i線用レンズの波面収差測定装置及び方法 Pending JPH1038758A (ja)

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US08/899,688 US5898501A (en) 1996-07-25 1997-07-24 Apparatus and methods for measuring wavefront aberrations of a microlithography projection lens

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6639651B2 (en) 2000-12-14 2003-10-28 Nikon Corporation Fabrication method for correcting member, fabrication method for projection optical system, and exposure apparatus
US7102728B2 (en) 2002-02-27 2006-09-05 Nikon Corporation Imaging optical system evaluation method, imaging optical system adjustment method, exposure apparatus and exposure method

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