JP2003294410A - フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置 - Google Patents
フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィゾー型干渉における外乱の影響を確実に
抑える。 【解決手段】 干渉測定装置において被検面（１２ａ）
と相対して配置されるべきフィゾーレンズ（１３）を、
参照面（１３ａ）を有し最も前記被検面側に配置される
レンズ部（１３−１）と、それ以外の波面変換レンズ部
（１３−２）とに分離可能とし、少なくとも前記レンズ
部（１３−１）を、そのレンズ部の参照面（１３ａ）と
被検面（１２ａ）との間隔が、前記参照面の裏面（１３
ａ’）と前記波面変換レンズ部（１３−２）の最終面と
の間隔より短くなるよう設計する。そうすれば、被検光
束と参照光束との非共通光路が確実に短くなるので、そ
の分だけ外乱が測定結果に与える影響は抑えられる。
抑える。 【解決手段】 干渉測定装置において被検面（１２ａ）
と相対して配置されるべきフィゾーレンズ（１３）を、
参照面（１３ａ）を有し最も前記被検面側に配置される
レンズ部（１３−１）と、それ以外の波面変換レンズ部
（１３−２）とに分離可能とし、少なくとも前記レンズ
部（１３−１）を、そのレンズ部の参照面（１３ａ）と
被検面（１２ａ）との間隔が、前記参照面の裏面（１３
ａ’）と前記波面変換レンズ部（１３−２）の最終面と
の間隔より短くなるよう設計する。そうすれば、被検光
束と参照光束との非共通光路が確実に短くなるので、そ
の分だけ外乱が測定結果に与える影響は抑えられる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィゾー型干渉計
に適用されるフィゾーレンズに関する。また、本発明
は、そのフィゾーレンズを備えた干渉測定装置、そのフ
ィゾーレンズを利用した干渉測定方法、その干渉測定方
法が適用される投影光学系の製造方法、及びその投影光
学系を備えた投影露光装置に関する。
に適用されるフィゾーレンズに関する。また、本発明
は、そのフィゾーレンズを備えた干渉測定装置、そのフ
ィゾーレンズを利用した干渉測定方法、その干渉測定方
法が適用される投影光学系の製造方法、及びその投影光
学系を備えた投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズなどの球面の形状の測定に、干渉
測定が適用される。特に、投影光学系内のレンズなど、
高精度に加工すべき球面の測定には、測定精度の高いこ
とで知られたフィゾー型干渉測定装置が好適である。図
６は、従来のフィゾー型干渉測定装置を説明する図であ
る。
測定が適用される。特に、投影光学系内のレンズなど、
高精度に加工すべき球面の測定には、測定精度の高いこ
とで知られたフィゾー型干渉測定装置が好適である。図
６は、従来のフィゾー型干渉測定装置を説明する図であ
る。
【０００３】表面形状の干渉測定は、不図示の干渉計か
ら射出される測定光束Ｌ１を被検面６２ａと参照面６３
ａとに照射すると共に、被検面６２ａにおいて反射する
被検光束Ｌ２と、参照面６３ａにおいて反射する参照光
束Ｌ３とを干渉させ、生じた干渉縞を干渉計で検出する
ものである。その干渉縞が参照面６３ａを基準とした被
検面６２ａの形状を表す。
ら射出される測定光束Ｌ１を被検面６２ａと参照面６３
ａとに照射すると共に、被検面６２ａにおいて反射する
被検光束Ｌ２と、参照面６３ａにおいて反射する参照光
束Ｌ３とを干渉させ、生じた干渉縞を干渉計で検出する
ものである。その干渉縞が参照面６３ａを基準とした被
検面６２ａの形状を表す。
【０００４】フィゾー型干渉測定装置では、図６に示す
ように、干渉計と被検面６２ａとの間に、半透過性の球
面の参照面（以下、フィゾー面という。）６３ａを最終
面としたフィゾーレンズ６３を配置し、フィゾー面６３
ａを透過した測定光束Ｌ１を被検面６２ａに入射させて
被検光束Ｌ２を得る。よって、被検光束Ｌ２と参照光束
Ｌ３との非共通光路は、フィゾー面６３ａから被検面６
２ａまでの間隔ｄ１のみとなる。
ように、干渉計と被検面６２ａとの間に、半透過性の球
面の参照面（以下、フィゾー面という。）６３ａを最終
面としたフィゾーレンズ６３を配置し、フィゾー面６３
ａを透過した測定光束Ｌ１を被検面６２ａに入射させて
被検光束Ｌ２を得る。よって、被検光束Ｌ２と参照光束
Ｌ３との非共通光路は、フィゾー面６３ａから被検面６
２ａまでの間隔ｄ１のみとなる。
【０００５】このように非共通光路ｄ１の短いフィゾー
型干渉測定装置は、トワイマン・グリーン型干渉測定装
置などと比べて外乱（空気の揺らぎや振動による光学的
距離の不均一性）の影響を受けにくく、測定精度が高
い。なお、フィゾーレンズ６３は、球面のフィゾー面６
３ａを有すると共に、測定光束Ｌ１をそのフィゾー面６
３ａと同じ曲率中心の球面波に変換する複数の光学面
（屈折面）６３ｂを有している。
型干渉測定装置は、トワイマン・グリーン型干渉測定装
置などと比べて外乱（空気の揺らぎや振動による光学的
距離の不均一性）の影響を受けにくく、測定精度が高
い。なお、フィゾーレンズ６３は、球面のフィゾー面６
３ａを有すると共に、測定光束Ｌ１をそのフィゾー面６
３ａと同じ曲率中心の球面波に変換する複数の光学面
（屈折面）６３ｂを有している。
【０００６】測定時、被検面６２ａは、その曲率中心が
フィゾーレンズ６３のフィゾー面６３ａの曲率中心と一
致するよう配置される。よって、被検面６２ａとフィゾ
ー面６３ａとが共に凹の球面である場合、被検面６２ａ
の配置位置は、その曲率半径が大きくなるほど、フィゾ
ーレンズ６３から遠ざかる。
フィゾーレンズ６３のフィゾー面６３ａの曲率中心と一
致するよう配置される。よって、被検面６２ａとフィゾ
ー面６３ａとが共に凹の球面である場合、被検面６２ａ
の配置位置は、その曲率半径が大きくなるほど、フィゾ
ーレンズ６３から遠ざかる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、投影
露光装置では露光波長の短波長化が進み、光学素子の面
精度規格、及び面形状測定の精度に対する要求も厳しく
なりつつある。因みに、１０年前には露光波長はｉ線
（３６５ｎｍ）が主流であったが、現在は２４８ｎｍ、
近い将来には１９３ｎｍ、さらには１５７ｎｍという短
波長化が図られる。
露光装置では露光波長の短波長化が進み、光学素子の面
精度規格、及び面形状測定の精度に対する要求も厳しく
なりつつある。因みに、１０年前には露光波長はｉ線
（３６５ｎｍ）が主流であったが、現在は２４８ｎｍ、
近い将来には１９３ｎｍ、さらには１５７ｎｍという短
波長化が図られる。
【０００８】このため、上述したように非共通光路ｄ１
の短いフィゾー型干渉測定装置においても、将来は十分
な測定精度が得られず、その非共通光路ｄ１に対する僅
かな外乱の影響さえも無視できなくなる可能性がある。
そこで本発明は、外乱の影響を確実に抑えることのでき
るフィゾーレンズ、測定精度の高い干渉測定装置、測定
精度の高い干渉測定方法、高性能な投影光学系の製造方
法、及び高性能な投影露光装置を提供することを目的と
する。
の短いフィゾー型干渉測定装置においても、将来は十分
な測定精度が得られず、その非共通光路ｄ１に対する僅
かな外乱の影響さえも無視できなくなる可能性がある。
そこで本発明は、外乱の影響を確実に抑えることのでき
るフィゾーレンズ、測定精度の高い干渉測定装置、測定
精度の高い干渉測定方法、高性能な投影光学系の製造方
法、及び高性能な投影露光装置を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のフィゾ
ーレンズは、干渉測定装置において被検面と相対して配
置されるべきフィゾーレンズであって、参照面を有し、
最も前記被検面側に配置されるレンズ部と、それ以外の
波面変換レンズ部とに分離可能であり、少なくとも前記
レンズ部は、そのレンズ部の参照面と前記被検面との間
隔が、前記参照面の裏面と前記波面変換レンズ部の最終
面との間隔より短くなるよう設計されていることを特徴
とする。
ーレンズは、干渉測定装置において被検面と相対して配
置されるべきフィゾーレンズであって、参照面を有し、
最も前記被検面側に配置されるレンズ部と、それ以外の
波面変換レンズ部とに分離可能であり、少なくとも前記
レンズ部は、そのレンズ部の参照面と前記被検面との間
隔が、前記参照面の裏面と前記波面変換レンズ部の最終
面との間隔より短くなるよう設計されていることを特徴
とする。
【００１０】請求項２に記載のフィゾーレンズは、請求
項１に記載のフィゾーレンズにおいて、前記波面変換レ
ンズ部は、干渉計から射出される測定光束を球面波に変
換する球面発生レンズであり、前記レンズ部は、アプラ
ナチックレンズであることを特徴とする。請求項３に記
載のフィゾーレンズは、請求項１又は請求項２に記載の
フィゾーレンズにおいて、少なくとも前記レンズ部は、
そのレンズ部の参照面と前記被検面との間隔が５０ｍｍ
以下となるよう設計されていることを特徴とする。
項１に記載のフィゾーレンズにおいて、前記波面変換レ
ンズ部は、干渉計から射出される測定光束を球面波に変
換する球面発生レンズであり、前記レンズ部は、アプラ
ナチックレンズであることを特徴とする。請求項３に記
載のフィゾーレンズは、請求項１又は請求項２に記載の
フィゾーレンズにおいて、少なくとも前記レンズ部は、
そのレンズ部の参照面と前記被検面との間隔が５０ｍｍ
以下となるよう設計されていることを特徴とする。
【００１１】請求項４に記載の干渉測定装置は、干渉計
と被検面との間に、請求項１〜請求項３の何れか一項に
記載のフィゾーレンズを配置したことを特徴とする。請
求項５に記載の干渉測定装置は、請求項４に記載の干渉
測定装置において、前記フィゾーレンズ内の前記レンズ
部を前記被検面に対して固定する固定手段を備えたこと
を特徴とする。
と被検面との間に、請求項１〜請求項３の何れか一項に
記載のフィゾーレンズを配置したことを特徴とする。請
求項５に記載の干渉測定装置は、請求項４に記載の干渉
測定装置において、前記フィゾーレンズ内の前記レンズ
部を前記被検面に対して固定する固定手段を備えたこと
を特徴とする。
【００１２】請求項６に記載の干渉測定装置は、請求項
４又は請求項５に記載の干渉測定装置において、前記干
渉計の光源は、可干渉距離が前記被検面と前記レンズ部
の最終面との間隔の２〜４倍であることを特徴とする。
請求項７に記載の干渉測定装置は、請求項４〜請求項６
の何れか一項に記載の干渉測定装置において、前記参照
面において反射する参照光と、前記被検面において反射
する被検光との光学的距離の差を変化させる縞走査手段
を更に備えたことを特徴とする。
４又は請求項５に記載の干渉測定装置において、前記干
渉計の光源は、可干渉距離が前記被検面と前記レンズ部
の最終面との間隔の２〜４倍であることを特徴とする。
請求項７に記載の干渉測定装置は、請求項４〜請求項６
の何れか一項に記載の干渉測定装置において、前記参照
面において反射する参照光と、前記被検面において反射
する被検光との光学的距離の差を変化させる縞走査手段
を更に備えたことを特徴とする。
【００１３】請求項８に記載の干渉測定装置は、請求項
７に記載の干渉測定装置において、前記縞走査手段は、
前記干渉計の光源波長を変化させる波長変調手段である
ことを特徴とする。請求項９に記載の干渉測定方法は、
干渉計と被検面との間に請求項１〜請求項３の何れか一
項に記載のフィゾーレンズを配置してその被検面の干渉
測定を行うことを特徴とする。
７に記載の干渉測定装置において、前記縞走査手段は、
前記干渉計の光源波長を変化させる波長変調手段である
ことを特徴とする。請求項９に記載の干渉測定方法は、
干渉計と被検面との間に請求項１〜請求項３の何れか一
項に記載のフィゾーレンズを配置してその被検面の干渉
測定を行うことを特徴とする。
【００１４】請求項１０に記載の干渉測定方法は、請求
項９に記載の干渉測定方法において、複数種の被検面の
干渉測定を、被検面の種類に応じて前記フィゾーレンズ
内の前記レンズ部を交換しながら行うことを特徴とす
る。請求項１１に記載の投影光学系の製造方法は、請求
項９又は請求項１０に記載の干渉測定方法により投影光
学系内の何れかの被検面を干渉測定する手順を有するこ
とを特徴とする。
項９に記載の干渉測定方法において、複数種の被検面の
干渉測定を、被検面の種類に応じて前記フィゾーレンズ
内の前記レンズ部を交換しながら行うことを特徴とす
る。請求項１１に記載の投影光学系の製造方法は、請求
項９又は請求項１０に記載の干渉測定方法により投影光
学系内の何れかの被検面を干渉測定する手順を有するこ
とを特徴とする。
【００１５】請求項１２に記載の投影露光装置は、請求
項１１に記載の投影光学系の製造方法により製造された
投影光学系を有したことを特徴とする。
項１１に記載の投影光学系の製造方法により製造された
投影光学系を有したことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。
施形態について説明する。
【００１７】［第１実施形態］図１、図２を参照して本
発明の第１実施形態について説明する。本実施形態は、
フィゾー型干渉測定装置により凹球面（空気側に凹とな
った球面）の形状を測定するものである。図１は、本実
施形態の干渉測定装置１０の構成図である。
発明の第１実施形態について説明する。本実施形態は、
フィゾー型干渉測定装置により凹球面（空気側に凹とな
った球面）の形状を測定するものである。図１は、本実
施形態の干渉測定装置１０の構成図である。
【００１８】干渉測定装置１０には、フィゾー型の干渉
計１５、フィゾーレンズ１３、制御回路１８などが配置
される。フィゾーレンズ１３が配置されるのは、従来と
同様、被検物１２（凹球面上の被検面１２ａを有す
る。）と干渉計１５との間である。なお、干渉計１５に
は、従来の干渉計と同様、光源１１、ビームエキスパン
ダ１４ａ、ビームスプリッタ１４ｂ、光束径変換光学系
１４ｃ、撮像素子１６などが備えられる。干渉計１５
は、平行光束である測定光束Ｌ１をフィゾーレンズ１３
に入射させると共に、フィゾーレンズ１３のフィゾー面
１３ａにおける反射光束（参照光束）Ｌ３と、被検面１
２ａにおける反射光束（被検光束Ｌ２）とを干渉させ、
生起した干渉縞を検出する。干渉計１５は（制御回路１
８などを介して）外部のコンピュータなどの演算装置に
接続されていてもよい。
計１５、フィゾーレンズ１３、制御回路１８などが配置
される。フィゾーレンズ１３が配置されるのは、従来と
同様、被検物１２（凹球面上の被検面１２ａを有す
る。）と干渉計１５との間である。なお、干渉計１５に
は、従来の干渉計と同様、光源１１、ビームエキスパン
ダ１４ａ、ビームスプリッタ１４ｂ、光束径変換光学系
１４ｃ、撮像素子１６などが備えられる。干渉計１５
は、平行光束である測定光束Ｌ１をフィゾーレンズ１３
に入射させると共に、フィゾーレンズ１３のフィゾー面
１３ａにおける反射光束（参照光束）Ｌ３と、被検面１
２ａにおける反射光束（被検光束Ｌ２）とを干渉させ、
生起した干渉縞を検出する。干渉計１５は（制御回路１
８などを介して）外部のコンピュータなどの演算装置に
接続されていてもよい。
【００１９】図２は、本実施形態のフィゾーレンズを説
明する図である。本実施形態のフィゾーレンズ１３は、
球面のフィゾー面１３ａを有した最終レンズ１３−１
と、それ以外の波面変換レンズ１３−２とに分離可能で
ある。つまり、最終レンズ１３−１を支持するホルダＨ
１３−１と、波面変換レンズ１３−２を支持するホルダ
Ｈ１３−２とが、別体で形成される。なお、図２中符号
Ｈ１２は、被検物１２を支持するホルダである。
明する図である。本実施形態のフィゾーレンズ１３は、
球面のフィゾー面１３ａを有した最終レンズ１３−１
と、それ以外の波面変換レンズ１３−２とに分離可能で
ある。つまり、最終レンズ１３−１を支持するホルダＨ
１３−１と、波面変換レンズ１３−２を支持するホルダ
Ｈ１３−２とが、別体で形成される。なお、図２中符号
Ｈ１２は、被検物１２を支持するホルダである。
【００２０】ここで、最終レンズ１３−１のフィゾー面
１３ａの曲率中心は、従来のフィゾー面６３ａのそれと
同様、被検面１２ａの曲率中心に一致する。また、フィ
ゾー面１３ａの裏面１３ａ’及び波面変換レンズ１３−
２からなる系は、測定光束Ｌ１をそのフィゾー面１３ａ
と同じ曲率中心を有した球面波に変換する。但し、本実
施形態では、フィゾーレンズ１３内の少なくとも最終レ
ンズ１３−１は、被検面１２ａとの間隔、つまり被検光
束Ｌ２と参照光束Ｌ３との非共通光路ｄ１が、波面変換
レンズ１３−２との間隔ｄ２より短くなるよう設計され
ている。
１３ａの曲率中心は、従来のフィゾー面６３ａのそれと
同様、被検面１２ａの曲率中心に一致する。また、フィ
ゾー面１３ａの裏面１３ａ’及び波面変換レンズ１３−
２からなる系は、測定光束Ｌ１をそのフィゾー面１３ａ
と同じ曲率中心を有した球面波に変換する。但し、本実
施形態では、フィゾーレンズ１３内の少なくとも最終レ
ンズ１３−１は、被検面１２ａとの間隔、つまり被検光
束Ｌ２と参照光束Ｌ３との非共通光路ｄ１が、波面変換
レンズ１３−２との間隔ｄ２より短くなるよう設計され
ている。
【００２１】本実施形態では、被検面１２ａが凹球面な
ので、非共通光路ｄ１を十分に短くするために、フィゾ
ー面１３ａは凸球面となる。以上のようにフィゾーレン
ズ１３の各部を設計しておけば、被検面１２ａの曲率半
径が如何なる大きさだったとしても、従来よりも確実に
短い非共通光路ｄ１の下で測定が可能となる。そして、
非共通光路ｄ１が短くなった分だけ測定結果に対する外
乱の影響が抑えられる。
ので、非共通光路ｄ１を十分に短くするために、フィゾ
ー面１３ａは凸球面となる。以上のようにフィゾーレン
ズ１３の各部を設計しておけば、被検面１２ａの曲率半
径が如何なる大きさだったとしても、従来よりも確実に
短い非共通光路ｄ１の下で測定が可能となる。そして、
非共通光路ｄ１が短くなった分だけ測定結果に対する外
乱の影響が抑えられる。
【００２２】なお、非共通光路ｄ１を５０ｍｍ以下とす
れば、より確実に外乱の影響が抑えられるので好まし
い。ところで、このような本実施形態では、被検面１２
ａの曲率半径に近い曲率半径のフィゾー面１３ａを用意
しなければならない。したがって、互いに曲率半径の異
なる各種の被検面１２ａをそれぞれ測定する場合、各種
の最終レンズ１３−１を用意する必要がある。
れば、より確実に外乱の影響が抑えられるので好まし
い。ところで、このような本実施形態では、被検面１２
ａの曲率半径に近い曲率半径のフィゾー面１３ａを用意
しなければならない。したがって、互いに曲率半径の異
なる各種の被検面１２ａをそれぞれ測定する場合、各種
の最終レンズ１３−１を用意する必要がある。
【００２３】しかし、各種の最終レンズ１３−１と共
に、それに対応する各種の波面変換レンズ１３−２をそ
れぞれ用意するのは、コスト高となり不経済である。よ
って、波面変換レンズ１３−２は汎用性のあるレンズ、
最終レンズ１３−１は、作製が容易な単純なレンズであ
ることが望まれる。この場合、波面変換レンズ１３−２
として最適なのは、平行光束である測定光束Ｌ１を球面
波（以下、集束球面波とする。）に変換する球面発生レ
ンズである。球面発生レンズは、光軸方向の各位置にそ
れぞれ異なる曲率半径の球面波を形成するので、汎用性
が高い。
に、それに対応する各種の波面変換レンズ１３−２をそ
れぞれ用意するのは、コスト高となり不経済である。よ
って、波面変換レンズ１３−２は汎用性のあるレンズ、
最終レンズ１３−１は、作製が容易な単純なレンズであ
ることが望まれる。この場合、波面変換レンズ１３−２
として最適なのは、平行光束である測定光束Ｌ１を球面
波（以下、集束球面波とする。）に変換する球面発生レ
ンズである。球面発生レンズは、光軸方向の各位置にそ
れぞれ異なる曲率半径の球面波を形成するので、汎用性
が高い。
【００２４】しかも、球面発生レンズは、複数枚の光学
素子（屈折レンズ）を要すが、その設計及び組み付けが
容易であると共に、他の光学素子（ここでは、最終レン
ズ１３−１や被検物１２）との位置合わせをも容易にす
る。そして、この波面変換レンズ１３−２と共に使用さ
れ得る最終レンズ１３−１は、アプラナチックレンズで
ある。
素子（屈折レンズ）を要すが、その設計及び組み付けが
容易であると共に、他の光学素子（ここでは、最終レン
ズ１３−１や被検物１２）との位置合わせをも容易にす
る。そして、この波面変換レンズ１３−２と共に使用さ
れ得る最終レンズ１３−１は、アプラナチックレンズで
ある。
【００２５】アプラナチックレンズは、光軸上に曲率中
心を有する球面波を、収差を悪化させることなく別の球
面波に変換する。なお、最終レンズ１３−１のフィゾー
面１３ａの形状（曲率半径の大きさ及び正負）は、被検
面１２ａの形状、及び付与すべき非共通光路ｄ１の値
（例えば５０ｍｍ以下の所定値）によって決まるので、
フィゾー面１３ａの裏面１３ａ’や最終レンズ１３−１
のレンズ厚、及び材料などを決定する際に、アプラナチ
ック条件が考慮される。
心を有する球面波を、収差を悪化させることなく別の球
面波に変換する。なお、最終レンズ１３−１のフィゾー
面１３ａの形状（曲率半径の大きさ及び正負）は、被検
面１２ａの形状、及び付与すべき非共通光路ｄ１の値
（例えば５０ｍｍ以下の所定値）によって決まるので、
フィゾー面１３ａの裏面１３ａ’や最終レンズ１３−１
のレンズ厚、及び材料などを決定する際に、アプラナチ
ック条件が考慮される。
【００２６】アプラナチックレンズの設計手法は、一般
的なので、最終レンズ１３−１は容易に作製される。そ
して、この最終レンズ１３−１及び被検物１２は、波面
変換レンズ１３−２の生成する球面波の発散部分に挿入
され、干渉計１５で観察される干渉縞がほぼ一色となる
ようアライメントされる。
的なので、最終レンズ１３−１は容易に作製される。そ
して、この最終レンズ１３−１及び被検物１２は、波面
変換レンズ１３−２の生成する球面波の発散部分に挿入
され、干渉計１５で観察される干渉縞がほぼ一色となる
ようアライメントされる。
【００２７】図２には、以上の被検物１２、最終レンズ
１３−１、波面変換レンズ１３−２がアライメントされ
た状態を示した。最終レンズ１３−１は、波面変換レン
ズ１３−２から入射した球面波を、被検面１２ａと同じ
曲率中心の球面波に変換している。この状態で、測定が
可能である。さらに、別の種類の被検面１２ａを測定す
る際には、最終レンズ１３−１をその被検面１２ａの設
計形状に対応したアプラナチックレンズに変更するだけ
で、波面変換レンズ１３−２をそのまま使用してコスト
を抑えることができる。
１３−１、波面変換レンズ１３−２がアライメントされ
た状態を示した。最終レンズ１３−１は、波面変換レン
ズ１３−２から入射した球面波を、被検面１２ａと同じ
曲率中心の球面波に変換している。この状態で、測定が
可能である。さらに、別の種類の被検面１２ａを測定す
る際には、最終レンズ１３−１をその被検面１２ａの設
計形状に対応したアプラナチックレンズに変更するだけ
で、波面変換レンズ１３−２をそのまま使用してコスト
を抑えることができる。
【００２８】なお、本実施形態の干渉測定装置１０で
は、測定時、被検物１２と最終レンズ１３−１とが互い
に固定されることが好ましい。本実施形態では、非共通
光路ｄ１が短いため、それらを固定しておけば、仮に外
部から振動が与えられても、被検物１２と最終レンズ１
３−１とが略同じ方向に振動するので、振動による測定
結果への影響が極めて小さく抑えられる。
は、測定時、被検物１２と最終レンズ１３−１とが互い
に固定されることが好ましい。本実施形態では、非共通
光路ｄ１が短いため、それらを固定しておけば、仮に外
部から振動が与えられても、被検物１２と最終レンズ１
３−１とが略同じ方向に振動するので、振動による測定
結果への影響が極めて小さく抑えられる。
【００２９】また、干渉測定装置１０には、位相シフト
干渉法（フリンジスキャン干渉法）が適用されるべく、
被検光束Ｌ２と参照光束Ｌ３との幾何学的距離を微動さ
せる移動機構（ピエゾ素子など）１７が備えられていて
もよい。位相シフト干渉法が適用される場合、制御回路
１８は、移動機構１７と干渉計１５内の所定の要素（例
えば撮像素子１６）とを同期制御する。
干渉法（フリンジスキャン干渉法）が適用されるべく、
被検光束Ｌ２と参照光束Ｌ３との幾何学的距離を微動さ
せる移動機構（ピエゾ素子など）１７が備えられていて
もよい。位相シフト干渉法が適用される場合、制御回路
１８は、移動機構１７と干渉計１５内の所定の要素（例
えば撮像素子１６）とを同期制御する。
【００３０】本実施形態では、微動の対象は、最終レン
ズ１３−１と被検物１２との何れか一方又は双方であ
る。また、図３に示すのは、被検物１２と最終レンズ１
３−１とが互いに固定され、かつ、被検物１２が最終レ
ンズ１３−１に対し微動可能とした場合の例である。図
３（ａ）は被検物１２の周辺の断面図、図３（ｂ）は被
検物１２の周辺の斜視図である。
ズ１３−１と被検物１２との何れか一方又は双方であ
る。また、図３に示すのは、被検物１２と最終レンズ１
３−１とが互いに固定され、かつ、被検物１２が最終レ
ンズ１３−１に対し微動可能とした場合の例である。図
３（ａ）は被検物１２の周辺の断面図、図３（ｂ）は被
検物１２の周辺の斜視図である。
【００３１】一般に、干渉測定装置内の各光学素子は、
それぞれ姿勢を微調整するために、図３（ａ）（ｂ）に
示すようにそれぞれステージ（例えば、ＸＹＺステージ
のような、シフト及びチルトが可能なステージであ
る。）によって支持される必要がある。図３（ａ）
（ｂ）において、符号Ｓ１２、Ｓ１３−１は、それぞれ
被検物１２を（ホルダＨ１２を介して）支持するステー
ジ、最終レンズ１３−１を（ホルダＨ１３−１を介し
て）支持するステージである。
それぞれ姿勢を微調整するために、図３（ａ）（ｂ）に
示すようにそれぞれステージ（例えば、ＸＹＺステージ
のような、シフト及びチルトが可能なステージであ
る。）によって支持される必要がある。図３（ａ）
（ｂ）において、符号Ｓ１２、Ｓ１３−１は、それぞれ
被検物１２を（ホルダＨ１２を介して）支持するステー
ジ、最終レンズ１３−１を（ホルダＨ１３−１を介し
て）支持するステージである。
【００３２】そして、被検物１２と最終レンズ１３−１
とを互いに固定し、かつ被検物１２の方を微動させるた
めに、ステージＳ１２とステージＳ１３−１との間に、
光軸方向に微小距離Δだけ伸縮するピエゾ素子（移動機
構）１７が介設される。また、最終レンズ１３−１を支
持するステージＳ１３−１は、干渉計１５及び波面変換
レンズ１３−２が固定されているのと共通の架台（不図
示）上に固定される。
とを互いに固定し、かつ被検物１２の方を微動させるた
めに、ステージＳ１２とステージＳ１３−１との間に、
光軸方向に微小距離Δだけ伸縮するピエゾ素子（移動機
構）１７が介設される。また、最終レンズ１３−１を支
持するステージＳ１３−１は、干渉計１５及び波面変換
レンズ１３−２が固定されているのと共通の架台（不図
示）上に固定される。
【００３３】次に、従来、一般の干渉測定装置では、光
源１１（図１参照）の干渉性（可干渉距離）は高い（長
い）ほど良いとされていた。干渉縞を観察するには、光
源１１の可干渉距離を非共通光路ｄ１（＝フィゾー面と
被検面との間隔）の２倍以上にする必要があるからであ
る。その一方で、光源１１の可干渉距離が必要以上に長
いと、必要な面以外での反射光までもが干渉し、測定結
果に誤差（コヒーレントノイズ）が生じる。
源１１（図１参照）の干渉性（可干渉距離）は高い（長
い）ほど良いとされていた。干渉縞を観察するには、光
源１１の可干渉距離を非共通光路ｄ１（＝フィゾー面と
被検面との間隔）の２倍以上にする必要があるからであ
る。その一方で、光源１１の可干渉距離が必要以上に長
いと、必要な面以外での反射光までもが干渉し、測定結
果に誤差（コヒーレントノイズ）が生じる。
【００３４】よって、非共通光路ｄ１の長かった従来の
干渉測定装置は、コヒーレントノイズを許容せざるを得
なかった。しかし、本実施形態では、非共通光路ｄ１が
従来よりも短いので、光源１１に要求される可干渉距離
は、短くなる。そこで、光源１１の可干渉距離は、積極
的に必要最小限に止め、非共通光路ｄ１（＝フィゾー面
と被検面との間隔）の２倍〜４倍に収められることが好
ましい。
干渉測定装置は、コヒーレントノイズを許容せざるを得
なかった。しかし、本実施形態では、非共通光路ｄ１が
従来よりも短いので、光源１１に要求される可干渉距離
は、短くなる。そこで、光源１１の可干渉距離は、積極
的に必要最小限に止め、非共通光路ｄ１（＝フィゾー面
と被検面との間隔）の２倍〜４倍に収められることが好
ましい。
【００３５】このように光源１１を最適化すれば、コヒ
ーレントノイズが抑えられ、測定精度がさらに高まる。
また、コヒーレントノイズを抑える周知の手法を組み合
わせれば、さらに測定精度を高めることができる。ま
た、位相シフト干渉法が適用される場合、移動機構１７
（図１、図３参照）を備える代わりに波長を変調しても
よい。すなわち、波長が可変の半導体レーザを光源１１
として使用してもよい。半導体レーザは、波長を変更す
ることが可能である代わりに可干渉距離が短いので、従
来の干渉測定装置には好適とされていなかったが、本実
施形態の干渉測定装置１０は、必要な可干渉距離が短い
ので、半導体レーザも好適となる。なお、この半導体レ
ーザが適用される場合、制御回路１８は、半導体レーザ
と干渉計１５内の所定の要素（例えば撮像素子１６）と
を同期制御する。
ーレントノイズが抑えられ、測定精度がさらに高まる。
また、コヒーレントノイズを抑える周知の手法を組み合
わせれば、さらに測定精度を高めることができる。ま
た、位相シフト干渉法が適用される場合、移動機構１７
（図１、図３参照）を備える代わりに波長を変調しても
よい。すなわち、波長が可変の半導体レーザを光源１１
として使用してもよい。半導体レーザは、波長を変更す
ることが可能である代わりに可干渉距離が短いので、従
来の干渉測定装置には好適とされていなかったが、本実
施形態の干渉測定装置１０は、必要な可干渉距離が短い
ので、半導体レーザも好適となる。なお、この半導体レ
ーザが適用される場合、制御回路１８は、半導体レーザ
と干渉計１５内の所定の要素（例えば撮像素子１６）と
を同期制御する。
【００３６】［第２実施形態］図４を参照して本発明の
第２実施形態について説明する。ここでは、第１実施形
態との相違点についてのみ説明する。本実施形態では、
第１実施形態と異なり、測定対象が凸球面（空気側に凸
となった球面）である。
第２実施形態について説明する。ここでは、第１実施形
態との相違点についてのみ説明する。本実施形態では、
第１実施形態と異なり、測定対象が凸球面（空気側に凸
となった球面）である。
【００３７】図４は、本実施形態のフィゾーレンズを説
明する図である。先ず、本実施形態のフィゾーレンズ２
３にも、第１実施形態で説明したものと同様、球面発生
レンズである波面変換レンズ１３−２と、アプラナチッ
クレンズである最終レンズ２３−１とが備えられる。こ
こで、凸球面状の被検面２２ａを測定する場合も、波面
変換レンズ１３−２としては、第１実施形態と同じもの
（図２参照）を使用できる。
明する図である。先ず、本実施形態のフィゾーレンズ２
３にも、第１実施形態で説明したものと同様、球面発生
レンズである波面変換レンズ１３−２と、アプラナチッ
クレンズである最終レンズ２３−１とが備えられる。こ
こで、凸球面状の被検面２２ａを測定する場合も、波面
変換レンズ１３−２としては、第１実施形態と同じもの
（図２参照）を使用できる。
【００３８】一方、最終レンズ２３−１のフィゾー面２
３ａの形状（曲率半径の大きさ及び正負）は、測定対象
である被検面２２ａの設計形状（曲率半径の大きさ及び
正負）、及び付与すべき非共通光路ｄ１の値（例えば５
０ｍｍ以下の所定値）に応じて設計される。また、フィ
ゾー面２３ａの裏面２３ａ’や最終レンズ２３−１のレ
ンズ厚、及び材料などを決定する際には、アプラナチッ
ク条件が考慮される。
３ａの形状（曲率半径の大きさ及び正負）は、測定対象
である被検面２２ａの設計形状（曲率半径の大きさ及び
正負）、及び付与すべき非共通光路ｄ１の値（例えば５
０ｍｍ以下の所定値）に応じて設計される。また、フィ
ゾー面２３ａの裏面２３ａ’や最終レンズ２３−１のレ
ンズ厚、及び材料などを決定する際には、アプラナチッ
ク条件が考慮される。
【００３９】本実施形態では、被検面２２ａが凸球面な
ので、非共通光路ｄ１を十分に短くするために、フィゾ
ー面２３ａは凹球面となる。そして、この最終レンズ２
３−１及び被検物２２は、波面変換レンズ１３−２の生
成する球面波の集束部分に挿入され、干渉計１５（図１
参照）で観察される干渉縞がほぼ一色となるようアライ
メントされる。
ので、非共通光路ｄ１を十分に短くするために、フィゾ
ー面２３ａは凹球面となる。そして、この最終レンズ２
３−１及び被検物２２は、波面変換レンズ１３−２の生
成する球面波の集束部分に挿入され、干渉計１５（図１
参照）で観察される干渉縞がほぼ一色となるようアライ
メントされる。
【００４０】図４には、以上の被検物２２、最終レンズ
２３−１、波面変換レンズ１３−２がアライメントされ
た状態を示した。最終レンズ２３−１は、波面変換レン
ズ１３−２から入射した球面波を、被検面２２ａと同じ
曲率中心の球面波に変換している。図４と図２とを比較
すると明らかなように、本実施形態では被検面２２ａの
形状が凸なので、被検物２２及び最終レンズ２３−１の
挿入される位置が第１実施形態とは異なるが、波面変換
レンズ１３−２から射出された球面波が被検面２２ａと
同じ曲率中心を有した球面波に変換されている点は、第
１実施形態と同じである。
２３−１、波面変換レンズ１３−２がアライメントされ
た状態を示した。最終レンズ２３−１は、波面変換レン
ズ１３−２から入射した球面波を、被検面２２ａと同じ
曲率中心の球面波に変換している。図４と図２とを比較
すると明らかなように、本実施形態では被検面２２ａの
形状が凸なので、被検物２２及び最終レンズ２３−１の
挿入される位置が第１実施形態とは異なるが、波面変換
レンズ１３−２から射出された球面波が被検面２２ａと
同じ曲率中心を有した球面波に変換されている点は、第
１実施形態と同じである。
【００４１】以上説明したように、凸球面の被検面２２
ａを測定する際にも、最終レンズ２３−１をその被検面
２２ａの設計形状に対応したアプラナチックレンズとす
るだけで、波面変換レンズ１３−２をそのまま使用して
コストを抑えることができる。なお、図４において符号
Ｈ２２、Ｈ２３−１は、それぞれ被検物２２用のホル
ダ、最終レンズ２３−１用のホルダである。
ａを測定する際にも、最終レンズ２３−１をその被検面
２２ａの設計形状に対応したアプラナチックレンズとす
るだけで、波面変換レンズ１３−２をそのまま使用して
コストを抑えることができる。なお、図４において符号
Ｈ２２、Ｈ２３−１は、それぞれ被検物２２用のホル
ダ、最終レンズ２３−１用のホルダである。
【００４２】［第３実施形態］図５を参照して本発明の
第３実施形態について説明する。図５は、本実施形態に
係る投影露光装置の概略構成図である。この投影露光装
置に搭載された投影光学系Ｌを構成する少なくとも１つ
の光学素子は、その製造時、その面形状が、上記各実施
形態に係る何れかの干渉測定によって測定されている。
そして、投影光学系Ｌの少なくとも何れかの面は、その
測定結果に応じて加工及び／又は調整されたとする。
第３実施形態について説明する。図５は、本実施形態に
係る投影露光装置の概略構成図である。この投影露光装
置に搭載された投影光学系Ｌを構成する少なくとも１つ
の光学素子は、その製造時、その面形状が、上記各実施
形態に係る何れかの干渉測定によって測定されている。
そして、投影光学系Ｌの少なくとも何れかの面は、その
測定結果に応じて加工及び／又は調整されたとする。
【００４３】上記各実施形態によれば、測定が高精度で
行われるので、前記加工（及び／又は調整）の方法がた
とえ従来と同じであったとしても、投影レンズは高精度
に製造される。なお、投影露光装置は、少なくともウエ
ハステージ１０８と、光を供給するための光源部１０１
と、投影光学系Ｌとを含む。ここで、ウエハステージ１
０８は、感光剤を塗布した基板（ウエハ）Ｗを表面１０
８ａ上に置くことができる。また、ステージ制御系１０
７は、ウエハステージ１０８の位置を制御する。投影光
学系Ｌは、上述のように上記各実施形態に係る干渉測定
装置を用いて製造された高精度投影レンズである。また
投影光学系Ｌは、レチクル（マスク）Ｒが配置された物
体面Ｐ１と、ウエハＷの表面に一致させた像面Ｐ２との
間に配置される。さらに投影光学系Ｌは、スキャンタイ
プの投影露光装置に応用されるアライメント光学系を有
する。さらに照明光学系１０２は、レチクルＲとウエハ
Ｗとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学
系１０３を含む。レチクルＲは、該レチクルＲのパター
ンのイメージをウエハＷ上に投影するためのものであ
り、ウエハステージ１０８の表面１０８ａに対して平行
移動が可能であるレチクルステージ１０５上に配置され
る。そしてレチクル交換系１０４は、レチクルステージ
１０５上にセットされたレチクルＲを交換し運搬する。
またレチクル交換系１０４は、ウエハステージ１０８の
表面１０８ａに対し、レチクルステージ１０５を平行移
動させるためのステージドライバー（不図示）を含む。
また、主制御部１０９は位置合わせから露光までの一連
の処理に関する制御を行う。
行われるので、前記加工（及び／又は調整）の方法がた
とえ従来と同じであったとしても、投影レンズは高精度
に製造される。なお、投影露光装置は、少なくともウエ
ハステージ１０８と、光を供給するための光源部１０１
と、投影光学系Ｌとを含む。ここで、ウエハステージ１
０８は、感光剤を塗布した基板（ウエハ）Ｗを表面１０
８ａ上に置くことができる。また、ステージ制御系１０
７は、ウエハステージ１０８の位置を制御する。投影光
学系Ｌは、上述のように上記各実施形態に係る干渉測定
装置を用いて製造された高精度投影レンズである。また
投影光学系Ｌは、レチクル（マスク）Ｒが配置された物
体面Ｐ１と、ウエハＷの表面に一致させた像面Ｐ２との
間に配置される。さらに投影光学系Ｌは、スキャンタイ
プの投影露光装置に応用されるアライメント光学系を有
する。さらに照明光学系１０２は、レチクルＲとウエハ
Ｗとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学
系１０３を含む。レチクルＲは、該レチクルＲのパター
ンのイメージをウエハＷ上に投影するためのものであ
り、ウエハステージ１０８の表面１０８ａに対して平行
移動が可能であるレチクルステージ１０５上に配置され
る。そしてレチクル交換系１０４は、レチクルステージ
１０５上にセットされたレチクルＲを交換し運搬する。
またレチクル交換系１０４は、ウエハステージ１０８の
表面１０８ａに対し、レチクルステージ１０５を平行移
動させるためのステージドライバー（不図示）を含む。
また、主制御部１０９は位置合わせから露光までの一連
の処理に関する制御を行う。
【００４４】［その他］なお、図２、図４には、球面の
屈折面のみからなるフィゾーレンズを示したが、本実施
形態のフィゾーレンズには、球面の屈折面、非球面の屈
折面、平面の屈折面、回折面などの何れの光学面が含ま
れていてもよい。また、上記各実施形態では、被検面が
凹又は凸の球面である場合を説明したが、凹又は凸の非
球面（回転対称な非球面）であるときにも本発明は適用
可能である。
屈折面のみからなるフィゾーレンズを示したが、本実施
形態のフィゾーレンズには、球面の屈折面、非球面の屈
折面、平面の屈折面、回折面などの何れの光学面が含ま
れていてもよい。また、上記各実施形態では、被検面が
凹又は凸の球面である場合を説明したが、凹又は凸の非
球面（回転対称な非球面）であるときにも本発明は適用
可能である。
【００４５】また、その場合、フィゾー面を非球面とし
てもよい。但し、少なくとも、フィゾー面から射出する
光束は被検面に略垂直で略同位相で入射し、フィゾー面
の裏面から射出する光束はフィゾー面に略垂直で略同位
相で入射する。また、上記各実施形態では、最終レンズ
が１枚のレンズで構成されるとしたが、複数枚のレンズ
で構成されてもよい。但し、各種の被検面を測定する場
合には、上述したように最終レンズも各種用意される必
要があるので、１枚のレンズで構成される方が、コスト
を抑える上で好ましい。
てもよい。但し、少なくとも、フィゾー面から射出する
光束は被検面に略垂直で略同位相で入射し、フィゾー面
の裏面から射出する光束はフィゾー面に略垂直で略同位
相で入射する。また、上記各実施形態では、最終レンズ
が１枚のレンズで構成されるとしたが、複数枚のレンズ
で構成されてもよい。但し、各種の被検面を測定する場
合には、上述したように最終レンズも各種用意される必
要があるので、１枚のレンズで構成される方が、コスト
を抑える上で好ましい。
【００４６】また、図２、図４では、波面変換レンズに
正のパワーが付与された（集束波を発生する）場合を示
したが、負のパワー（発散波を生成する）が付与されて
もよい。
正のパワーが付与された（集束波を発生する）場合を示
したが、負のパワー（発散波を生成する）が付与されて
もよい。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
外乱の影響を確実に抑えることのできるフィゾーレン
ズ、測定精度の高い干渉測定装置、測定精度の高い干渉
測定方法、高性能な投影光学系の製造方法、及び高性能
な投影露光装置が実現する。
外乱の影響を確実に抑えることのできるフィゾーレン
ズ、測定精度の高い干渉測定装置、測定精度の高い干渉
測定方法、高性能な投影光学系の製造方法、及び高性能
な投影露光装置が実現する。
【図１】第１実施形態の干渉測定装置１０の構成図であ
る。
る。
【図２】第１実施形態のフィゾーレンズを説明する図で
ある。
ある。
【図３】被検物１２と最終レンズ１３−１とが互いに固
定され、かつ、被検物１２が微動可能とした場合の例を
示す図である。図３（ａ）は被検物１２の周辺の断面
図、図３（ｂ）は被検物１２の周辺の斜視図である。
定され、かつ、被検物１２が微動可能とした場合の例を
示す図である。図３（ａ）は被検物１２の周辺の断面
図、図３（ｂ）は被検物１２の周辺の斜視図である。
【図４】第２実施形態のフィゾーレンズを説明する図で
ある。
ある。
【図５】第３実施形態に係る投影露光装置の概略構成図
である。
である。
【図６】従来のフィゾー型干渉測定装置を説明する図で
ある。
ある。
１２ 被検物
１２ａ，６２ａ，２２ａ 被検面
１３，６３ フィゾーレンズ
１３ａ，６３ａ フィゾー面
１３−１ 最終レンズ
１３−２ 波面変換レンズ
Ｈ１２，Ｈ１３−１，Ｈ１３−２ ホルダ
Ｌ１ 測定光束
Ｌ２ 被検光束
Ｌ３ 参照光束
ｄ１ 非共通光路
１５ 干渉計
１１ 光源
１４ａ ビームエキスパンダ
１４ｂ ビームスプリッタ
１４ｃ 光束径変換光学系１４ｃ
１６ 撮像素子
１７ 移動機構（ピエゾ素子など）
１８ 制御回路
１０１ 光源部
１０２ 照明光学系
１０３ アライメント光学系
１０４ レチクル交換系
１０５ レチクルステージ
１０７ ステージ制御系
１０８ ウエハステージ
１０９ 主制御部
Ｌ 投影光学系
Ｒ レチクル
Ｗ ウエハ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F064 AA09 AA15 BB04 CC01 EE05
FF01 GG47 GG53 HH08
2G086 FF03
2H087 KA12 LA21 NA04 PA04 PA17
PB04
5F046 BA03 CA08 CB12 CB25 DA12
Claims (12)
- 【請求項１】 干渉測定装置において被検面と相対して
配置されるべきフィゾーレンズであって、 参照面を有し、最も前記被検面側に配置されるレンズ部
と、それ以外の波面変換レンズ部とに分離可能であり、 少なくとも前記レンズ部は、そのレンズ部の参照面と前
記被検面との間隔が、前記参照面の裏面と前記波面変換
レンズ部の最終面との間隔より短くなるよう設計されて
いることを特徴とするフィゾーレンズ。 - 【請求項２】 請求項１に記載のフィゾーレンズにおい
て、 前記波面変換レンズ部は、干渉計から射出される測定光
束を球面波に変換する球面発生レンズであり、 前記レンズ部は、アプラナチックレンズであることを特
徴とするフィゾーレンズ。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載のフィゾー
レンズにおいて、 少なくとも前記レンズ部は、そのレンズ部の参照面と前
記被検面との間隔が５０ｍｍ以下となるよう設計されて
いることを特徴とするフィゾーレンズ。 - 【請求項４】 干渉計と被検面との間に、請求項１〜請
求項３の何れか一項に記載のフィゾーレンズを備えたこ
とを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の干渉測定装置におい
て、 前記フィゾーレンズ内の前記レンズ部を前記被検面に対
して固定する固定手段を備えたことを特徴とする干渉測
定装置。 - 【請求項６】 請求項４又は請求項５に記載の干渉測定
装置において、 前記干渉計の光源は、 可干渉距離が前記被検面と前記レンズ部の最終面との間
隔の２〜４倍であることを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項７】 請求項４〜請求項６の何れか一項に記載
の干渉測定装置において、 前記参照面において反射する参照光と、前記被検面にお
いて反射する被検光との光学的距離の差を変化させる縞
走査手段を更に備えたことを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項８】 請求項７に記載の干渉測定装置におい
て、 前記縞走査手段は、 前記干渉計の光源波長を変化させる波長変調手段である
ことを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項９】 干渉計と被検面との間に請求項１〜請求
項３の何れか一項に記載のフィゾーレンズを配置してそ
の被検面の干渉測定を行うことを特徴とする干渉測定方
法。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の干渉測定方法におい
て、 複数種の被検面の干渉測定を、被検面の種類に応じて前
記フィゾーレンズ内の前記レンズ部を交換しながら行う
ことを特徴とする干渉測定方法。 - 【請求項１１】 請求項９又は請求項１０に記載の干渉
測定方法により投影光学系内の何れかの被検面を干渉測
定する手順を有することを特徴とする投影光学系の製造
方法。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の投影光学系の製造
方法により製造された投影光学系を有したことを特徴と
する投影露光装置。
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP2002098516A JP2003294410A (ja) | 2002-04-01 | 2002-04-01 | フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置 |
| AU2003221011A AU2003221011A1 (en) | 2002-04-01 | 2003-03-31 | Fizeau lens, interference measuring device, interference measuring method, method of manufacturing projective optical system, and projective exposure device |
| PCT/JP2003/004073 WO2003083408A1 (fr) | 2002-04-01 | 2003-03-31 | Lentille de fizeau, dispositif et procede de mesure d'interference, procede de fabrication d'un systeme optique de projection, et dispositif d'exposition par projection |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002098516A JP2003294410A (ja) | 2002-04-01 | 2002-04-01 | フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置 |
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|---|---|---|---|
| JP2002098516A Pending JP2003294410A (ja) | 2002-04-01 | 2002-04-01 | フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012068050A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-04-05 | Canon Inc | 形状測定法及び形状計測装置 |
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| JPH06174451A (ja) * | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Nikon Corp | ニュートンゲージによる測定方法 |
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2002
- 2002-04-01 JP JP2002098516A patent/JP2003294410A/ja active Pending
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- 2003-03-31 AU AU2003221011A patent/AU2003221011A1/en not_active Abandoned
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| WO2003083408A1 (fr) | 2003-10-09 |
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