JP2003014415A - ポイントディフラクション干渉計及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透過波面及び面形状のいずれの測定において
も厳密な共通光路となり、コンパクトな干渉計となるよ
うにすること。 【解決手段】 光源からの光束を光束分割手段により複
数の光束に分割後、集光レンズにより異なる位置に集光
させ、集光レンズの焦点面に配置された２つのピンホー
ルを有するピンホール板により分割された複数の光束の
うち２光束のみを透過させた後に、２光束を干渉させる
ポイントディフラクション干渉計において、被検レンズ
を透過あるいは反射後、再度ピンホール板に逆方向から
透過させることを特徴としたポイントディフラクション
干渉計。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品の面形状
及び透過波面の測定方法及び装置に関するものであり、
特に高精度を必要とするレンズの面形状及び透過波面、
レンズ系の透過波面の測定に適用して好適なものであ
り、さらには、投影露光装置上での投影光学系の波面収
差測定に適用しても好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、高精度な光学部品の面形状及び透
過波面の測定には、共通光路に近い構成で振動や大気の
揺らぎの影響を受けにくいフィゾー型の干渉計が最も多
く使われている。また、可干渉距離の短い光源しか存在
しない波長を用いての面形状及び透過波面の測定にはト
ワイマングリーン型あるいはシアリング型の干渉計、さ
らに高精度を要求される分野においてはポイントディフ
ラクション干渉計（以下ＰＤＩと略す）が使われてい
る。

【０００３】図９は、ＰＤＩによる透過波面の測定を示
す図である。図９において、光源からの光束は集光レン
ズ等によりピンホール９０１上に集光される。ここでピ
ンホール９０１を、被検レンズ９０３の物体面側ＮＡで
決まるエアリーディスク径以下の大きさに制作しておけ
ば、出射光は理想球面波となる。その後、ピンホール９
０１の後ろに配置されたピッチの粗い回折格子により光
束は分割され被検レンズ９０３へ入射し、さらに像面上
に置かれたピンホール９０４上へと集光される。ここ
で、ピンホール板９０４には被検レンズ９０３の像面側
ＮＡで決まるエアリーディスク径以下の微少なピンホー
ルＡと被検レンズの波面収差情報を失わない程度に十分
大きな径のピンホールＢが加工されている。これによ
り、回折格子９０２により分割された０次回折光（図中
の実線）と例えば＋１次回折光（図中の点線）のみを選
択することができる。この際、０次光をピンホールＢ、
＋１次光をピンホールＡを透過した＋１次光は理想球面
波となる。これら二つの波面を結像レンズ９０５により
ＣＣＤカメラ９０６上で重ね合わせることにより生じる
干渉縞は被検レンズ９０３の透過波面そのものを示す。
干渉縞の解析の際に、回折格子９０２をその格子と直交
方向に移動させることにより＋１次回折光の位相のみを
変化させて、いわゆるフリンジスキャン法を用いること
により高精度な透過波面測定をすることが可能となる。

【０００４】また、ＰＤＩを面形状測定に応用した例を
図１０に示す。光源１００１からの光束をビームエキス
パンダー１００２で適当な光束径に拡大後、集光レンズ
１００３によりピンホールミラー１００４上に集光す
る。ピンホールミラー１００４には、被検レンズ１００
５の面形状の２倍以上をカバーできるＮＡにより決まる
エアリーディスク径以下のピンホールが加工されてい
る。これにより、ピンホール１００４を透過した理想球
面波の一部を直接結像レンズ１００６を介してＣＣＤカ
メラ１００７へと導光し参照光として用いる。また、残
りの光束を被検レンズ面１００５へと入射させ、反射さ
せる。反射光は再びピンホール１００４上へと集光さ
れ、ピンホール１００４に施されている半透膜あるいは
反射膜により反射され、結像レンズ１００６を介して、
ＣＣＤカメラ１００７上で参照光と重ね合わせ干渉縞が
生じる。これにより観察される干渉縞は被検レンズ面１
００５の面形状そのものを表している。高精度な計測を
行うためには、例えば、被検レンズ１００５を光軸方向
に微少移動させ、いわゆるフリンジスキャン法を適用す
ればよい。

【０００５】以上、高精度光学部品の面形状及び透過波
面測定の従来の方法に関して説明したが、より高精度な
光学部品及びレンズ系の測定の要求は高まるばかりで、
例えば、昨今の半導体の急速な微細化に伴い、投影レン
ズの波面収差を投影露光装置上で測定する必要性から、
やはり可干渉性の悪い光源を用いて、投影露光装置上に
ラテラルシェアリング型、ラジアルシェアリング型、ト
ワイマングリーン型などの干渉計を構成する提案がされ
ている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たフィゾー型及びＰＤＩ干渉計には以下のような課題が
あった。

【０００７】まず第１に、フィゾー型干渉計による透過
波面及び面形状測定においては、共通光路に近い干渉計
といえども厳密には被検レンズ付近では共通光路ではな
く大気の揺らぎ、振動の影響をやはり受ける。特に面形
状測定には例えば被検面の曲率半径が大きい場合共通光
路以外の光路が増え、大気の揺らぎの影響を受けやすく
なる。

【０００８】また２番目の課題として、またＰＤＩ干渉
計においては、上述した従来例では透過波面測定の場合
は、ほとんど共通光路な干渉計となるがシングルパス干
渉計の構成のため、被検レンズの前後に光学系を必要と
する。その結果、スペース、コストの増加、光学系の複
雑化を招く。

【０００９】さらに図１０における面形状測定に関して
は、やはり、被検レンズ面の前側では共通光路干渉計で
はないため大気揺らぎの影響を大きく受ける。

【００１０】さらに３番目の課題として、投影露光装置
上での波面収差測定として提案されている露光装置上で
のラテラル、ラジアルシェアリング型干渉計において
は、被検レンズの透過波面の微分値が計測されるため
に、測定値をさらに積分する必要があり、測定精度の劣
化及び処理系の複雑化を招くという問題がある。トワイ
マングリーン干渉計においては、共通光路ではないため
に外乱の影響を受けやすいという課題がある。

【００１１】特に投影露光装置用の投影レンズはその透
過波面及びそれを構成する各レンズの形状及び透過波面
の測定では０．００１λオーダーの測定精度が要求され
ている。また、その生産ラインにおいては設備の省スペ
ース化およびコストの低減が要求されている。さらに
は、投影露光装置上の波面測定では限られたスペースで
外乱に強い干渉計を構成する必要がある。

【００１２】上述した透過波面、面形状測定の干渉計に
おいては、上記要求を満足することができない。このた
め、このような要求すべてを満足することのできる干渉
計の考案が望まれていた。

【００１３】上記課題を解決するための本発明の目的
は、透過波面及び面形状のいずれの測定においても厳密
な共通光路となり、コンパクトな干渉計となるようにす
ることである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本願第１の発明は、光源からの光束を光束分割手段に
より複数の光束に分割後、集光レンズにより異なる位置
に集光させ、集光レンズの焦点面に配置された２つのピ
ンホールを有するピンホール板により分割された複数の
光束のうち２光束のみを透過させた後に、２光束を干渉
させるポイントディフラクション干渉計において、被検
レンズを透過あるいは反射後、再度ピンホール板に逆方
向から透過させることを特徴とする。

【００１５】さらに、透過レンズを透過後、球面ミラー
で反射させ、被検レンズに逆透過させ、再度ピンホール
板を逆透過させることにより被検レンズの透過波面を測
定してもよい。

【００１６】また、ピンホール板上に設けられた２つの
ピンホール中心の中点と球面ミラー光軸を共役関係に配
置させてもよい。。

【００１７】また、被検レンズ表面で反射後、再度ピン
ホール板を逆透過させることにより被検レンズの面形状
を測定してもよい。

【００１８】また、ピンホール板上に設けられた２つの
ピンホール中心の中点と被検レンズの光軸を一致させて
もよい。

【００１９】また、被検レンズは大収差を有し、ピンホ
ール板を通過後に被検レンズ及び大収差を打ち消すヌル
光学系を透過後、球面ミラーにより反射させ、再度ヌル
光学系及び被検レンズを透過後にピンホール板を逆透過
させることにより被検レンズの透過波面を測定してもよ
い。

【００２０】また、ピンホール板上に設けられた２つの
ピンホール中心の中点と被検レンズ、ヌル光学系及び球
面ミラーの光軸を一致させてもよい。

【００２１】また、光源の波長は紫外域であり、干渉計
は内部に紫外線に高い感度をもつＣＣＤセンサーを有し
てもよい。

【００２２】また、光源はパルス光源であってもよい。

【００２３】また、パルス光源は、ＫｒＦエキシマレー
ザあるいはＡｒＦエキシマレーザであってもよい。

【００２４】また、上記述べてきたポイントディフラク
ション干渉計を露光装置に搭載してもよい。

【００２５】また、上記露光装置の露光光源として、Ｋ
ｒＦエキシマレーザあるいはＡｒＦエキシマレーザであ
ってもよい。

【００２６】

【発明の実施の形態】図１に本発明の第１の実施例を示
す。

【００２７】図１において、光源１からの光束はビーム
エキスパンダー２により所望のビーム径に整形されＸＹ
Ｚステージ３上に配置された干渉計４へと導光される。
干渉計４からの出射光は被検レンズ５の物体面９（ある
いは像面）上に集光され、被検レンズ５を透過して像面
１０（あるいは物体面）上に集光する。ＸＹＺステージ
７上に配置された球面ミラー６により反射されて逆光路
をたどり再び干渉計４へと入射し、内部にあるＣＣＤカ
メラにより干渉縞が検出されホストコンピュータ８へと
転送されて解析される。ここで、ホストコンピュータ８
からの指令により、ＸＹＺステージ３、７は任意の像点
へと移動可能で、これにより被検レンズ５の任意の像点
における波面収差が測定される。

【００２８】干渉計４とＸＹＺステージ３の詳細を図２
を用いて説明する。ビームエキスパンダー２からの光束
は定盤２１３上に配置されたミラー２０１によりＹ方向
へと反射され、Ｙステージ２１２上に配置されたミラー
２０２によりＸ方向に反射される。その後、Ｘステージ
２１１上に配置されたミラー２０３により再度反射さ
れ、干渉計４へと入射する。ここで干渉計４はＺステー
ジ上に配置されていてＺ方向に必要量だけ移動可能とな
っている。以上のステージ構造により、ＸＹＺステージ
の移動により、被検レンズ５の物体面（あるいは像面）
９上の任意の位置に干渉計４からの出射光２１５を集光
させることができる。

【００２９】干渉計４へと入射した光束は、粗いピッチ
を持った回折格子２０４により複数の次数の回折光に分
割される。これらの回折光はハーフミラー２０５を透過
し集光レンズ２０６によりピンホール板２０７上に集光
される。ピンホール板２０７には図４に示すように大ピ
ンホール４０１と小ピンホール４０２が加工されてい
る。ここで上記回折光のうち０次光は小ピンホール４０
２を透過し（図２中の実線）、＋１次光は大ピンホール
４０１を通過する（図２中の点線）。すなわち小ピンホ
ール４０２は集光レンズ２０６の光軸上に、さらに図１
における被検レンズ５の物体面９上に配置されている。

【００３０】ピンホール板２０７を通過した０次光及び
＋１次光は以下のように再び干渉計４へと戻り、重なり
合って生じた干渉縞がＣＣＤカメラ２１０上で観察され
る。小ピンホール４０２を通過した光束２１５は理想球
面波となって被検レンズ５を透過し、ぞの像面上に再集
光後、その集光点に曲率中心が一致するように配置され
ている球面ミラー６で反射され再び被検レンズ５を逆進
して物体面９上にあるピンホール板２０７上に集光す
る。ここで小ピンホール４０２と大ピンホール４０１の
それぞれの穴中心の中点２１４と球面ミラー６の光軸３
０１が共役関係となるようにＸＹＺステージ７により球
面ミラー６を移動させる。

【００３１】この時の０次光は被検レンズ５を透過後、
図３に示すように、光束３０２（矢印３０４の方向へ進
む）のように球面ミラー６で反射され光束３０３（矢印
３０５の方向へ進む）のように球面ミラー６の光軸３０
１と軸対称な位置で再集光し、再び被検レンズ５を透過
する。その後、ピンホール板２０７上に再び集光する
が、大ピンホール４０１上（図２中の矢印２１６の位
置）に集光し、ピンホール板２０７を透過し、図２の点
線で示すように集光レンズ２０６を逆進して平行光とな
りハーフミラー２０５で反射された後、結像レンズ２０
８及び２０９によりＣＣＤカメラ２１０上に達する。こ
こで、ＣＣＤカメラ２１０の受光面は被検レンズ５の瞳
面及び集光レンズ２０６のハーフミラー２０５側焦点面
の共役位置に配置されている。ここで今まで説明した０
次光はＣＣＤカメラ２１０上では被検レンズ５の透過波
面とピンホール板２０７以降の光路の透過波面の和の波
面となっている。

【００３２】次に、＋１次光について詳細に説明する。
ピンホール板２０７上の大ピンホール４０１を通過した
光束は何の波面変換も受けずに被検レンズ５へと入射し
透過する。その後、球面ミラー６の反射前後において
は、０次光の場合と逆に光束３０３として集光後に反射
し光軸３０１と対称位置に光束３０２となって再集光し
て再び被検レンズ５を透過して、今度はピンホール板２
０７上の小ピンホール４０２を通過する。ピンホール板
２０７を通過後は図２における実線で示すように集光レ
ンズ２０６、ハーフミラー２０５、結像レンズ２０８，
２０９を介して、ＣＣＤカメラ２１０上で前述した０次
光と重なり、干渉縞が生じる。ここで、＋１次光は復路
において小ピンホール４０２を通過する際に理想球面に
変換されるためＣＣＤカメラ２１０上ではピンホール板
２０７以降の光路の透過波面の情報のみを含んでいる。
従って、観察される干渉縞は０次光と１次光の差分の位
相となるので被検レンズ５の透過波面と球面ミラー６の
形状の和の情報を含んでいる。ここで、球面ミラー６の
形状については予め別の測定器等で測定しておき減算す
れば、被検レンズ５の透過波面を得ることができる。

【００３３】さらに、本実施例で観察される干渉縞はキ
ャリア縞（ＴＩＬＴ縞）を含むので電子モアレ法、フー
リエ変換法等の縞解析方法を適用すれば高精度な波面測
定が可能となる。また、回折格子２０４を光軸及び格子
方向と直交方向に走査することにより＋１次回折光の位
相のみを変化させることができるので、これによりいわ
ゆるフリンジスキャン法を適用しても高精度な波面測定
が可能となる。

【００３４】また、光源の波長が紫外線領域（例えば２
４８ｎｍ、１９３ｎｍ等）の場合にはＣＣＤカメラ２１
０としては紫外線に高い感度を有する背面入射型ＣＣＤ
あるいは冷却型ＣＣＤ等を用いている。これにより、Ｃ
ＣＤへの入射エネルギーを低くできるので、その結果、
ピンホール板２０７におけるエネルギー密度を低減する
ことができる。特にパルス光源の場合に問題となるピン
ホール板の損傷及び劣化を防ぐことが可能となる。例え
ば、光源の波長が２４８ｎｍの場合にはピンホール面で
のエネルギー密度を一桁以上下げることができる。

【００３５】図５に本発明の第２の実施例を示す。本実
施例は第１の実施例で示したダブルピンホール型ＰＤＩ
干渉計を投影露光装置上で構成したものである。投影露
光装置においては狭い空間に投影レンズの波面収差を計
測する干渉計ユニットを配置させる必要がある。そのた
め干渉計としては極力コンパクトでかつ可干渉距離の短
い例えばＫｒＦエキシマレーザなどの露光光源の光を使
用することが要求される。

【００３６】これらの要求を満たすためには本実施例で
は第１実施例での干渉計４をレチクル側に配置してい
る。

【００３７】ＫｒＦエキシマレーザ５０１からの光をビ
ーム整形光学系５０２で整形後に、波面収差測定の際の
みに、光路切り換えミラー５０３により干渉計への引き
回し光学系５０６へと導光し、ビームエキスパンダー５
０７で所望のビーム径にした後、ミラー５０８で反射さ
せＸＹＺステージ５０９上に配置したダブルパスＰＤＩ
干渉計５１０へと入射させる。これにより、途中光学系
のインコヒーレント化ユニット５０４および照明光学系
５０５を経由せずに直接、光源からの光束をダブルパス
ＰＤＩ干渉計５１０へと導光している。ダブルパスＰＤ
Ｉ干渉計５１０の内部は上下が反転している以外は、図
２と基本的に同じである。また、投影レンズ５１１を透
過した０次光、＋１次光は投影露光装置本体のウエハＸ
ＹＺステージ５１５上に配置された球面ミラー５１６に
より第１実施例の場合と同じように反射されＣＣＤカメ
ラにより干渉縞が観察され、同様の手法で投影レンズ５
１１の波面収差が測定される。

【００３８】図６に本発明の第３の実施例を示す。本実
施例は本発明のダブルパス型ＰＤＩ干渉計を面形状測定
に適用したものである。光源６０１からのダブルパスＰ
ＤＩ干渉計６０２へと入射させる。ここで干渉計６０２
は図２における集光レンズ２０６、ピンホール板２０７
及びＸＹＺステージ２１１、２１２以外の要素により構
成される。ダブルパスＰＤＩ干渉計６０２から出射した
０次（実線）及び＋１次（点線）の回折光は集光レンズ
６０３により第１実施例で説明した場合と同じ原理でピ
ンホール板６０４上の異なる位置に集光する。ここでピ
ンホール板６０４にも同様に図４に示す大小２つのピン
ホールが加工されている。図６において実線は０次光、
点線は＋１次光の往路を表している。ピンホール板６０
４上の大小のピンホール中点に被検レンズ６０５の光軸
をアライメントすれば第１の実施例で示した原理で全く
同様に、ティルト縞に被検レンズ６０５の面形状情報を
含んだ干渉縞を得ることができる。

【００３９】図７に本発明の第４の実施例を示す。第４
の実施例では被検面形状が凹面の場合であったが、本実
施例では凸面の面形状測定にダブルパス型ＰＤＩ干渉計
を適用したものである。実施例４の場合と同様にダブル
パスＰＤＩ干渉計６０２から出射した０次及び＋１次光
は集光レンズ７０１を介して図４と同じ構成のピンホー
ル板７０２上に集光し通過する。その後、コリメータレ
ンズ７０３及び集光レンズ７０５により被検レンズ７０
６へと入射する。ここで、ピンホール板の光軸（大小ピ
ンホールの中点）をコリメータレンズ７０３、集光レン
ズ７０５、被検レンズ７０６の光軸と一致するようにア
ライメントしておけば、今までの実施例と全く同じよう
にダブルパスＰＤＩ干渉計内部のＣＣＤカメラによりキ
ャリア縞に被検レンズ７０６の面形状情報を含んだ干渉
縞を観察することができる。ただし、本発明の場合は、
観察される干渉縞にはコリメータレンズ７０３と集光レ
ンズ７０５の透過波面情報も加算されているため、予め
これらの波面収差を測定しておき減算する必要がある。

【００４０】図８に本発明の第５の実施例を示す。本実
施例は本発明のダブルパス型ＰＤＩ干渉計を単レンズの
透過波面測定に適用したものである。第３の実施例にお
ける凹面面形状測定における構成とほぼ同じであるが、
単レンズの透過波面は大きな収差を持っているため、そ
のままでは干渉計測をすることができない。そこで一般
にはヌル光学系を配置することにより干渉縞の観察が可
能な状態にして干渉計測を行う。図８においてはピンホ
ール板６０４の被検レンズ８０２の間にヌル光学系とし
てＣＧＨ８０１を配置している。これにより今までの実
施例と全く同様にして被検単レンズ８０３の透過波面を
計測することができる。

【００４１】以上いくつかの実施例を示したが、いずれ
の実施例においても光源は可干渉性のよりシングルモー
ドレーザでも可干渉性の悪い例えばＫｒＦエキシマレー
ザ等でも構わない。また、連続光でもパルス光でも構わ
ない。

【００４２】以上、本発明の好ましい実施例を説明した
が、本発明はこれらに限定されずその要旨の範囲内で種
々の変形及び変更が可能である。

【００４３】

【発明の効果】本発明により少ないスペースでも大気揺
らぎ及び振動等の外乱に強い干渉計を構成することが可
能となり、従来の透過波面及び面形状測定における測定
精度を向上させることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の概略図

【図２】第１の実施例におけるダブルパス型ＰＤＩ干渉
計の詳細図

【図３】本発明の球面ミラー付近の光路の詳細図

【図４】ピンホール板の詳細図

【図５】第２の実施例の概略図

【図６】第３の実施例の概略図

【図７】第４の実施例の概略図

【図８】第５の実施例の概略図

【図９】従来例のＰＤＩ干渉計での透過波面測定の概略
図

【図１０】従来例のＰＤＩ干渉計での面形状測定の概略
図

【符号の説明】

１、５０１、６０１、１００１ 光源 ２、５０７、１００２ ビームエキスパンダー ３、７、５０９、５１５ ＸＹＺステージ ４、５１０、６０２ ポイントディフラクション干渉計 ５、６０５、７０６、８０２、９０３、１００５ 被検
レンズ ６、５１６ 球面ミラー ８ ホストコンピュータ ９ 物体面 １０ 像面 ２０１、２０２、２０３、５０８ ミラー ２０４、９０２ 回折格子 ２０５ ハーフミラー ２０６、６０３、７０１、７０５、１００３ 集光レン
ズ ２０７、６０４、７０２、９０１、９０４ ピンホール
板 ２０８、２０９ 結像レンズ ２１０、９０６、１００７ ＣＣＤカメラ ２１１ Ｘステージ ２１２ Ｙステージ ２１３ 定盤 ２１４ 中点 ２１５ 出射光 ３０１ 光軸 ３０２、３０３ 光束 ４０１ 大ピンホール ４０２ 小ピンホール ５０２ ビーム整形光学系 ５０３ 光路切り換えミラー ５０４ インコヒーレント化ユニット ５０５ 照明光学系 ５０６ 引き回し光学系 ５１１ 投影レンズ ７０３ コリメータレンズ ８０１ ＣＧＨ ８０３ 被検単レンズ ９０５、１００６ 結像レンズ １００４ ピンホールミラー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F064 AA09 CC04 FF02 GG49 GG59 HH03 HH08 JJ01 JJ15 2F065 AA51 DD03 FF51 GG05 GG21 JJ03 JJ26 LL00 LL09 LL19 LL30 LL42 MM13 MM23 PP04 PP22 QQ16 5F046 BA04 CA04 CB27 DA13

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源からの光束を光束分割手段により複
   数の光束に分割後、集光レンズにより異なる位置に集光
   させ、前記集光レンズの焦点面に配置された２つのピン
   ホールを有するピンホール板により前記分割された複数
   の光束のうち２光束のみを透過させた後に、前記２光束
   を干渉させるポイントディフラクション干渉計におい
   て、 被検レンズを透過あるいは反射後、再度前記ピンホール
   板に逆方向から透過させることを特徴としたポイントデ
   ィフラクション干渉計。
2. 【請求項２】 前記被検レンズを透過後、球面ミラーで
   反射させ、前記被検レンズに逆透過させ、再度前記ピン
   ホール板を逆透過させることにより前記被検レンズの透
   過波面を測定することを特徴とする請求項１記載のポイ
   ントディフラクション干渉計。
3. 【請求項３】 前記ピンホール板上に設けられた２つの
   ピンホール中心の中点と前記球面ミラー光軸を共役関係
   に配置することを特徴とする請求項１または２記載のポ
   イントディフラクション干渉計。
4. 【請求項４】 前記被検レンズ表面で反射後、再度前記
   ピンホール板を逆透過させることにより前記被検レンズ
   の面形状を測定することを特徴とする請求項１記載のポ
   イントディフラクション干渉計。
5. 【請求項５】 前記ピンホール板上に設けられた２つの
   ピンホール中心の中点と前記被検レンズの光軸を一致さ
   せることを特徴とする請求項１または４記載のポイント
   ディフラクション干渉計。
6. 【請求項６】 前記被検レンズは大収差を有し、前記ピ
   ンホール板を通過後に前記被検レンズ及び前記大収差を
   打ち消すヌル光学系を透過後、球面ミラーにより反射さ
   せ、再度前記ヌル光学系及び被検レンズを透過後に前記
   ピンホール板を逆透過させることにより前記被検レンズ
   の透過波面を測定することを特徴とする請求項１記載の
   ポイントディフラクション干渉計。
7. 【請求項７】 前記ピンホール板上に設けられた２つの
   ピンホール中心の中点と前記被検レンズ、ヌル光学系及
   び前記球面ミラーの光軸を一致させることを特徴とする
   請求項１または６に記載のポイントディフラクション干
   渉計。
8. 【請求項８】 前記光源の波長は紫外域であり、前記干
   渉計は内部に紫外線に高い感度をもつＣＣＤセンサーを
   有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項
   に記載のポイントディフラクション干渉計。
9. 【請求項９】 前記光源はパルス光源であることを特徴
   とする請求項１から８のいずれか一項に記載のポイント
   ディフラクション干渉計。
10. 【請求項１０】 前記パルス光源は、ＫｒＦエキシマレ
    ーザあるいはＡｒＦエキシマレーザであることを特徴と
    する請求項９記載のポイントディフラクション干渉計。
11. 【請求項１１】 請求項１から１０のポイントディフラ
    クション干渉計を搭載したことを特徴とする露光装置。
12. 【請求項１２】 請求項１１記載の露光装置の露光光源
    として、ＫｒＦエキシマレーザあるいはＡｒＦエキシマ
    レーザ用いることを特徴とする露光装置。