JP2000075928A - レーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置 - Google Patents
レーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置Info
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- JP2000075928A JP2000075928A JP10245580A JP24558098A JP2000075928A JP 2000075928 A JP2000075928 A JP 2000075928A JP 10245580 A JP10245580 A JP 10245580A JP 24558098 A JP24558098 A JP 24558098A JP 2000075928 A JP2000075928 A JP 2000075928A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】安価なミラーを使用しつつ、高精度且つ広範囲
に位置決めが可能な位置決め装置を提供することを課題
としている。 【解決手段】ステージ３に設けられて移動方向に延びる
干渉用ミラー５，６を２つに分割してそれぞれ複数のバ
ーミラーで構成する。また、各レーザ干渉計７，８によ
る測長可能位置を複数設定する。制御部４では、各レー
ザ干渉計７，８による２つの測長のうち、分割位置Ａを
照射していないレーザ光による測長に基づきステージの
位置を判定する。
に位置決めが可能な位置決め装置を提供することを課題
としている。 【解決手段】ステージ３に設けられて移動方向に延びる
干渉用ミラー５，６を２つに分割してそれぞれ複数のバ
ーミラーで構成する。また、各レーザ干渉計７，８によ
る測長可能位置を複数設定する。制御部４では、各レー
ザ干渉計７，８による２つの測長のうち、分割位置Ａを
照射していないレーザ光による測長に基づきステージの
位置を判定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、二次元移動用ステ
ージの位置決め装置に係り、特に、集積回路等の半導体
デバイス製造に用いられる露光装置など、高精度の位置
決めと広範囲の可動範囲が要求されるステージの位置決
めに好適な位置決め装置に関する。
ージの位置決め装置に係り、特に、集積回路等の半導体
デバイス製造に用いられる露光装置など、高精度の位置
決めと広範囲の可動範囲が要求されるステージの位置決
めに好適な位置決め装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】露光装置等に使用されるＸ−Ｙステージ
では、例えば、特公平７−０８２３９０号公報に記載さ
れているような構成の位置決め装置によって、ステージ
の位置決めが行われる。
では、例えば、特公平７−０８２３９０号公報に記載さ
れているような構成の位置決め装置によって、ステージ
の位置決めが行われる。
【０００３】すなわち、図６に示すように、アクチュエ
ータとしての一対のモータ１，２を駆動することで、互
いに直交するＸ方向及びＹ方向にステージ３が移動して
当該ステージ３の位置が変更される。その各モータ１，
２は、制御部４からの駆動信号によって駆動される。
ータとしての一対のモータ１，２を駆動することで、互
いに直交するＸ方向及びＹ方向にステージ３が移動して
当該ステージ３の位置が変更される。その各モータ１，
２は、制御部４からの駆動信号によって駆動される。
【０００４】また、ステージ３には、移動方向であるＸ
方向及びＹ方向に沿って、ぞれぞれバーミラー５，６
（干渉用ミラー）が固定されている。そして、その各ミ
ラー５，６に向けて垂直に１本のレーザ光を照射して測
長を行うレーザ干渉計７，８がステージ３の側方にそれ
ぞれ配置されて、各レーザ干渉計７，８は、それぞれ測
定した測長信号を制御部４に供給可能となっている。
方向及びＹ方向に沿って、ぞれぞれバーミラー５，６
（干渉用ミラー）が固定されている。そして、その各ミ
ラー５，６に向けて垂直に１本のレーザ光を照射して測
長を行うレーザ干渉計７，８がステージ３の側方にそれ
ぞれ配置されて、各レーザ干渉計７，８は、それぞれ測
定した測長信号を制御部４に供給可能となっている。
【０００５】制御部４では、各レーザ干渉計７，８から
の測長信号に基づきステージ３の実際の位置（Ｘ−Ｙ座
標）を求め、目標とする位置との偏差に比例した駆動信
号を上記モータ１，２に供給して、ステージ３の位置制
御を高精度に行う。
の測長信号に基づきステージ３の実際の位置（Ｘ−Ｙ座
標）を求め、目標とする位置との偏差に比例した駆動信
号を上記モータ１，２に供給して、ステージ３の位置制
御を高精度に行う。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】レーザ干渉計７，８を
用いて測長すると位置を高精度に計測できるが、その計
測範囲はバーミラー５，６の長さによって制限される。
用いて測長すると位置を高精度に計測できるが、その計
測範囲はバーミラー５，６の長さによって制限される。
【０００７】ここに、上記位置計測に使用されるバーミ
ラー５，６は、高精度な加工が要求されるために、その
製作サイズ（長さ）に限界がある。この結果、従来にあ
っては、高精度に位置決めされるステージ３の可動量
も、バーミラー５，６の寸法以上とすることが出来なか
った。
ラー５，６は、高精度な加工が要求されるために、その
製作サイズ（長さ）に限界がある。この結果、従来にあ
っては、高精度に位置決めされるステージ３の可動量
も、バーミラー５，６の寸法以上とすることが出来なか
った。
【０００８】また、バーミラー５，６の製品限界寸法近
くまでの長さの移動量を確保しようとすると、バーミラ
ー５，６の価格が非常に高くなって高価の位置決め装置
となってしまうし、それでも可動量には限界が生じる。
くまでの長さの移動量を確保しようとすると、バーミラ
ー５，６の価格が非常に高くなって高価の位置決め装置
となってしまうし、それでも可動量には限界が生じる。
【０００９】しかしながら、今日，例えばワークが大型
化するにつれて、ステージ３の可動範囲も広範囲のもの
が要求される。本発明は、上記のように問題点に着目し
てなされたもので、安価なミラーを使用しつつ、高精度
且つ広範囲に位置決めが可能な位置決め装置を提供する
ことを課題としている。
化するにつれて、ステージ３の可動範囲も広範囲のもの
が要求される。本発明は、上記のように問題点に着目し
てなされたもので、安価なミラーを使用しつつ、高精度
且つ広範囲に位置決めが可能な位置決め装置を提供する
ことを課題としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、ステージを移動させるアクチュエータ
と、ステージに設けられ当該ステージの移動方向に沿っ
て反射面が延在する干渉用ミラーと、その干渉用ミラー
に向けて垂直にレーザ光を照射して測長するレーザ干渉
計と、レーザ干渉計の測長信号に基づきステージの位置
を判定し上記アクチュエータを介してステージの位置を
制御する制御部とを備えたステージ位置決め装置におい
て、上記干渉用ミラーは、延在方向に沿って複数に分割
されて構成され、上記レーザ干渉計は、互いに上記干渉
用ミラーの延在方向に所定間隔を設けた平行な複数本の
レーザ光を干渉用ミラーに向けて照射して複数箇所，測
長可能に構成され、上記制御部は、その複数本のレーザ
光のうちの上記干渉用ミラーの分割位置を非照射のレー
ザ光による測長に基づきステージの位置を判定すること
を特徴とするレーザ干渉計を用いたステージ位置決め装
置を提供するものである。
に、本発明は、ステージを移動させるアクチュエータ
と、ステージに設けられ当該ステージの移動方向に沿っ
て反射面が延在する干渉用ミラーと、その干渉用ミラー
に向けて垂直にレーザ光を照射して測長するレーザ干渉
計と、レーザ干渉計の測長信号に基づきステージの位置
を判定し上記アクチュエータを介してステージの位置を
制御する制御部とを備えたステージ位置決め装置におい
て、上記干渉用ミラーは、延在方向に沿って複数に分割
されて構成され、上記レーザ干渉計は、互いに上記干渉
用ミラーの延在方向に所定間隔を設けた平行な複数本の
レーザ光を干渉用ミラーに向けて照射して複数箇所，測
長可能に構成され、上記制御部は、その複数本のレーザ
光のうちの上記干渉用ミラーの分割位置を非照射のレー
ザ光による測長に基づきステージの位置を判定すること
を特徴とするレーザ干渉計を用いたステージ位置決め装
置を提供するものである。
【００１１】本発明によれば、干渉用ミラーが延在方向
に沿って複数に分割されているので、適当な長さの安価
なミラー製品を繋いで、延在方向（ステージの移動方
向）に長いミラーを確保できる。この結果、安価にステ
ージの移動量（位置決め量）を長くすることができる。
に沿って複数に分割されているので、適当な長さの安価
なミラー製品を繋いで、延在方向（ステージの移動方
向）に長いミラーを確保できる。この結果、安価にステ
ージの移動量（位置決め量）を長くすることができる。
【００１２】また、ミラーの分割位置では測長は出来な
いが、複数のレーザ光を照射して複数箇所，測長可能で
あるので、少なくとも一つのレーザ光は、ミラーの分割
位置に照射されずに測長が可能となる。
いが、複数のレーザ光を照射して複数箇所，測長可能で
あるので、少なくとも一つのレーザ光は、ミラーの分割
位置に照射されずに測長が可能となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
説明する。なお、上記従来例と同様な部材には、同一の
符号を付して、その詳細は省略する。
説明する。なお、上記従来例と同様な部材には、同一の
符号を付して、その詳細は省略する。
【００１４】図１は、本実施形態の位置決め装置を表す
構成図であって、その基本構成は、上記従来例とほぼ同
様である。すなわち、ステージ３は、第１のモータ１を
駆動することでＸ方向に移動すると共に、独立して第２
のモータ２を駆動することでＹ方向にも移動して、Ｘ−
Ｙ二次元方向にステージ３が自在に移動可能となってい
る。なお、ステージ３を移動させるアクチュエータは、
モータ１，２に限定されず、他の公知のアクチュエータ
が使用できる。
構成図であって、その基本構成は、上記従来例とほぼ同
様である。すなわち、ステージ３は、第１のモータ１を
駆動することでＸ方向に移動すると共に、独立して第２
のモータ２を駆動することでＹ方向にも移動して、Ｘ−
Ｙ二次元方向にステージ３が自在に移動可能となってい
る。なお、ステージ３を移動させるアクチュエータは、
モータ１，２に限定されず、他の公知のアクチュエータ
が使用できる。
【００１５】制御部４は、第１のレーザ干渉計７からの
Ｘ方向の測長信号と、第２のレーザ干渉計８からのＹ方
向の測長信号を入力し、その測長信号に基づきステージ
３の位置を判定し、目標位置との偏差に基づき上記二つ
のモータ１，２をサーボ制御して、ステージ３を高精度
に位置決めする。
Ｘ方向の測長信号と、第２のレーザ干渉計８からのＹ方
向の測長信号を入力し、その測長信号に基づきステージ
３の位置を判定し、目標位置との偏差に基づき上記二つ
のモータ１，２をサーボ制御して、ステージ３を高精度
に位置決めする。
【００１６】また、上記ステージ３上には、上記各レー
ザ干渉計７，８に対向して、それぞれステージ３の移動
方向であるＸ方向及びＹ方向にそれぞれ延在する２つの
干渉用ミラー６，５が配置されている。
ザ干渉計７，８に対向して、それぞれステージ３の移動
方向であるＸ方向及びＹ方向にそれぞれ延在する２つの
干渉用ミラー６，５が配置されている。
【００１７】本実施形態では、各干渉用ミラー５，６
は、それぞれ延在方向中央部で２つに分割されて、２本
のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂから構成されて
いる。これによって、干渉用ミラー５，６を長くするこ
とができると共に、そのためのミラー製品（バーミラー
５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ）のコストを低く抑えることが
できる。なお、２本のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，
６ｂの長さは同一である必要はない。
は、それぞれ延在方向中央部で２つに分割されて、２本
のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂから構成されて
いる。これによって、干渉用ミラー５，６を長くするこ
とができると共に、そのためのミラー製品（バーミラー
５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ）のコストを低く抑えることが
できる。なお、２本のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，
６ｂの長さは同一である必要はない。
【００１８】ここで、上記ミラーの分割位置Ａ及びその
前後に対して、図２に示すように、非計測域Ｈ1 を設定
する。上記各レーザ干渉計７，８は、本実施形態にあっ
ては、２本の平行なレーザ光１０ａ，１０ｂ又は１１
ａ，１１ｂを照射して二か所の位置を測長するように構
成されている。
前後に対して、図２に示すように、非計測域Ｈ1 を設定
する。上記各レーザ干渉計７，８は、本実施形態にあっ
ては、２本の平行なレーザ光１０ａ，１０ｂ又は１１
ａ，１１ｂを照射して二か所の位置を測長するように構
成されている。
【００１９】その２つレーザ光１０ａ，１０ｂ又は１１
ａ，１１ｂの間隔Ｌは、上記各バーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂの長さよりも短い長さで且つ上記非計測域
Ｈ1よりも長い寸法に設定されている。この結果、常
に、両レーザ光１０ａ，１０ｂ又は１１ａ，１１ｂがミ
ラーに向けて照射可能となっていると同時に、一方のレ
ーザ光が上記非計測域Ｈ1 を照射しているときは他方の
レーザ光が上記非計測域Ｈ1 を照射しないように設定さ
れている（図３参照）。
ａ，１１ｂの間隔Ｌは、上記各バーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂの長さよりも短い長さで且つ上記非計測域
Ｈ1よりも長い寸法に設定されている。この結果、常
に、両レーザ光１０ａ，１０ｂ又は１１ａ，１１ｂがミ
ラーに向けて照射可能となっていると同時に、一方のレ
ーザ光が上記非計測域Ｈ1 を照射しているときは他方の
レーザ光が上記非計測域Ｈ1 を照射しないように設定さ
れている（図３参照）。
【００２０】そして、制御部４では、各干渉計７，８に
おける２つレーザ光のうちの一方のレーザ光１０ａ，１
１ａを主測長光とし、他方のレーザ光１０ｂ，１１ｂを
副測長光として、主側長光１０ａ，１１ａが上記非計測
域Ｈ1 を照射していない通常状態では、主測長光１０
ａ，１１ａによる測長を使用し、主測長光１０ａ，１１
ａの照射位置が上記非計測域Ｈ1 を通過するときだけ、
副測長光１０ｂ，１１ｂによる測長を使用してステージ
３の位置決めをするように設定されている。
おける２つレーザ光のうちの一方のレーザ光１０ａ，１
１ａを主測長光とし、他方のレーザ光１０ｂ，１１ｂを
副測長光として、主側長光１０ａ，１１ａが上記非計測
域Ｈ1 を照射していない通常状態では、主測長光１０
ａ，１１ａによる測長を使用し、主測長光１０ａ，１１
ａの照射位置が上記非計測域Ｈ1 を通過するときだけ、
副測長光１０ｂ，１１ｂによる測長を使用してステージ
３の位置決めをするように設定されている。
【００２１】ここで、主測長光１０ａ，１１ａの照射位
置が上記非計測域Ｈ1 かどうかは、例えば、他方のレー
ザ干渉計７，８による測長信号に基づき判定できる。す
なわち、例えば、第１のレーザ干渉計７による主測長光
１０ａの照射位置を、第２のレーザ干渉計８による測長
によって判定して、主測長光１０ａの照射位置が非計測
域Ｈ1 に侵入したと判定したら、副測長光１０ｂによる
測長信号によりステージ３の位置を判定する。
置が上記非計測域Ｈ1 かどうかは、例えば、他方のレー
ザ干渉計７，８による測長信号に基づき判定できる。す
なわち、例えば、第１のレーザ干渉計７による主測長光
１０ａの照射位置を、第２のレーザ干渉計８による測長
によって判定して、主測長光１０ａの照射位置が非計測
域Ｈ1 に侵入したと判定したら、副測長光１０ｂによる
測長信号によりステージ３の位置を判定する。
【００２２】また、一つの干渉用ミラー５，６をそれぞ
れ構成する二つのバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ
の繋ぎ位置（分割位置Ａ）においてレーザ干渉計７，８
で計測不可能なエラーが出ないように、当該繋ぎ部分の
段差を極力抑え且つ接触するように設置するが、不可避
的な設置誤差（両バーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ
間の段差や傾き等）が存在することを考慮して、予めそ
の誤差を計測して制御部４に記憶させておき、制御部４
で、測長に使用するバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６
ｂの切替わりを認識して上記誤差分（段差分等）を校正
する。
れ構成する二つのバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ
の繋ぎ位置（分割位置Ａ）においてレーザ干渉計７，８
で計測不可能なエラーが出ないように、当該繋ぎ部分の
段差を極力抑え且つ接触するように設置するが、不可避
的な設置誤差（両バーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ
間の段差や傾き等）が存在することを考慮して、予めそ
の誤差を計測して制御部４に記憶させておき、制御部４
で、測長に使用するバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６
ｂの切替わりを認識して上記誤差分（段差分等）を校正
する。
【００２３】ここで、一のレーザ干渉計７，８で２箇所
測長を行っているので、その２つのレーザ光が共に同一
のバーミラー５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂを照射している状
態で（図２参照）、そのバーミラー５ａ，５ｂ，６ａ，
６ｂの傾きが計測でき、また、二つのレーザ光がそれぞ
れ別のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂを照射して
いるときには（図３参照）、両バーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂ間の設置誤差（段差）が計測できる。
測長を行っているので、その２つのレーザ光が共に同一
のバーミラー５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂを照射している状
態で（図２参照）、そのバーミラー５ａ，５ｂ，６ａ，
６ｂの傾きが計測でき、また、二つのレーザ光がそれぞ
れ別のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂを照射して
いるときには（図３参照）、両バーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂ間の設置誤差（段差）が計測できる。
【００２４】次に、上記装置の動作などについて説明す
る。ここで、各レーザ干渉計７，８による計測動作は同
じであるので、第１のレーザ干渉計７のみに着目して説
明する。
る。ここで、各レーザ干渉計７，８による計測動作は同
じであるので、第１のレーザ干渉計７のみに着目して説
明する。
【００２５】第２のレーザ干渉計８による測長から、ス
テージ３のＹ方向への移動量、すなわち、第１のレーザ
干渉計７による測長位置（レーザ光の照射位置）を確認
しながら、第１のレーザ干渉計７による二つの測長信号
の一方を利用してＸ方向のステージ３の移動量を判定す
る。
テージ３のＹ方向への移動量、すなわち、第１のレーザ
干渉計７による測長位置（レーザ光の照射位置）を確認
しながら、第１のレーザ干渉計７による二つの測長信号
の一方を利用してＸ方向のステージ３の移動量を判定す
る。
【００２６】すなわち、図２に示すように、主測長光１
０ａが、非計測域Ｈ1 を非照射状態と判定しているとき
には、当該主測長光１０ａによる測長信号に基づきＸ方
向の移動量、即ちＸ方向のステージ３の位置を判定す
る。このとき、主測長光１０ａが第２のバーミラー６ｂ
を照射していると判定している場合には、予め計測した
第１のバーミラー６ａとの間の補正値によって測長信号
を校正する。
０ａが、非計測域Ｈ1 を非照射状態と判定しているとき
には、当該主測長光１０ａによる測長信号に基づきＸ方
向の移動量、即ちＸ方向のステージ３の位置を判定す
る。このとき、主測長光１０ａが第２のバーミラー６ｂ
を照射していると判定している場合には、予め計測した
第１のバーミラー６ａとの間の補正値によって測長信号
を校正する。
【００２７】また、図３に示すように、主測長光１０ａ
が、非計測域Ｈ1 を照射状態と判定しているときには、
非計測域Ｈ1 を照射していない副測長光１０ｂによる測
長信号に基づきＸ方向の移動量、即ちＸ方向のステージ
３の位置を判定する。このとき、副測長光１０ｂが第２
のバーミラー６ｂを照射していると判定している場合に
は、予め計測した第１のバーミラー６ａとの間の補正値
によって測長信号を校正する。
が、非計測域Ｈ1 を照射状態と判定しているときには、
非計測域Ｈ1 を照射していない副測長光１０ｂによる測
長信号に基づきＸ方向の移動量、即ちＸ方向のステージ
３の位置を判定する。このとき、副測長光１０ｂが第２
のバーミラー６ｂを照射していると判定している場合に
は、予め計測した第１のバーミラー６ａとの間の補正値
によって測長信号を校正する。
【００２８】以上に説明した、Ｘ又はＹ方向のレーザ位
置は、それぞれのモータ１，２に内蔵されているエンコ
ーダの回転角度位置座標からでも判断できる。このよう
に、本実施形態の位置決め装置では、安価な長さのバー
ミラー５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂを複数個，継いで所定長
さをもった安価な干渉用ミラー５，６を提供できて、ス
テージ３の移動量、つまり位置制御量を任意に大きく設
定できる。
置は、それぞれのモータ１，２に内蔵されているエンコ
ーダの回転角度位置座標からでも判断できる。このよう
に、本実施形態の位置決め装置では、安価な長さのバー
ミラー５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂを複数個，継いで所定長
さをもった安価な干渉用ミラー５，６を提供できて、ス
テージ３の移動量、つまり位置制御量を任意に大きく設
定できる。
【００２９】すなわち、製品としてのバーミラーの製作
サイズに関係なく、ステージ３の可動範囲を広範囲に設
定することができると共に高精度に位置決めが可能な位
置決め装置を提供できる。
サイズに関係なく、ステージ３の可動範囲を広範囲に設
定することができると共に高精度に位置決めが可能な位
置決め装置を提供できる。
【００３０】ここで、上記実施形態では、干渉用ミラー
５，６を２つに分割して２本のバーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂで構成した場合の例であるが、３本以上継
いで（３つに分割して）更に位置決め範囲を長くしてス
テージ３の可動範囲をより広く設定してもよい。
５，６を２つに分割して２本のバーミラー５ａ，５ｂ又
は６ａ，６ｂで構成した場合の例であるが、３本以上継
いで（３つに分割して）更に位置決め範囲を長くしてス
テージ３の可動範囲をより広く設定してもよい。
【００３１】また、上記実施形態では、Ｘ方向及びＹ方
向の両方向の干渉用ミラー５，６を共に２つに分割した
例で説明しているが、例えば、Ｘ方向の移動量が小さく
て良い場合には、Ｙ方向の延在する干渉用ミラー６だけ
を分割してＹ方向の測定エリアだけを大きく設定しても
よい。
向の両方向の干渉用ミラー５，６を共に２つに分割した
例で説明しているが、例えば、Ｘ方向の移動量が小さく
て良い場合には、Ｙ方向の延在する干渉用ミラー６だけ
を分割してＹ方向の測定エリアだけを大きく設定しても
よい。
【００３２】また、上記実施形態では、各レーザ干渉計
７，８から二本のレーザ光を照射する場合を例に説明し
ているが、三本以上の平行なレーザ光を照射して３か所
以上，測長位置を設定してもよい。この場合、３本のレ
ーザ光が全て常にミラーに照射されるように設定する必
要はない。
７，８から二本のレーザ光を照射する場合を例に説明し
ているが、三本以上の平行なレーザ光を照射して３か所
以上，測長位置を設定してもよい。この場合、３本のレ
ーザ光が全て常にミラーに照射されるように設定する必
要はない。
【００３３】なお、一のレーザ干渉計７，８で２つの測
長光（レーザ光）が使用されるが、レーザ光源は必ずし
も２つ必要ではなく、図５に示すように、１の光源をビ
ームスプリッタ２０やビームベンダー２１などで分割等
して使用すればよい。
長光（レーザ光）が使用されるが、レーザ光源は必ずし
も２つ必要ではなく、図５に示すように、１の光源をビ
ームスプリッタ２０やビームベンダー２１などで分割等
して使用すればよい。
【００３４】また、レーザ干渉計７，８による測長は、
相対的な移動量を計測するものであるので、急激な計測
値の変化が無いように、一の干渉用ミラー５，６を形成
する２本のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ間には
できるだけ段差が無い方が良いが、設置精度等の関係で
許容以上の段差ができる場合には、図４に示すように、
上記非計測域Ｈ1 の他に第２の非計測域Ｈ2 を設定し
て、主測長光１０ａ，１１ａが第１の非計測域Ｈ1 （実
際の非干渉域）と第２の非計測域Ｈ2 の間にあるとき
に、主測長光１０ａ，１１ａによる測長と副測長光１０
ｂ，１１ｂによる測長とを照合して、主測長光１０ａ，
１１ａによる測長から副測長光１０ｂ，１１ｂによる測
長への受渡しのためのバッファを設けるとよい。
相対的な移動量を計測するものであるので、急激な計測
値の変化が無いように、一の干渉用ミラー５，６を形成
する２本のバーミラー５ａ，５ｂ又は６ａ，６ｂ間には
できるだけ段差が無い方が良いが、設置精度等の関係で
許容以上の段差ができる場合には、図４に示すように、
上記非計測域Ｈ1 の他に第２の非計測域Ｈ2 を設定し
て、主測長光１０ａ，１１ａが第１の非計測域Ｈ1 （実
際の非干渉域）と第２の非計測域Ｈ2 の間にあるとき
に、主測長光１０ａ，１１ａによる測長と副測長光１０
ｂ，１１ｂによる測長とを照合して、主測長光１０ａ，
１１ａによる測長から副測長光１０ｂ，１１ｂによる測
長への受渡しのためのバッファを設けるとよい。
【００３５】なお、２つのバーミラー５ａ，５ｂ又は６
ａ，６ｂの繋ぎ部分に所定の間隙があっても、上記非計
測域Ｈ1 を設けることで吸収できる。ここで、ステージ
３の可動範囲を大きくするために、従来と同様に、干渉
用ミラーを１本のバーミラーで構成し、その代わりに、
平行に配置される測長光を、移動方向に沿って多数個，
設定して、いずれか一の測長光を干渉用ミラーに照射可
能として構成することも考えられるが、干渉用ミラーの
長さよりも短い間隔で、ステージ３の移動量が長くなる
ほどステージに沿って多数の測長光を照射・受光する装
置を配置せざるを得ず、レアウト上不利である。この
点、本願発明に基づく本実施形態では、ステージ３の移
動量に関係なく、小さい範囲にレーザ干渉計７，８を配
置すれば良い。
ａ，６ｂの繋ぎ部分に所定の間隙があっても、上記非計
測域Ｈ1 を設けることで吸収できる。ここで、ステージ
３の可動範囲を大きくするために、従来と同様に、干渉
用ミラーを１本のバーミラーで構成し、その代わりに、
平行に配置される測長光を、移動方向に沿って多数個，
設定して、いずれか一の測長光を干渉用ミラーに照射可
能として構成することも考えられるが、干渉用ミラーの
長さよりも短い間隔で、ステージ３の移動量が長くなる
ほどステージに沿って多数の測長光を照射・受光する装
置を配置せざるを得ず、レアウト上不利である。この
点、本願発明に基づく本実施形態では、ステージ３の移
動量に関係なく、小さい範囲にレーザ干渉計７，８を配
置すれば良い。
【００３６】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明を採用
すると、干渉用ミラーを構成するミラー製品の製作可能
な寸法に制限を受けることなく、ステージの可動範囲を
広範囲に設定することが可能となる。
すると、干渉用ミラーを構成するミラー製品の製作可能
な寸法に制限を受けることなく、ステージの可動範囲を
広範囲に設定することが可能となる。
【図１】本発明の実施の形態に係る位置決め装置を説明
するための構成図である。
するための構成図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る測長光と干渉ミラー
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る測長光と干渉ミラー
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る測長光と干渉ミラー
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るレーザ干渉計の他の
構成例を説明するための図である。
構成例を説明するための図である。
【図６】従来の位置決め装置を説明するための構成図で
ある。
ある。
１，２ モータ（アクチュエータ） ３ ステージ ４ 制御部 ５，６ 干渉用ミラー ５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂバーミラー ７ 第１のレーザ干渉計 ８ 第２のレーザ干渉計 １０ａ，１１ａ 主測長光（レーザ光） １０ｂ，１１ｂ 副測長光（レーザ光） Ｈ1 非計測域
Claims (1)
- 【請求項１】 ステージを移動させるアクチュエータ
と、ステージに設けられ当該ステージの移動方向に沿っ
て反射面が延在する干渉用ミラーと、その干渉用ミラー
に向けて垂直にレーザ光を照射して測長するレーザ干渉
計と、レーザ干渉計の測長信号に基づきステージの位置
を判定し上記アクチュエータを介してステージの位置を
制御する制御部とを備えたステージ位置決め装置におい
て、上記干渉用ミラーは、延在方向に沿って複数に分割
されて構成され、上記レーザ干渉計は、互いに上記干渉
用ミラーの延在方向に所定間隔を設けた平行な複数本の
レーザ光を干渉用ミラーに向けて照射して複数箇所，測
長可能に構成され、上記制御部は、その複数本のレーザ
光のうちの上記干渉用ミラーの分割位置を非照射のレー
ザ光による測長に基づきステージの位置を判定すること
を特徴とするレーザ干渉計を用いたステージ位置決め装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245580A JP2000075928A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | レーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245580A JP2000075928A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | レーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000075928A true JP2000075928A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17135850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10245580A Pending JP2000075928A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | レーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000075928A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030033744A (ko) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | 김재열 | 레이저를 이용한 초미세 위치제어기술 |
| JP2019500614A (ja) * | 2015-12-31 | 2019-01-10 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | 干渉計測定装置およびその制御方法 |
-
1998
- 1998-08-31 JP JP10245580A patent/JP2000075928A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030033744A (ko) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | 김재열 | 레이저를 이용한 초미세 위치제어기술 |
| JP2019500614A (ja) * | 2015-12-31 | 2019-01-10 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | 干渉計測定装置およびその制御方法 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050803 |
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| A02 | Decision of refusal |
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