JPH08233524A - 多軸位置決めユニット - Google Patents

多軸位置決めユニット

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Publication number
JPH08233524A
JPH08233524A JP7040670A JP4067095A JPH08233524A JP H08233524 A JPH08233524 A JP H08233524A JP 7040670 A JP7040670 A JP 7040670A JP 4067095 A JP4067095 A JP 4067095A JP H08233524 A JPH08233524 A JP H08233524A
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JP
Japan
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length
coordinate
axis direction
measurement
coordinate axis
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Application number
JP7040670A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Toyama
潔 外山
Nobuo Maeda
伸夫 前田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】より広い範囲で、高精度の位置決めが可能な位
置決めユニットを提供する。 【構成】レーザ光源1a、ビームスプリッタ2a、2
b、干渉計4a、4b、及び干渉縞検出器3a、3bを
有するy方向測長部と、レーザ光源1b、干渉計4c、
及び干渉縞検出器3cを有するx方向測長部と、基準鏡
7a、7bと、各測長部で得られるレーザ光の干渉デー
タからx、y方向の測長値を算出し、算出された測長値
からX−Y移動ステージ8の座標値を決定する演算部9
とを有し、基準鏡7a、7bが、X−Y移動ステージ8
がx軸方向での移動可能な範囲のほぼ中心にある状態
で、y方向の測長に用いられる測長光5aが基準鏡7a
へ、測長光5bが基準鏡7bへ、互いにほぼ平行に照射
されるような位置に取り付けられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置や3次
元座標測定装置などに応用され、特に高精度で広範囲に
測定を行なう多軸位置決めユニットに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体露光装置や3次元座標測定機など
で用いられる、従来の高精度位置決めユニットでは、例
えば図14に示すように、測長用のレーザ光源1から射
出される測長光を反射するための、反射鏡(以下基準鏡
と称する)7a、7bが2つ、その反射面がそれぞれX
軸、Y軸と直角になるようにX−Y移動ステージ8に固
定されている。
【0003】この2つの基準鏡7a、7bの反射面を座
標系の基準平面として、レーザ干渉計4a、4b、4c
により、X−Y移動ステージ8の各座標方向の移動量の
測定を行なう。さらに、本図のようにY軸方向の測長に
2本(5a、5b)の測長レーザ光を配した場合には、
移動量および基準鏡7aの傾きの測定が可能となる。
【0004】ここで、基準鏡7a、7bの反射面に凹凸
が存在した場合、実際のX−Y移動ステージ8の移動量
と、レーザ干渉計4a、4b、4cによるX−Y移動ス
テージ8の移動量の測定値との間に誤差が生じる。この
ため、基準鏡の反射面の平面度は、X−Y移動ステージ
8の位置決め精度を決めるために、非常に重要な要因で
ある。
【0005】このため、従来技術では、位置決め精度を
良くするために、各基準鏡の反射面の平面度を、必要と
なるX−Y移動ステージ8の位置決め精度より良くして
おくか、あるいは予め各基準鏡の反射面の形状を測定
し、そのデータによりX−Y移動ステージ8の位置の測
定値の補正をするという方法を取っている。
【0006】また、従来技術の位置決めユニットの構成
においては、X−Y移動ステージ8がXあるいはY方向
に移動しても、各基準鏡が常にレーザ干渉計からの測長
光を反射し続けるように、基準鏡の寸法はX−Y移動ス
テージ8の各軸方向の可動範囲以上の大きさが必要とな
る。すなわち、大型のワークを位置決めユニットのX−
Y移動ステージ8に乗せて、その移動可能な範囲内で位
置決めをするためには、ワークの大きさ以上の基準鏡が
必要となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、光学素子の加工
や計測等の用途で、より大型のワークを載せたステージ
をより高精度に位置決めする必要が高まるにつれ、上記
のような従来技術の位置決めユニットの構成では、高精
度の形状精度を持つ大型の基準鏡が必要となる。ところ
が、ワークが大型化するにつれ、大型の基準鏡全体を必
要な精度で加工する事、作成された基準鏡の表面形状を
測定する事、また振動やひずみを避けて取付けられた基
準鏡を必要な表面形状精度で保持する事が困難になる。
【0008】本発明は、上記のような問題点を考慮して
なされたものであり、より広い範囲で高精度の位置決め
が可能な位置決めユニットを提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の座標
軸方向での座標位置によってその位置が測定される移動
ステージと、前記複数の座標軸方向で前記移動ステージ
と所定の測定基準点との距離を測長する測長装置と、前
記測長装置の測長結果を用いて前記移動ステージの各座
標軸方向での座標位置を決定する位置決定装置とを有す
る多軸位置決めユニットにおいて、前記測長装置は、前
記複数の座標軸方向のうち、少なくとも1つの座標軸方
向での測長では、当該少なくとも1つの座標軸方向と直
交する座標軸方向での測定すべき座標範囲よりも短い、
予め定めた長さの反射面を有する、複数の基準鏡と、前
記各基準鏡へ照射された測長光の反射光を受光して、当
該基準鏡とそれに対応する測定基準点との距離を測長す
る、複数の測長部とを有し、前記複数の基準鏡は、前記
少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向に沿
って、その反射面が互いに異なる位置範囲を占めて並ぶ
ように、前記移動ステージにそれぞれ固定され、前記複
数の測長部は、前記移動ステージの測定すべき移動範囲
全域で、前記移動ステージと共に移動する前記複数の基
準鏡のいずれかの反射面へ、少なくとも1つの測長部か
らの測長光が照射されるように、前記座標位置の測定系
に対して静止している、各測長部に対応した測定基準点
にそれぞれ配置されるものであることを特徴とする多軸
位置決めユニットにより達成される。
【0010】上記目的は、また、複数の座標軸方向での
座標位置によってその位置が測定される移動ステージ
と、前記複数の座標軸方向で前記移動ステージと所定の
測定基準点との距離を測長する測長装置と、前記測長装
置の測長結果を用いて前記移動ステージの各座標軸方向
での座標位置を決定する位置決定装置とを有する多軸位
置決めユニットにおいて、前記測長装置は、前記複数の
座標軸方向のうち、少なくとも1つの座標軸方向での測
長では、当該少なくとも1つの座標軸方向と直交する座
標軸方向での測定すべき座標範囲よりも短い、予め定め
た長さの反射面を有する、複数の基準鏡と、前記各基準
鏡へ照射された測長光の反射光を受光して、当該基準鏡
とそれに対応する測定基準点との距離を測長する、複数
の測長部とを有し、前記複数の基準鏡は、前記少なくと
も1つの座標軸方向と直交する座標軸方向に沿って、そ
の反射面が互いに異なる位置範囲を占めて並ぶように、
前記座標位置の測定系に対して静止している、前記それ
ぞれの測定基準点に対応する位置に配置されるものであ
り、前記複数の測長部は、前記移動ステージの測定すべ
き移動範囲全域で、前記複数の基準鏡のいずれかの反射
面へ、少なくとも1つの測長部からの測長光が照射され
るように、前記移動ステージの所定の位置に取り付けら
れるものであること、を特徴とする多軸位置決めユニッ
トにより達成される。
【0011】
【作用】本発明による多軸位置決めユニットにおいて、
測長装置は、複数の基準鏡と、複数の測長部とを用いて
測長を行なう。各基準鏡は、前記複数の座標軸方向のう
ち、少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向
での測定すべき座標範囲よりも短い、予め定めた長さの
反射面を有する。
【0012】本発明では、大型のワークに対応した広い
測定範囲での測長をするために、当該測定範囲に対応し
た長さの反射面を有する基準鏡を用いる必要はなく、よ
り小型の基準鏡を複数用いることにより実現する。
【0013】より小型の基準鏡は、大型の基準鏡に比較
して、その反射面の平面度を向上させ、その精度を保持
することが非常に容易である。このため、本発明によれ
ば、より広い範囲で高精度の位置決めが可能となる。
【0014】
【実施例】本発明を適用した多軸位置決めユニットの第
1の実施例を、図1〜5を用いて説明する。
【0015】本実施例は、y軸方向の測長に本発明を適
用した位置決めユニットであり、図1に示すように、x
方向駆動機構81及びy方向駆動機構82によりx及び
y方向に駆動されるX−Y移動ステージ8と、X−Y移
動ステージ8に固定される基準鏡7a、7b、7cと、
基準鏡7a、7bにレーザ光(以下測長光と呼ぶ)5
a、5bを照射してy方向の測長を、基準鏡7cに測長
光5cを照射してx方向の測長を行なうレーザ干渉測長
装置とを有する。
【0016】y軸方向の測長に用いられる基準鏡7a、
7bは、例えば長手方向の長さが300〜500mm
の、一面に金属等を蒸着した板状のガラス製である。基
準鏡7a、7bは、その長手方向がx軸方向と、その反
射面の法線がy軸方向とに、それぞれ略一致するよう
に、X−Y移動ステージ8の周辺の所定の部位に固定さ
れる。さらに、X−Y移動ステージ8がx軸方向での移
動可能範囲のほぼ中心に位置する状態(図1参照)で、
上記のような構成の基準鏡7a及び7bへ、測長光5a
及び5bが、互いにほぼ平行に照射されるように、レー
ザ干渉測長装置の測長光の照射位置が設定されている。
【0017】x軸方向の測長に用いられる基準鏡7c
は、基準鏡7a、7bの取付けられているX−Y移動ス
テージ8の側面と直交する側面に、その反射面がx軸方
向に略一致するように取付けられる。さらに、X−Y移
動ステージ8がy軸方向での移動可能範囲のほぼ中心に
位置する状態(図1参照)で、x軸方向の測長に用いら
れる測長光5cが基準鏡7cのほぼ中心へ照射されるよ
うに、レーザ干渉測長装置での測長光5cの照射位置が
設定されている。
【0018】なお、X−Y移動ステージ8の測長が可能
な移動範囲は、y軸方向においては、基準鏡7cのy軸
方向の長さに対応し、x軸方向においては、基準鏡7
a、7bのそれぞれのx軸方向の長さを合わせた長さに
対応する。
【0019】レーザ干渉測長装置は、x、y方向の測長
をそれぞれ行なうための干渉データを取得するx方向測
長部及びy方向測長部と、各測長部で得られる測長光の
干渉データからx、y方向の測長値を算出する演算部9
とを有する。
【0020】本実施例では、レーザ等の位相の整った測
長光をX−Y移動ステージ8に固定された基準鏡へ照射
し、当該基準鏡から反射されてくる反射光と照射された
測長光とが干渉することで生じる干渉縞を計測すること
で、基準鏡と測長光の照射装置との間の距離を測定す
る。なお、本発明で用いることが可能な測長装置は、本
実施例に限定されるものではなく、移動ステージに固定
された基準鏡に測長光を照射して距離を測定するもので
あれば、干渉を測定に用いない装置を使用した場合で
も、本実施例と同様な効果を得ることができる。
【0021】本実施例において、レーザ干渉測長装置の
y方向測長部は、レーザ光源1a、レーザ光源1aより
射出されたレーザ光を分配するビームスプリッタ2a、
2b、干渉計4a、4b、及び干渉縞検出器3a、3b
を有する。x方向測長部は、レーザ光源1b、干渉計4
c、及び干渉縞検出器3cを有する。
【0022】干渉計4a、4b、4cは、それぞれ同じ
構成を有する。各干渉計は、例えば図2に示すように、
固定鏡41と、レーザ光源側から入射したレーザ光を2
つに分け、その一方を固定鏡41へ、もう一方を測長光
としてX−Y移動ステージ8に取付けられた基準鏡へ向
けるビームスプリッタ42とを有する。
【0023】各干渉計のビームスプリッタ42からのレ
ーザ光は、それぞれ固定鏡41及び各基準鏡で反射さ
れ、再びビームスプリッタ42へ入射し、同一方向へ射
出されて干渉する。この時、ビームスプリッタ42から
固定鏡41までの距離と、ビームスプリッタ42から基
準鏡までの距離との差の変化に応じて、干渉縞が形成さ
れる。
【0024】干渉縞検出器3a、3b、3cは、フォト
ダイオード等の光検出素子をそれぞれ備え、上記のよう
な干渉計から射出された干渉光束の強度変化を測定する
ことで、干渉縞を計数し、計数結果を干渉データとし
て、演算部9へ出力する。
【0025】演算部9は、例えばCPU及びメモリを備
えるコンピュータにより実現されるもので、x、y方向
のそれぞれで設定されるリセット値と、当該リセット値
が設定された時点から計数が開始された干渉縞の個数と
から、各測長光による測長値を算出する。
【0026】本実施例において、x方向では従来通り単
一の測長光5cを用いているため、x方向の測長値X5c
は、そのままx方向の座標値として求められる。y方向
の座標値に関しては、干渉縞検出器3a、3bのそれぞ
れから算出された測長値Y5a、Y5bのいずれか一方が、
後述するような方法により、その時点でのx座標値に応
じて選択されて、選択された測長値がその時点でのy座
標値として求められる。
【0027】演算部9は、求められたx、y座標値を配
線83を介して、図示されない表示装置へ送り、X−Y
移動ステージ8の座標位置を表示させる。また、演算部
9は、配線84を介して、x、y方向駆動機構81、8
2の駆動制御装置(図示せず)と接続されており、該駆
動機構により行なわれる初期動作などの各種のイベント
情報を受け付ける。
【0028】本実施例では、例えば図3(a)のフロー
チャートに示すような処理手順に従い、演算部9により
求められた測長値から、X−Y移動ステージ8のx、y
座標値を決定する。以下にその処理手順を説明する。
【0029】X−Y移動ステージ8を駆動する、x、y
方向駆動機構81、82は、通常、操作を開始する前
に、その初期動作によって、X−Y移動ステージ8を予
め定めた初期位置へ移動する。本実施例の演算部9で
は、最初、この初期動作に連動して初期設定が行なわれ
る。初期設定では、X−Y移動ステージ8が初期位置に
配置された時点での測長値X5c、Y5aを、当該初期位置
に対応して予め設定されているリセット値(基準値)に
リセットする(ステップ31)。
【0030】なお、本実施例では、測長値Y5a、Y5b
用いる際に、測長値Y5aを初期設定すべき値として説明
しているが、替わりに測長値Y5bを初期設定する構成と
しても構わない。
【0031】ステップ31の初期設定後の以下のステッ
プでは、ユーザによる位置設定動作に応じて駆動される
X−Y移動ステージ8の座標位置を、所定の測定周期で
順次測定し、当該測定結果を配線83を介して出力す
る。
【0032】各測定周期においては、最初、測長値X5c
を座標値Xとして求め(ステップ32)、次に、この座
標値が、以下に説明する+領域、中心領域、及び−領域
のいずれに属するかを判定する(ステップ33)。
【0033】ここで、中心領域とは、図1に示されてい
るように、y軸方向測長のための測長光5a、5bが、
それぞれ基準鏡7a、7bに同時に照射されている状態
にある、x座標値の範囲である。
【0034】なお、本実施例では、この中心領域の具体
的範囲を限定するものではなく、2つの測長光がそれぞ
れ対となっている基準鏡に照射されている状態にある範
囲であれば良い。また、以下に説明する+領域及び−領
域の両領域についても、同様に、以下に示すような条件
を満たす領域であれば、本実施例では、その具体的な範
囲を限定するものではない。
【0035】+領域とは、図4に示すように、中心領域
からX−Y移動ステージ8がx軸+方向に移動して、基
準鏡7aに測長光5aが照射されず、かつ、基準鏡7b
に測長光5bが照射されている状態にあるx座標値の範
囲である。
【0036】−領域とは、上記+領域とは逆に、図5に
示すように、中心領域からX−Y移動ステージ8がx軸
−方向に移動して、基準鏡7bに測長光5bが照射され
ず、かつ、基準鏡7aに測長光5aが照射されている状
態にあるx座標値の範囲である。
【0037】ステップ33で、中心領域に位置すると判
定された場合は、測長光5aと基準鏡7aとによる測長
値Y5aをy軸方向の座標値Yとし(ステップ35)、該
測長値Y5aを基準として測長値Y5bの値をリセットする
(ステップ37)。
【0038】ステップ33で、+領域に位置すると判定
された場合には測長光5bと基準鏡7bとによる測長値
5bをy軸方向の座標値Yとし(ステップ36)、−領
域に位置すると判定された場合には測長光5aと基準鏡
7aとによる測長値Y5aをy軸方向の座標値Yとする
(ステップ34)。
【0039】本実施例によれば、従来はX−Y移動ステ
ージ8の移動可能な範囲と同じ長さの基準鏡が必要であ
ったのに比べて、該移動可能な範囲の半分程度の長さの
基準鏡を2つ用いることで、該移動可能な範囲全体での
高精度な測定が可能となる。さらに、より小さい基準鏡
を使用することができるため、用いる基準鏡の平坦度を
向上させ易いうえに、その保持が容易となる。したがっ
て、移動可能な範囲が大きな位置決めユニットの精度及
び信頼性を向上させることが可能となる。
【0040】本実施例では、y軸方向に、基準鏡と該基
準鏡に対応するレーザ干渉測長装置とを2組備えている
例について説明したが、本発明で用いることが可能な、
基準鏡及びレーザ干渉測長装置の組数はこれに限定され
るものではなく、例えば3組以上用いて、本実施例と同
様に構成することで、より広範囲の移動可能な範囲を確
保するような構成としても良い。
【0041】また、本実施例では、座標値xが中心領域
にある場合には、常に測長値Y5aを基準とし、測長値Y
5bをリセットする構成としたが、中心領域での測長値の
リセット方法はこれに限定されるものではなく、測長値
の連続性を確保するように、中心領域で測長データの受
け渡しができるように、X−Y移動ステージ8の移動先
の測長値を、移動元の測長値を基準としてリセットする
構成としても良い。
【0042】例えば、測長値Y5bを座標値として用いる
+領域から、測長値Y5aを座標値として用いる−領域の
方向へ移動する場合には、中心領域の所定の位置で測長
値Y5aを測長値Y5bを基準としてリセットし、逆に、−
領域から+領域の方向へ移動する場合には、上記所定の
位置で測長値Y5bを測長値Y5aを基準としてリセットす
る。
【0043】次に、本発明を適用した多軸位置決めユニ
ットの第2の実施例について、図6〜8を用いて説明す
る。本実施例は、上記第1の実施例の構成とほぼ同じを
有している。上記第1の実施例と同じ構成については、
同じ符号を使用し、その詳細については説明を省略す
る。
【0044】本実施例では、X−Y移動ステージ8がx
方向に移動してゆく際、図6に示すように、予め定めた
x軸方向の範囲(x0≦x≦x1)で、測長光5a、5
bが各々基準鏡7a、7bを同時に照射しながら移動す
る、適当な長さの区間ができるように、基準鏡7a、7
bの取り付け位置と、測長光5a、5bの照射位置とを
配置する。
【0045】なお、図中の測長光5a、5bは、x=x
0での基準鏡7a、7b上でのそれぞれの測長光の位置
を示し、5a’、5b’は、x=x1での位置を示す。
また、図中の斜線領域は、X−Y移動ステージ8がx方
向に移動してゆく際、測長光5a、5bが各々基準鏡7
a、7bを同時に照射することが可能な領域を示してい
る。
【0046】本実施例では、上記第1の実施例で述べた
中心領域として、図6中の斜線部分の範囲x0≦x≦x
1を用い、+領域として範囲x>x1を、−領域として
範囲x<x0を用いるものである。
【0047】さらに、本実施例では、上記中心領域での
測長データを用いて、2つの基準鏡を取付けたときに生
じる相対的な傾きθを求め、該傾きθにより生じるy軸
方向の誤差を補正することで、測定精度をより向上させ
るものである。
【0048】以下の説明では、図7に示すように、基準
鏡7aに対しx−y平面内のy方向へ基準鏡7bがθだ
け傾いている場合について説明する。
【0049】本実施例におけるx、y方向の座標値の決
定処理、及び傾きの補正処理は、例えば図8のフローチ
ャートに示す処理手順に従い実行される。本処理におい
て、ステップ801〜803、ステップ804は、上記
第1の実施例における処理のステップ31〜33、ステ
ップ34(図3参照)と同じであり、その説明は省略す
る。
【0050】本処理では、ステップ803でx座標値が
中心領域にあると判定された場合には、測長光5aと基
準鏡7aとによる測長値Y5aをy軸方向の座標値Yとし
(ステップ805)、傾き補正が可能な状態かどうかを
チェックする(ステップ807)。より具体的には、ス
テップ807では、例えばユーザからの指示が所定の時
間間隔だけ入力されていない状態を検知して、ユーザが
操作中ではないことを確認する。これは、後述するよう
に、傾き補正を行なう場合には、ある程度の範囲だけx
軸方向にX−Y移動テーブル8を移動させることが必要
であり、これによってユーザの操作を阻害しないように
するためである。
【0051】ステップ807で傾き補正が可能でないと
判定された場合(ステップ807でNo)には、図3の
ステップ37と同様に、この時点での測長値Y5aを基準
として測長値Y5bの値をリセットする(ステップ80
8)。
【0052】また、上記のようにリセットするのではな
く、中心領域内の所定の位置で、測長データの受け渡し
をするように、例えば、測長値Y5bを座標値として用い
る+領域から測長値Y5aを座標値として用いる−領域の
方向へ移動する場合には、上記所定の位置で測長値Y5a
を測長値Y5bを基準としてリセットし、逆に、−領域か
ら+領域の方向へ移動する場合には、測長値Y5bを測長
値Y5aを基準としてリセットする構成としても良い。
【0053】ステップ807で傾き補正が可能であると
判定された場合(ステップ807でYes)には、傾き
補正処理を実行する。この傾き補正処理では、最初、演
算部9は、x方向駆動機構81及びy方向駆動機構82
の駆動制御装置へ配線84を介して指示指令を送り、X
−Y移動ステージ8を、中心領域内にある、予め定めた
基準点(x=x0、y=y0)に移動させる(ステップ
809)。
【0054】さらに、上記基準点について予め設定され
た座標値の基準のリセット値により、測長値X5c、Y5a
をリセットすると共に、この時点での測長値Y5aを基準
として測長値Y5bの値をリセットする(ステップ81
0)。
【0055】次に、演算部9は、上記駆動制御装置へ配
線84を介して指示指令を送り、X−Y移動ステージ8
を予め定めた基準点(x=x0、y=y0)から、x軸
方向へ、x=x1の位置まで移動させ、その時点での測
長値Y5a、Y5bを取得する(ステップ811)。
【0056】上記ステップ810、811で得られた測
長値を用いて、以下の式により傾きθを求め、この求め
られた値により、後述するステップ806で用いる傾き
θの値を決定する。
【0057】 tanθ=[(Y5b’−Y5b)−(Y5a’−Y5a)]/(x1−x0) ・・(1) ここで、Y5b’、Y5a’は、それぞれ、x=x1での測
長光5b、5aによる測長値、Y5b、Y5aはx=x0で
の測長値である。
【0058】ステップ803で、x座標値が−領域内に
ある場合には、上記ステップ809〜812により得ら
れた基準鏡7bの傾きθを補正するために、測長値Y5b
と以下の式とから座標値Yを求める。
【0059】 Y=Y5b+(x−x1)・tanθ ・・・・・・・・・・・・・・(2) なお、上記傾き補正(ステップ809〜812)が実行
されるまでは、傾きθが決定されないため、上記ステッ
プ801の初期設定時に、傾きθの初期値を0、すなわ
ち、傾き無しと仮定する構成としても良い。
【0060】本実施例によれば、2つの基準鏡7a、7
bの相対的な傾きによる取り付け誤差を測定し、これを
補正することができるため、より高精度の測長が可能と
なる。さらに、2つの基準鏡の取り付け角度を、傾き補
正が可能な状態にあれば随時測定することができるた
め、基準鏡取り付け後に生じる、取り付け誤差の経時変
化の影響を受けない。
【0061】本実施例では、傾き補正処理を、通常の測
長処理とは異なる処理によって実行していたが、本発明
による傾き処理はこれに限定されるものではない。例え
ば、通常のy軸方向の測長処理で取得されるデータにお
いて、X−Y移動ステージ8が上記中心領域を途中で停
止せず通過するような場合のデータだけを収集し、該収
集したデータから、上記数1により傾きの算出する構成
としても良い。
【0062】次に、本発明を適用した多軸位置決めユニ
ットの第3の実施例を、図9を用いて説明する。本実施
例は、x軸方向の移動可能な範囲をより広くすることが
可能なものであり、上記第1の実施例の構成において、
基準鏡7a、7bの長さと配置位置、及び測長光5a、
5b間の距離の具体的な関係の例を示すものである。
【0063】本実施例では、図9(a)に示すように、
測長光5a、5bのx軸方向での間隔をLとした場合
に、基準鏡7a、7bのx軸方向の長さをL+δ(δは
微少量とする)とし、これらの基準鏡を互いに間隔L−
2δだけ離して配置する。
【0064】本実施例において、X−Y移動ステージ8
が例えばx軸+方向に移動されると、上記第1の実施例
で定義された中心領域(図9(a))では測長光5a及
び基準鏡7aによる測長値Y5a、+領域(図9(b))
では測長光5b及び基準鏡7bにより測長値Y5bによ
り、座標値Yが決定される。
【0065】本実施例では、上記+領域よりもさらにx
軸+方向へ移動した場合(図9(c))に、測長光5a
及び基準鏡7bによる測長値Y5abを座標値Yとして決
定する。なお、データの連続性を保証するために、測長
光5bが基準鏡7bに照射されなくなる手前の図9
(b)の位置で、測長値Y5bを基準として測長値Y5ab
をリセットする。
【0066】上記ではx軸+方向の移動について説明し
たが、x軸−方向についても同様なことが言える。
【0067】本実施例によれば、x軸方向の長さL+δ
の基準鏡を2つ配置し、これら基準鏡に間隔Lだけ離れ
て配置された照射位置から測長光を照射することによ
り、長さL程度の基準鏡2つにより、x軸方向で約±2
Lの移動可能な範囲を得ることが可能となる。
【0068】以上、上記第1〜第3の実施例は、x軸方
向に広い移動範囲を有し、y軸方向の測長に本発明を適
用した例について説明したが、本発明を、図10に示す
ように、x、yの両軸方向に対して適用することで、よ
り広い2次元領域において位置決めが可能な位置決めユ
ニットを提供することもできる。
【0069】本発明を適用した多軸位置決めユニットの
第4の実施例を、図11、図12を用いて説明する。本
実施例は、上記図第1の実施例(図1参照)と同様、x
軸方向に広い可動範囲をもつ位置決めユニットである。
ここで、図を見やすくするため、y方向駆動機構82は
省略してあるが、基準鏡7a、7b及び測長光の配置位
置、及びレーザ干渉測長装置のy方向測長部の構成以外
は、上記第1の実施例と同じ構成を有している。
【0070】本実施例の基準鏡7a、7bは、図11に
示すように、X−Y移動ステージ8の側壁表面上に互い
に平行となるように取付けられている。また、これら2
つの基準鏡は、x軸方向の移動可能な範囲のほぼ中心で
その一部が重なるように、互いにz軸方向にずれて配置
されている。
【0071】レーザ干渉測長装置のy方向測長部では、
図11に示すような基準鏡7a、7bに測長光5a、5
bを照射することが可能であるように、干渉計4a、4
bと、干渉縞検出器3a、3bとが、z軸方向に重なる
ように配置される。y方向測長部は、レーザ光源1aか
らのレーザ光を、これら干渉計4a、4bへ送ることが
できるように、ビームスプリッタ2a〜2dを有してい
る。
【0072】本実施例では、上記第1あるいは第2の実
施例で定義された中心領域は、図12中に斜線領域とし
て示された領域であり、上記第1または第2の実施例で
の処理手順と同じ手順により、X−Y移動ステージ8の
座標値x、yが決定される。
【0073】本実施例によれば、上記第1及び第2の実
施例と同様に、X−Y移動ステージ8の移動可能な範囲
の半分程度の長さの基準鏡を2つ用いることで、該範囲
全体での高精度な測定が可能となる。さらに、より小さ
い基準鏡を使用することができるため、用いる基準鏡の
平坦度を向上させ易いうえに、その保持が容易となる。
したがって、移動可能な範囲が大きな位置決めユニット
の精度及び信頼性を向上させることが可能となる。
【0074】本発明を適用した多軸位置決めユニットの
第5の実施例、図13を用いて説明する。本実施例は、
x方向に移動可能な位置決めユニットであり、移動テー
ブル10のy方向へのわずかな変位を検出するために、
y方向の測長に本発明を実施した例である。
【0075】本実施例は、上記第4の実施例においてX
−Y移動テーブル8に固定されていた基準鏡7a、7b
を、移動テーブル10の座標測定系に対して静止するよ
うに固定されている基準鏡固定冶具11に取り付け、干
渉計5a、5bを移動テーブル10に取り付けたもので
ある。
【0076】本実施例の他の構成要素は、上記第4の実
施例の構成要素と同じもので、図中には同じ符号で示
し、その説明は省略する。
【0077】本実施例によれば、x軸方向での移動の際
に生じる、y軸方向のガタを高精度に測定することが可
能となる。
【0078】従来のレーザ干渉測長装置を利用した位置
決めユニットでは、位置測定の基準となる基準鏡の反射
面は少なくとも移動ステージ上のワークの各座標方向の
寸法以上のものが必要であったが、上記第1〜第5の実
施例によれば、使用する基準鏡の大きさはワークの寸法
によらず小さくできる。
【0079】このため、上記第1〜第5の実施例では、
大型のワークに対して、従来のように大きな基準鏡を用
意する必要がなく、より高精度に加工しやすく、さらに
使用中の変形も少ない小型の基準鏡を用いることができ
る。
【0080】その結果、大型のワークもその全範囲にわ
たり、容易に、より高精度に測定することが可能にな
る。
【0081】
【発明の効果】本発明によれば、より広い範囲で高精度
の位置決めが可能な位置決めユニットを提供することが
できる。
【0082】
【図面の簡単な説明】
【図1】は本発明の第1の実施例の構成を示す斜視図で
ある。
【図2】は干渉計の構成を示す説明図である。
【図3】は第1の実施例の処理手順を示すフローチャー
トである。
【図4】は第1の実施例でのX−Y移動ステージが+領
域に移動した状態を示す斜視図である。
【図5】は第1の実施例でのX−Y移動ステージが−領
域に移動した状態を示す斜視図である。
【図6】は本発明の第2の実施例での中心領域を示す斜
視図である。
【図7】は基準鏡7bに相対的な傾きがある状態を示す
斜視図である。
【図8】は第2の実施例での処理手順を示すフローチャ
ートである。
【図9】図9(a)は本発明の第3の実施例での測長光
と基準鏡との位置関係の一例を示す説明図である。図9
(b)は本発明の第3の実施例での測長光と基準鏡との
位置関係の一例を示す説明図である。図9(c)は本発
明の第3の実施例での測長光と基準鏡との位置関係の一
例を示す説明図である。
【図10】は本発明をx、y両方向に適用した場合の実
施例の構成を示す斜視図である。
【図11】は本発明の第4の実施例の構成を示す斜視図
である。
【図12】は本発明の第4の実施例での中心領域を示す
斜視図である。
【図13】は本発明の第5の実施例の構成を示す斜視図
である。
【図14】は従来技術の位置決めユニットの構成を示す
斜視図である。
【符号の説明】
1,1a,1b:レーザ光源 2a,2b,2c,2d:ビームスプリッタ 3a,3b,3c,3d:干渉縞検出器 4a,4b,4c,4d:固定鏡およびビームスプリッタ
からなる干渉計 5c,5d:X軸方向測長用測長ビーム 5a,5b:Y軸方向測長用測長ビーム 7a,7b,7c,7d:基準鏡反射面 8:X−Y移動ステージ 9:演算装置 10:X移動ステージ 11:基準鏡固定治具

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の座標軸方向での座標位置によってそ
    の位置が測定される移動ステージと、前記複数の座標軸
    方向で前記移動ステージと所定の測定基準点との距離を
    測長する測長装置と、前記測長装置の測長結果を用いて
    前記移動ステージの各座標軸方向での座標位置を決定す
    る位置決定装置とを有する多軸位置決めユニットにおい
    て、 前記測長装置は、前記複数の座標軸方向のうち、少なく
    とも1つの座標軸方向での測長では、 当該少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向
    での測定すべき座標範囲よりも短い、予め定めた長さの
    反射面を有する、複数の基準鏡と、 前記各基準鏡へ照射された測長光の反射光を受光して、
    当該基準鏡とそれに対応する測定基準点との距離を測長
    する、複数の測長部とを有し、 前記複数の基準鏡は、前記少なくとも1つの座標軸方向
    と直交する座標軸方向に沿って、その反射面が互いに異
    なる位置範囲を占めて並ぶように、前記移動ステージに
    それぞれ固定され、 前記複数の測長部は、前記移動ステージの測定すべき移
    動範囲全域で、前記移動ステージと共に移動する前記複
    数の基準鏡のいずれかの反射面へ、少なくとも1つの測
    長部からの測長光が照射されるように、前記座標位置の
    測定系に対して静止している、各測長部に対応した測定
    基準点にそれぞれ配置されるものであることを特徴とす
    る多軸位置決めユニット。
  2. 【請求項2】複数の座標軸方向での座標位置によってそ
    の位置が測定される移動ステージと、前記複数の座標軸
    方向で前記移動ステージと所定の測定基準点との距離を
    測長する測長装置と、前記測長装置の測長結果を用いて
    前記移動ステージの各座標軸方向での座標位置を決定す
    る位置決定装置とを有する多軸位置決めユニットにおい
    て、 前記測長装置は、前記複数の座標軸方向のうち、少なく
    とも1つの座標軸方向での測長では、 当該少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向
    での測定すべき座標範囲よりも短い、予め定めた長さの
    反射面を有する、複数の基準鏡と、 前記各基準鏡へ照射された測長光の反射光を受光して、
    当該基準鏡とそれに対応する測定基準点との距離を測長
    する、複数の測長部とを有し、 前記複数の基準鏡は、前記少なくとも1つの座標軸方向
    と直交する座標軸方向に沿って、その反射面が互いに異
    なる位置範囲を占めて並ぶように、前記座標位置の測定
    系に対して静止している、前記それぞれの測定基準点に
    対応する位置に配置されるものであり、 前記複数の測長部は、前記移動ステージの測定すべき移
    動範囲全域で、前記複数の基準鏡のいずれかの反射面
    へ、少なくとも1つの測長部からの測長光が照射される
    ように、前記移動ステージの所定の位置に取り付けられ
    るものであることを特徴とする多軸位置決めユニット。
  3. 【請求項3】請求項1または2において、 前記複数の測長部は、前記少なくとも1つの座標軸方向
    での測長を、前記少なくとも1つの座標軸方向と直交す
    る座標軸方向での測定すべき座標範囲の中の、各測長部
    に対応して予め設定される個別測定範囲で行なうもので
    あり、 前記複数の個別測定範囲は、それらを全て合わせた場
    合、前記測定すべき座標範囲全域を含めるものであるこ
    とを特徴とする多軸位置決めユニット。
  4. 【請求項4】請求項3において、 前記位置決定装置は、 前記少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向
    での前記移動ステージの座標位置を取得する取得手段
    と、 前記複数の個別測定範囲のうち、前記取得された座標位
    置を含む1つの個別測定範囲を選択し、当該選択された
    個別測定範囲に対応する測長部から出力される測長結果
    を用いて、この時点での前記少なくとも1つの座標軸方
    向での前記移動ステージの座標位置を決定する決定手段
    とを有することを特徴とする多軸位置決めユニット。
  5. 【請求項5】請求項4において、 前記複数の個別測定範囲のうちの予め定めた個別測定範
    囲は、当該予め定めた個別測定範囲に隣合う個別測定範
    囲と一部重複する範囲部分を有し、 前記取得手段により取得された、前記少なくとも1つの
    座標軸方向と直交する座標軸方向での前記移動ステージ
    の座標位置が、前記重複する範囲部分に含まれる場合に
    は、当該重複する範囲部分を有する2つの個別測定範囲
    に対応する測長部のそれぞれからの測長結果のうち、一
    方を基準として他方をリセットするリセット手段をさら
    に有することを特徴とする多軸位置決めユニット。
  6. 【請求項6】請求項5において、 前記少なくとも1つの座標軸方向と直交する座標軸方向
    での前記重複する範囲部分内に設定された、複数の座標
    位置のそれぞれで得られる、当該重複する範囲部分を有
    する2つの個別測定範囲に対応する測長部のそれぞれか
    らの測長結果を取得し、当該測長結果を用いて、当該2
    つの組の測長部に対応する2つの基準鏡の一方の取り付
    け位置を基準とした、他方の取り付け位置の、前記少な
    くとも1つの座標軸方向での傾きを算出する傾き算出手
    段と、 前記算出された傾きを用いて、前記他方の基準鏡の取り
    付け位置の傾きにより生じる、前記他方の基準鏡に対応
    する測長部からの測長結果の誤差を補正する補正手段と
    をさらに有することを特徴とする多軸位置決めユニッ
    ト。
JP7040670A 1995-02-28 1995-02-28 多軸位置決めユニット Pending JPH08233524A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101007383B1 (ko) * 2010-05-26 2011-01-13 삼성탈레스 주식회사 정렬 기준 미러 및 그를 이용한 레이저 거리 측정기 정렬 방법
JP2017106876A (ja) * 2015-12-11 2017-06-15 キヤノン株式会社 計測装置、および計測方法
JP2019500614A (ja) * 2015-12-31 2019-01-10 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 干渉計測定装置およびその制御方法
WO2020009732A1 (en) * 2018-07-03 2020-01-09 Applied Materials, Inc. Interferometry system and methods for substrate processing

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JP2019500614A (ja) * 2015-12-31 2019-01-10 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 干渉計測定装置およびその制御方法
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