JP2019500614A

JP2019500614A - 干渉計測定装置およびその制御方法

Info

Publication number: JP2019500614A
Application number: JP2018534058A
Authority: JP
Inventors: シンシェン
Original assignee: シャンハイマイクロエレクトロニクスイクイプメント（グループ）カンパニーリミティド
Priority date: 2015-12-31
Filing date: 2016-12-28
Publication date: 2019-01-10
Anticipated expiration: 2036-12-28
Also published as: TW201730510A; TWI627382B; WO2017114415A1; KR102044112B1; JP6617202B2; US20190033057A1; KR20180095079A; CN106931878A; US10393507B2

Abstract

干渉計測定装置は、ワークステージ１０と、レーザ干渉計２０と、ワークステージに搭載された測定用リフレクタ３０と、を備える。測定用リフレクタ３０は、多数の平面鏡３１を水平方向に沿って継ぎ合わせることで形成されている。レーザ干渉計２０は、第１の干渉計２１及び第２の干渉計２２を備える。レーザ干渉計２０に対してワークステージ１０が水平方向に移動して、第１の干渉計２１及び第２の干渉計２２から出射された光が、隣り合う２つの平面鏡３１の移行部３２に送られると、第１の干渉計２１及び第２の干渉計２２は、第１の干渉計２１から出射された光が２つの隣り合う平面鏡３１の一方に送られ、第２の干渉計２２から出射された光が２つの隣り合う平面鏡３１の他方に送られ、第１の干渉計２１と第２の干渉計２２が交互に位置情報をワークステージ１０に提供するように構成されている。干渉計測定装置の制御方法。上記の装置及び方法において、多数の平面鏡３１の継ぎ合わせを用いることで、また、２つの干渉計２１、２２の協働によりゼロ基準を交互に更新することで、ワークステージ１０の水平面における測定範囲が拡大される。
【選択図】図２

Description

本発明は、光電気機械装置に関し、特に、干渉計測定装置およびその制御方法に関する。

従来のフォトリソグラフィ装置の干渉計型の測定システムでは、レーザ干渉計が、ワークステージ又はウエハステージ（まとめて「ワークステージ」と称する。）の位置および回転を正確に測定するために使用されることが多い。図１を参照して、フォトリソグラフィ装置のワークステージ１を水平Ｘ方向またはＹ方向（ここでは、座標系は垂直Ｚ軸および水平Ｘ方向およびＹ方向で定義される。）で測定するために、通常、ワークステージ１の側面に長尺リフレクタ２が搭載されている。レーザ干渉計３から出射された光は、長尺リフレクタ２に垂直に入射し、ワークステージのＸ、Ｙ座標を計測する。一般に、ワークステージ１は、垂直方向に長い距離移動することはないが、水平方向に長い距離移動することがある。従って、ストロークの大きいワークステージ１のＸ、Ｙ座標の計測を達成するには、ストロークに匹敵する長さの長尺リフレクタ２を用意する必要がある。このため、このような干渉計型の計測装置を備えた従来のフォトリソグラフィ装置では、ワークステージ１の水平方向におけるストロークは、一般に、長尺リフレクタ２の長さによって制限され、ワークステージ１のストロークが長くなると長尺リフレクタ２も長くすることが求められ、加工が困難になり、製造コストが高くなる傾向がある。

したがって、長尺リフレクタを長くしなくてもワークステージの測定範囲を拡大することができる干渉計測定装置およびその制御方法が本分野において急務となっている。

本発明の干渉計測定装置および干渉計測定装置の制御方法は、加工が困難で高い製造コストを招きかねない長尺リフレクタの長過ぎる問題を解決するためになされたものである。

上述の課題を解決すべく、本発明は、ワークステージと、レーザ干渉計と、前記ワークステージに搭載された測定用リフレクタと、を備えた、干渉計測定装置であって、前記測定用リフレクタは、水平方向に沿って互いに連結された複数の平面鏡で構成されており、前記レーザ干渉計は、第１の干渉計及び第２の干渉計を備え、前記の第１の干渉計及び第２の干渉計は、水平方向に沿って前記レーザ干渉計に対して前記ワークステージが移動している間に、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計から出射された光線が前記複数の平面鏡の対応する２つによって定義された移行部に入射すると、前記第１の干渉計から出射された前記光線が前記隣り合う２つの平面鏡の１つに入射すると共に前記第２の干渉計から出射された前記光線が前記隣り合う２つの平面鏡の他方に入射し、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計が交互に位置情報を前記ワークステージに提供するように構成されている、干渉計測定装置を提供する。
好ましくは、前記測定用リフレクタは、水平方向に互いに連結された複数の矩形の平面鏡で構成されており、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計は、互いに横並びに配置されており、前記移行部は、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計の間の距離の少なくとも２倍の幅を有する。
好ましくは、前記測定用リフレクタは、水平方向に互いに連結された複数の逆Ｔ字型の平面鏡で構成されており、前記複数の逆Ｔ字型の平面鏡の隣り合う２つのそれぞれは、互いに逆向きとなるように方向付けされており、前記複数の逆Ｔ字型の平面鏡のそれぞれは、ベースと凸部を有し、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計は、互いに上下に積み重なっており、前記移行部は、前記複数の平面鏡の隣り合うもののベースによって規定されている。
好ましくは、前記レーザ干渉計は、一軸干渉計又は二軸干渉計として実施される。
好ましくは、前記測定用リフレクタは、前記ワークステージの側面に搭載され、且つ、水平面に対して直角であり、前記レーザ干渉計から出射された前記光線は、前記測定用リフレクタの法線に対して平行となる方向で前記測定用リフレクタの表面に垂直に入射し、元の経路に戻る。
好ましくは、前記測定用リフレクタは、前記ワークステージの側面に搭載されており、且つ、前記ワークステージの前記側面に対して１３５°の角度で傾斜しており、前記レーザ干渉計は、更に、前記ワークステージの上に配置された第２の平面鏡を備え、前記第２の平面鏡は、前記ワークステージのワーク支持面に対して平行となるように方向付けされており、前記レーザ干渉計から出射された前記光線は、前記測定用リフレクタの表面に、その法線に対して４５°の角度で入射し、これにより前記第２の平面鏡へ反射され、そして元の経路に戻る。
好ましくは、前記干渉計測定装置の制御方法であって、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計からの前記光線が対応する移行部に入射している間、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計は前記ワークステージに現在の位置情報を交互に提供し、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することで、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つ間の表面の非直線性における誤差を補正する、制御方法が提供される。
好ましくは、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することは、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計からの前記光線が対応する前記移行部に入射したとき、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計のうち、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の連結部を最初に横切る前記光線を射出する一方を無効干渉計とし、他方を有効干渉計とすること、前記有効干渉計が、それによって得られた前記現在の位置情報を前記ワークステージ及び前記無効干渉計に提供することと、前記無効干渉計が、前記有効干渉計からの前記位置情報と、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の表面の非直線性の誤差と、に基づいて、前記無効干渉計の更新されたゼロ基準を計算すること、を含む。
好ましくは、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することは、更に、前記有効干渉計からの前記光線も前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の前記連結部を横切った後、前記更新されたゼロ基準で前記有効干渉計のゼロ基準を更新すること、を含む。
好ましくは、表面の非直線性の前記誤差は、前記対応する移行部における前記第１の干渉計と前記第２の干渉計の光路長の差である。

従来技術と比較して、本発明は、干渉計測定装置およびその制御方法を提供する。干渉計測定装置は、ワークステージと、レーザ干渉計と、ワークステージに搭載された測定リフレクタとを含む。測定リフレクタは、水平方向に沿って互いに連結された複数の平面鏡のアセンブリである。レーザ干渉計は、第１干渉計および第２干渉計を含む。ワークステージの前進中に、第１の干渉計および第２の干渉計からの光線が移行部へ入射すると、第１の干渉計および第２の干渉計は交互に位置情報をワークステージに供給する。移行部の各々について、第１の干渉計および第２の干渉計からの光線は、移行部を規定するそれぞれの対応する隣り合う２つの平面鏡に入射する。本発明によれば、ワークステージの水平測定範囲は、互いに連結された複数の平面鏡を使用することによって、また、２つの干渉計のゼロ基準を交互に更新することによって延長される。

図１は、従来の干渉計測定装置の構造概略図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る干渉計測定装置の構造概略図である。図３は、本発明の第１の実施形態に係る干渉計測定装置におけるレーザ干渉計の構造概略図である。図４は、本発明の第１の実施形態による干渉計測定装置の移行部におけるゼロ点の配置を概略的に示す。図５ａから図５ｄは、本発明の第１の実施形態による干渉計測定装置の制御方法を概略的に示す。図６は、本発明の第２実施形態に係る干渉計測定装置の構造概略図である。図７は、本発明の第２の実施形態に係る干渉計計測装置におけるレーザ干渉計の構造概略図である。図８ａから図８ｃは、本発明の第２実施形態による干渉計測定装置の制御方法を概略的に示す。図９は、本発明の第３の実施形態に係る干渉計測定装置の構造概略図である。

図１において、１はワークステージであり、２は長尺リフレクタであり、３はレーザ干渉計である。図２から図９において、１０はワークステージであり、２０はレーザ干渉計であり、２１は第１の干渉計であり、２２は第２の干渉計であり、３０は第１の長尺リフレクタであり、３１は平面鏡であり、３２は移行部であり、３３はゼロ点であり、４０は４５度平面鏡であり、５０は第２の平面鏡である。

本発明の上記の目的、特徴、および利点がより明らかであり、容易に理解されるようにするために、そのいくつかの詳細な実施形態を、添付の図面を参照して以下に詳細に説明する。これらの図は、実施形態を説明する上での便宜および明瞭性を容易にする目的のみで、必ずしも一定の縮尺で示されていない非常に簡略化された形態で提供されていることに留意されたい。

実施形態１
本発明に係る干渉計測定装置は、図２及び図３に示すように、ワークステージ１０と、レーザ干渉計２０と、ワークステージ１０の側面に搭載された第１の長尺リフレクタ３０と、を含む。第１の長尺リフレクタ３０は、水平方向で互いに連結された複数の平面鏡３１で構成されており、隣り合う２つの平面鏡３１がそれらの間の連結部に移行部３２を規定している。レーザ干渉計２０は、第１の干渉計２１と第２の干渉計２２を含む。ワークステージ１０の移動中、レーザ干渉計２０が移行部３２の１つに直面すると、第１および第２の干渉計２１，２２からの光線が、移行部３２を規定する２つの平面鏡３１のそれぞれに入射する。従って、各移行部３２において、第１および第２の干渉計２１，２２からの光線は、それぞれ対応する２つの平面鏡３１に入射する。このようにして、本発明によれば、互いに連結された複数の平面鏡３１を使用することによって、また、２つの干渉計のゼロ基準を交互に更新することによって、ワークステージ１０の水平方向における測定範囲を拡張することができる。

引き続き図２および図３を参照すると、この実施形態では、第１の長尺リフレクタ３０は、水平方向に沿って互いに連結された複数の逆Ｔ字型の平面鏡３１によって構成されており、隣り合う２つの平面鏡３１は互いに逆向きとされている。すなわち、隣り合う２つの平面鏡３１の一方を逆Ｔ字型とすると、隣り合う２つの平面鏡３１の他方はＴ字型となる。第１の干渉計２１および第２の干渉計２２は、上下に積み重ねられている。

このような平面鏡のアセンブリに単一のレーザ干渉計が使用されると、隣り合う２つの平面鏡の間にギャップが存在して連結誤差を引き起こす可能性があるので、単一のレーザ干渉計のゼロ基準は無効となり、連結部を横切って走査したときに測定精度が損なわれる。対照的に、この実施形態では、２つの干渉計からの光線が、移行部３２で２つの平面鏡３１のそれぞれに入射するので、連結誤差が生じる問題を回避することができる。

好ましくは、図４を参照すると、逆Ｔ字型の平面鏡３１のそれぞれは、ベースと凸部を含む。この実施形態では、各移行部分３２は、対応する２つの隣り合う逆Ｔ字型の平面鏡３１のベースを上下に積み重ねることで構成されている。いくつかのゼロ点３３がベースの１つの端部に設けられており、レーザ干渉計２０と移行部３２との間における進行中の相互作用を示している。４つのゼロ点３３のみが図４に概略的に示されているが、本発明はこれに限定されず、ゼロ点３３の数は、移行部３２の長さ、干渉計のサンプリング周波数、ワークステージ１０の移動速度などの１つ又はそれ以上のパラメータによって決定してもよい。

好ましくは、レーザ干渉計２０は、ワークステージ１０の一方向の移動を測定することができる一軸干渉計であってもよいし、ワークステージ１０の一方向の移動及び回転を測定することができる二軸干渉計であってもよい。

好ましくは、レーザ干渉計２０は、フォトリソグラフィ装置のメインフレームに固定されてもよい。レーザ干渉計２０の計測方向は、レーザ干渉計２０から出射される光線の伝播方向と一致し、第１の長尺リフレクタ３０の法線と平行であり、もって、レーザ干渉計２０からの光線は、第１の長尺リフレクタ３０に対して垂直に入射する。

本発明はまた、上記のような干渉計測定装置の制御方法を提供する。第１および第２の干渉計２１，２２は、第１および第２の干渉計２１，２２からの光線が移行部３２を横切るように走査する間、現在位置の情報を交互に提供し、測定された位置情報を用いて、他方の干渉計のゼロ基準を更新し、隣り合う平面鏡間の表面の非直線性の誤差（differences in surface nonlinearity）を補正する。

好ましくは、表面の非直線性の誤差は、第１の干渉計２１と第２の干渉計２２の光路長の差である。具体的には、ワークステージ１０の横方向の移動の結果として第１及び第２の干渉計が移行部３２を横切るように走査している間、第１の干渉計２１の光路長ｌｕｉおよび第２の干渉計２２の光路長ｌｄｉは、異なる位置において記録され、隣り合う平面鏡３１の間における表面の非直線性の誤差は、ｄｅｌｔａ＿ｌ＝ｌｕｉ−ｌｄｉとして計算され得る。

ワークステージ１０上に搭載された第１の長尺リフレクタ３０のレーザ干渉計２０に対する移動は、レーザ干渉計２０からの光線が第１の長尺リフレクタ３０を横切るように走査することと同等であることが理解されるであろう。光線が移行部３２の１つを横切るように走査する間、第１の干渉計２１および第２の干渉計２２のうち、対応する２つの隣り合う平面鏡３１の間の連結部を最初に横切るように走査する光線を出射する一方を無効干渉計と定義し、他方を有効干渉計として定義する。有効干渉計は、現在位置の情報をワークステージ１０に提供し、一方で、無効干渉計は、有効干渉計によって提供された位置情報と、隣り合う２つの平面鏡３１の間のデルタＬで示される表面の非直線性の誤差と、の双方に基づいてゼロ基準の補正を実行する。

好ましくは、無効干渉計のゼロ基準の補正は、移行部３２において第１の長尺リフレクタ３０の長手方向に沿って配置されたいくつかのゼロ点３３を選択することと、有効干渉計によって得られた位置情報と、隣り合う２つの平面鏡３１間の移行部３２における表面の非直線性の誤差に基づいて、ゼロ点３３における無効干渉計のゼロオフセットｈ０１、ｈ０２、ｈ０３．．．を算出することと、極端な値（すなわち、すべてのゼロオフセットの平均から最も多い方に及び少ない方に偏向したもの）を示すゼロオフセットを廃棄することと、残りのゼロオフセットの平均を求めて無効化干渉計の更新されたゼロ基準とすることと、を含む。

次に、本発明の干渉計測定装置の制御プロセスについて、図５ａから図５ｄを参照して以下、説明する。

図５ａに示すように、上側の第１の干渉計２１及び下側の第２の干渉計２２から出射された光線は、いずれも１つの平面鏡３１（図中の平面鏡１）に入射している。この時点で、第２の干渉計２２は位置情報の提供を担当している。

図５ｂに示すように、レーザ干渉計２０が前進してすぐ下流側の移行部３２に直面すると、上側の第１の干渉計２１からの光線は次の平面鏡３１（図中の平面鏡２）に入射し、下側の第２の干渉計２２からの光線は依然として前の平面鏡３１（図中の平面鏡１）に入射している。この時点で、第１の干渉計２１が２つの隣り合う平面鏡３１の間の連結部を横切るように走査するので、第１の干渉計２１は無効となり、その出力は破棄される。その結果、第２の干渉計２２は、位置情報の提供を継続し、第１の干渉計２１のゼロ基準は、第２の干渉計２２によって提供される位置情報で更新される。

図５ｃに示すように、下側の第２の干渉計２２がさらに前進して次の平面鏡３１（図中の平面鏡２）に対面すると、第２の干渉計２２の出力は破棄され、更新された第１の干渉計２１が位置情報をワークステージ１０に提供し始める。

図５ｄに示すように、レーザ干渉計２０がさらに前進して次の移行部３２に対面すると、上側の第１の干渉計２１からの光線は依然として２番目の平面鏡３１（図中の平面鏡２）に入射しており、一方で、下側の第２の干渉計２２からの光線は、更に次の平面鏡３１（図中の平面鏡３）に入射する。この時点で、第１の干渉計２１は位置情報を提供し続け、これに基づいて第２の干渉計２２のゼロ基準が更新される。第１の干渉計２１が前進して図中の平面鏡３に対面すると、更新された第２の干渉計２２が位置情報をワークステージ１０に提供し始める。

これらのステップは、第１の長尺リフレクタ３０の測定が完了するまで反復される。

この方法により、加工が困難で高い製造コストを招きかねない長尺リフレクタの長過ぎる問題、および、平面鏡３１の組み立ての際に発生し得る、測定精度を低下させるような連結誤差の問題を解決することができる。

実施形態２
好ましくは、図６および図７に示すように、第１の長尺リフレクタ３０は、代わりに、水平方向に沿って一緒に配置された複数の矩形の平面鏡３１により構成され、第１および第２の干渉計２１，２２は互いに横並びに配置されてもよい。さらに、移行部３２は、第１の干渉計２１と第２の干渉計２２との間の距離の少なくとも２倍の幅を有するように規定されてもよい。この実施形態では、ワークステージ１０の前進に伴って、第２の干渉計２２からの光線が次の平面鏡３１に最初に入射する。この時点で、第１の干渉計２１は位置情報を提供しており、第２の干渉計２２のゼロ基準はそれに基づいて更新される。第１の干渉計２１および第２の干渉計２２がさらに前進して次の平面鏡３１に共に対面すると、第２の干渉計２２が位置情報を提供し始め、これに基づいて第１の干渉計２１のゼロ基準が更新される。これらのステップは、第１の長尺リフレクタ３０の測定が完了するまで反復される。

以下、本実施形態に係る干渉計測定装置の制御プロセスについて、図８ａから図８ｃを参照して以下に説明する。

図８ａに示すように、第１の干渉計２１（図中左方）および第２の干渉計２２（図中右側）からの光線は、いずれも平面鏡３１の１つ（図中の平面鏡１）に入射している。この時点で、第１の干渉計２１は位置情報の提供を担当している。

図８ｂに示すように、第１の干渉計２１および第２の干渉計２２からの光線がいずれもすぐ下流側の移行部３２に入射すると、第２の干渉計２２からの光線が次の平面鏡３１（図中の平面鏡２）に入射し、第１の干渉計２１からの光線が前の平面鏡３１（図中の平面鏡１）に依然として入射している。この時点では、第２の干渉計２２が無効となり、第２の干渉計２２からの光線が平面鏡３１（図中の平面鏡２）のゼロ点３３に入射すると、第２の干渉計２２のゼロ基準が、第１の干渉計２１によって提供される位置情報と、隣り合う２つの平面鏡３１（図の平面鏡１および２）の間の表面の非直線性の誤差と、の双方に基づいて更新される。

図８ｃに示すように、第１の干渉計２１もさらに前進して次の平面鏡３１（図中の平面鏡２）に対面すると、第１の干渉計２１の出力は破棄され、更新された第２の干渉計２２が位置情報をワークステージ１０に提供し始める。同時に、第１の干渉計２１のゼロ基準が第２の干渉計２２によって提供される位置情報に基づいて更新される。第２の干渉計２２が更に前進して図中の平面鏡３に対面すると、更新された第１の干渉計２１が代わりに位置情報をワークステージ１０に提供し始める。

実施形態３
好ましくは、図９を参照して、この実施形態は、干渉計測定装置が４５度平面鏡４０と第２の平面鏡５０とをさらに含む点で実施形態１と異なる。４５度平面鏡４０は、第１の長尺リフレクタ３０の下に配置され、第１の長尺リフレクタ３０に対して１３５°の角度及び第２の平面鏡５０に対して４５°の角度を形成するように方向付けされている。レーザ干渉計２０から出射された光の一部は、４５度平面鏡４０によって第２の平面鏡５０に導かれ、元の経路に戻る。４５度平面鏡４０は、測定範囲を拡大するために、実施例１の平面鏡３１と同様に組み立てられている。この実施形態によれば、水平自由度に加えて、ワークステージ１０を垂直自由度でさらに測定することができる。

実施形態４
本実施形態が実施形態１と異なる点は、測定範囲を拡大するために実施形態２の平面鏡と同様に４５度平面鏡４０が組み立てられている点である。

要約すると、本発明は、干渉計測定装置およびその制御方法を提供する。干渉計測定装置は、ワークステージ１０と、レーザ干渉計２０と、ワークステージ１０の側面に搭載された測定用リフレクタ（第１の長尺リフレクタ３０及び／又は４５度平面鏡４０）と、を含む。測定用リフレクタは、水平方向に沿って互いに連結された複数の平面鏡３１のアセンブリであり、レーザ干渉計２０は、第１の干渉計２１および第２の干渉計２２を含む。ワークステージ１０の前進している間、レーザ干渉計２０がいずれかの移行部３２に直面するときはいつでも、第１及び第２の干渉計２１，２２からの光線は、移行部３２を構成する２つの平面鏡３１に入射する。さらに、第１および第２の干渉計２１，２２は、交互にワーク位置情報をステージ１０に提供する。本発明によれば、互いに連結された複数の平面鏡３１を使用することによって、また、２つの干渉計のゼロ基準を交互に更新することによって、ワークステージ１０の水平方向における測定範囲を拡大することができる。

当業者であれば、明らかに、本発明の精神と範囲から逸脱しない範囲において種々の変更と改良をすることができる。従って、すべての変更及び改良は、添付のクレーム及びそれと同等のものにおいて定義された発明の範囲に入るように意図されている。

Claims

ワークステージと、
レーザ干渉計と、
前記ワークステージに搭載された測定用リフレクタと、
を備えた、干渉計測定装置であって、
前記測定用リフレクタは、水平方向に沿って互いに連結された複数の平面鏡で構成されており、
前記レーザ干渉計は、第１の干渉計及び第２の干渉計を備え、
前記の第１の干渉計及び第２の干渉計は、水平方向に沿って前記レーザ干渉計に対して前記ワークステージが移動している間に、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計から出射された光線が前記複数の平面鏡の対応する２つによって定義された移行部に入射すると、前記第１の干渉計から出射された前記光線が前記隣り合う２つの平面鏡の１つに入射すると共に前記第２の干渉計から出射された前記光線が前記隣り合う２つの平面鏡の他方に入射し、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計が交互に位置情報を前記ワークステージに提供するように構成されている、
干渉計測定装置。
請求項１に記載の干渉計測定装置であって、
前記測定用リフレクタは、水平方向に互いに連結された複数の矩形の平面鏡で構成されており、
前記第１の干渉計と前記第２の干渉計は、互いに横並びに配置されており、
前記移行部は、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計の間の距離の少なくとも２倍の幅を有する、
干渉計測定装置。
請求項１に記載の干渉計測定装置であって、
前記測定用リフレクタは、水平方向に互いに連結された複数の逆Ｔ字型の平面鏡で構成されており、
前記複数の逆Ｔ字型の平面鏡の隣り合う２つのそれぞれは、互いに逆向きとなるように方向付けされており、
前記複数の逆Ｔ字型の平面鏡のそれぞれは、ベースと凸部を有し、
前記第１の干渉計と前記第２の干渉計は、互いに上下に積み重なっており、
前記移行部は、前記複数の平面鏡の隣り合うもののベースによって規定されている、
干渉計測定装置。
請求項１に記載の干渉計測定装置であって、
前記レーザ干渉計は、一軸干渉計又は二軸干渉計として実施される、
干渉計測定装置。
請求項１から３の何れか１項に記載の干渉計測定装置であって、
前記測定用リフレクタは、前記ワークステージの側面に搭載され、且つ、水平面に対して直角であり、
前記レーザ干渉計から出射された前記光線は、前記測定用リフレクタの法線に対して平行となる方向で前記測定用リフレクタの表面に垂直に入射し、元の経路に戻る、
干渉計測定装置。
請求項１から３の何れか１項に記載の干渉計測定装置であって、
前記測定用リフレクタは、前記ワークステージの側面に搭載されており、且つ、前記ワークステージの前記側面に対して１３５°の角度で傾斜しており、
前記レーザ干渉計は、更に、前記ワークステージの上に配置された第２の平面鏡を備え、
前記第２の平面鏡は、前記ワークステージのワーク支持面に対して平行となるように方向付けされており、
前記レーザ干渉計から出射された前記光線は、前記測定用リフレクタの表面に、その法線に対して４５°の角度で入射し、これにより前記第２の平面鏡へ反射され、そして元の経路に戻る、
干渉計測定装置。
請求項１から６の何れか１項に記載の前記干渉計測定装置の制御方法であって、
前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計からの前記光線が対応する移行部に入射している間、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計は前記ワークステージに現在の位置情報を交互に提供し、前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することで、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つ間の表面の非直線性における誤差を補正する、
制御方法。
請求項７に記載の制御方法であって、
前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することは、
前記第１の干渉計と前記第２の干渉計からの前記光線が対応する前記移行部に入射したとき、前記第１の干渉計と前記第２の干渉計のうち、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の連結部を最初に横切る前記光線を射出する一方を無効干渉計とし、他方を有効干渉計とすること、
前記有効干渉計が、それによって得られた前記現在の位置情報を前記ワークステージ及び前記無効干渉計に提供することと、
前記無効干渉計が、前記有効干渉計からの前記位置情報と、前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の表面の非直線性の誤差と、に基づいて、前記無効干渉計の更新されたゼロ基準を計算すること、
を含む、
制御方法。
請求項８に記載の制御方法であって、
前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち一方のゼロ基準を前記第１の干渉計及び前記第２の干渉計のうち他方からの前記位置情報で交互に更新することは、更に、前記有効干渉計からの前記光線も前記複数の平面鏡の対応する隣り合う２つの間の前記連結部を横切った後、前記更新されたゼロ基準で前記有効干渉計のゼロ基準を更新すること、を含む、
制御方法。
請求項７又は８に記載の制御方法であって、
表面の非直線性の前記誤差は、前記対応する移行部における前記第１の干渉計と前記第２の干渉計の光路長の差である、
制御方法。