JPH0669099A - 距離測定装置 - Google Patents
距離測定装置Info
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- JPH0669099A JPH0669099A JP4242677A JP24267792A JPH0669099A JP H0669099 A JPH0669099 A JP H0669099A JP 4242677 A JP4242677 A JP 4242677A JP 24267792 A JP24267792 A JP 24267792A JP H0669099 A JPH0669099 A JP H0669099A
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- distance
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、距離測定装置において、移動鏡の鏡
面長を大きくすることなく測定範囲を広げる。 【構成】１枚の移動鏡８に対向する複数の干渉式測長手
段１２、１３、１４を移動方向への鏡面の長さに対して
短い間隔Ｌ１（＝Ｌ２＝Ｌ３＝Ｌ４）づつ離して配列
し、移動鏡８の移動に応じて干渉式測長手段１２、１
３、１４を切り換えることにより、移動鏡８の鏡面長さ
に対して広い範囲まで鏡面までの距離の測定範囲を拡張
することができる。
面長を大きくすることなく測定範囲を広げる。 【構成】１枚の移動鏡８に対向する複数の干渉式測長手
段１２、１３、１４を移動方向への鏡面の長さに対して
短い間隔Ｌ１（＝Ｌ２＝Ｌ３＝Ｌ４）づつ離して配列
し、移動鏡８の移動に応じて干渉式測長手段１２、１
３、１４を切り換えることにより、移動鏡８の鏡面長さ
に対して広い範囲まで鏡面までの距離の測定範囲を拡張
することができる。
Description
【０００１】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術（図８） 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段（図１〜図７） 作用 実施例（図１〜図７） （１）第１の実施例（図１） （２）第２の実施例（図２及び図３） （３）他の実施例（図４〜図７） 発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は距離測定装置に関し、例
えば投影露光装置の試料ステージのように精密な位置決
め精度が要求される装置に備えられる距離測定装置に適
用して好適なものである。
えば投影露光装置の試料ステージのように精密な位置決
め精度が要求される装置に備えられる距離測定装置に適
用して好適なものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、半導体回路や液晶デバイス製造用
の投影露光装置においては、複数のマスク（レチクル）
のパターンを投影光学系を介して感光基板（表面にレジ
スト層が形成された半導体ウエハやガラスプレート）上
にマトリクス状に配置された複数の露光領域（回路パタ
ーン形成領域）のそれぞれに対して順次重ね合わせて露
光転写するようになされている。
の投影露光装置においては、複数のマスク（レチクル）
のパターンを投影光学系を介して感光基板（表面にレジ
スト層が形成された半導体ウエハやガラスプレート）上
にマトリクス状に配置された複数の露光領域（回路パタ
ーン形成領域）のそれぞれに対して順次重ね合わせて露
光転写するようになされている。
【０００４】この複数のレチクルパターンの投影像の露
光領域に対する位置合わせ（すなわちアライメント）
は、通常レチクル上に形成されたアライメント用のマー
クと基板上に形成されたアライメント用のマークに照明
光を照射し、その相対的なずれ量を求めることによりな
されており、このときの基板を載置した移動ステージ
（プレートステージ）の位置検出にはレーザ光を用いた
レーザ光干渉式測長計（以下干渉計という）が用いられ
ている（図８）。
光領域に対する位置合わせ（すなわちアライメント）
は、通常レチクル上に形成されたアライメント用のマー
クと基板上に形成されたアライメント用のマークに照明
光を照射し、その相対的なずれ量を求めることによりな
されており、このときの基板を載置した移動ステージ
（プレートステージ）の位置検出にはレーザ光を用いた
レーザ光干渉式測長計（以下干渉計という）が用いられ
ている（図８）。
【０００５】すなわち投影露光装置１は基板を搭載する
ＸＹステージ２の載置面２Ａに対して平行な面内に光軸
が互いに直交する干渉計３及び４を配置し、各干渉計３
及び４によつてＸ軸方向への移動量及びＹ軸方向への移
動量を測定するようになされている。
ＸＹステージ２の載置面２Ａに対して平行な面内に光軸
が互いに直交する干渉計３及び４を配置し、各干渉計３
及び４によつてＸ軸方向への移動量及びＹ軸方向への移
動量を測定するようになされている。
【０００６】ここで干渉計３及び４はＸＹステージ２の
非可動部に固定される固定鏡５、６及び可動部（ＸＹス
テージ２）に固定される移動鏡７、８とビームスプリツ
タ９、１０によつてそれぞれ構成されており、固定鏡
５、６及び移動鏡７、８によつてそれぞれ反射された反
射光の干渉によつてＸＹステージ２のＸ軸方向及びＹ軸
方向への移動量を常に測定するようになされている。
非可動部に固定される固定鏡５、６及び可動部（ＸＹス
テージ２）に固定される移動鏡７、８とビームスプリツ
タ９、１０によつてそれぞれ構成されており、固定鏡
５、６及び移動鏡７、８によつてそれぞれ反射された反
射光の干渉によつてＸＹステージ２のＸ軸方向及びＹ軸
方向への移動量を常に測定するようになされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの干渉計３
及び４を用いてＸＹステージ２のＸ軸方向及びＹ軸方向
への移動量を測定するには移動鏡７及び８に常にレーザ
光が当つていなければならない。従つてＸＹステージ２
を移動することができる範囲は移動鏡７及び８の長さよ
り小さくなければならない。
及び４を用いてＸＹステージ２のＸ軸方向及びＹ軸方向
への移動量を測定するには移動鏡７及び８に常にレーザ
光が当つていなければならない。従つてＸＹステージ２
を移動することができる範囲は移動鏡７及び８の長さよ
り小さくなければならない。
【０００８】すなわち移動鏡７及び８の長さをそれぞれ
ｌx 及びｌy とすると、Ｘ軸方向への可動範囲はｌy 以
下、またＹ軸方向への可動範囲はｌx 以下に限定され
る。そのためＸＹステージ２の可動範囲を大きくするた
めには移動鏡７及び８の長さを大きくする必要がある
が、大きな移動鏡の表面をきわめて高精度に加工または
製作することは困難であり、従来、この種の装置におい
て可動範囲の大きなＸＹステージ２を製作することはで
きなかつた。
ｌx 及びｌy とすると、Ｘ軸方向への可動範囲はｌy 以
下、またＹ軸方向への可動範囲はｌx 以下に限定され
る。そのためＸＹステージ２の可動範囲を大きくするた
めには移動鏡７及び８の長さを大きくする必要がある
が、大きな移動鏡の表面をきわめて高精度に加工または
製作することは困難であり、従来、この種の装置におい
て可動範囲の大きなＸＹステージ２を製作することはで
きなかつた。
【０００９】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、移動鏡の大きさを可動範囲に比例して大きくするこ
となくＸＹステージ２の可動範囲を広げることができる
距離測定装置を提案しようとするものである。
で、移動鏡の大きさを可動範囲に比例して大きくするこ
となくＸＹステージ２の可動範囲を広げることができる
距離測定装置を提案しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め第１の発明においては、移動鏡の反射面に光束を照射
し、該光束の反射光に基づいて移動鏡までの距離を測定
する測長手段を有する距離測定装置において、移動鏡８
は、該移動鏡の移動方向（Ｘ方向）に、移動鏡８の移動
距離より短い長さの反射面を有しており、測長手段１
２、１３、１４は、反射面の長さよりも短い間隔で移動
方向（Ｘ方向）に対して複数配置され、複数の測長手段
１２、１３、１４の少なくとも１つからの光束を移動鏡
８の反射面に対して照射し、少なくとも１つの測長手段
１２、１３又は１４の測定結果に基づいて距離を測定す
るようにする。
め第１の発明においては、移動鏡の反射面に光束を照射
し、該光束の反射光に基づいて移動鏡までの距離を測定
する測長手段を有する距離測定装置において、移動鏡８
は、該移動鏡の移動方向（Ｘ方向）に、移動鏡８の移動
距離より短い長さの反射面を有しており、測長手段１
２、１３、１４は、反射面の長さよりも短い間隔で移動
方向（Ｘ方向）に対して複数配置され、複数の測長手段
１２、１３、１４の少なくとも１つからの光束を移動鏡
８の反射面に対して照射し、少なくとも１つの測長手段
１２、１３又は１４の測定結果に基づいて距離を測定す
るようにする。
【００１１】また第２の発明においては、移動鏡２３、
２４は、複数の測長手段１２、１３の間隔ｄ３より短い
間隔ｄ２で移動鏡の移動方向（Ｘ方向）に対して複数配
置され、複数の測長手段１２、１３の少なくとも１つが
複数の移動鏡２３、２４の少なくとも１つに対して常に
光束を照射するようにする。
２４は、複数の測長手段１２、１３の間隔ｄ３より短い
間隔ｄ２で移動鏡の移動方向（Ｘ方向）に対して複数配
置され、複数の測長手段１２、１３の少なくとも１つが
複数の移動鏡２３、２４の少なくとも１つに対して常に
光束を照射するようにする。
【００１２】さらに第３の発明においては、移動鏡の反
射面に光束を照射し、該光束の反射光に基づいて移動鏡
までの距離を測定する測長手段を有する距離測定装置に
おいて、移動鏡２３、２４、２５は、距離の測定方向
（Ｚ方向）に直交する平面（ＸＹ方向）内で移動鏡の移
動方向（Ｘ方向）に沿つて移動鏡の反射面の少なくとも
一部が重なるように複数配設され、測長手段１２、１３
は、平面（ＸＹ方向）内の移動方向（Ｘ方向）に直交す
る方向（Ｙ方向）に複数配置され、複数の測長手段１
２、１３の少なくとも１つからの光束を移動鏡２３、２
４、２５の反射面に対して照射し、少なくとも１つの測
長手段１２又は１３の測定結果に基づいて距離を測定す
るようにする。
射面に光束を照射し、該光束の反射光に基づいて移動鏡
までの距離を測定する測長手段を有する距離測定装置に
おいて、移動鏡２３、２４、２５は、距離の測定方向
（Ｚ方向）に直交する平面（ＸＹ方向）内で移動鏡の移
動方向（Ｘ方向）に沿つて移動鏡の反射面の少なくとも
一部が重なるように複数配設され、測長手段１２、１３
は、平面（ＸＹ方向）内の移動方向（Ｘ方向）に直交す
る方向（Ｙ方向）に複数配置され、複数の測長手段１
２、１３の少なくとも１つからの光束を移動鏡２３、２
４、２５の反射面に対して照射し、少なくとも１つの測
長手段１２又は１３の測定結果に基づいて距離を測定す
るようにする。
【００１３】さらに第４の発明においては、複数の測長
手段のそれぞれは、移動鏡２３、２４、２５の反射面に
対して複数の光束Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ、Ｂ２Ｌ、Ｂ２Ｒを照
射し、移動鏡２３、２４、２５の回転量を求める回転量
検出手段３１、３２を含むようにする。
手段のそれぞれは、移動鏡２３、２４、２５の反射面に
対して複数の光束Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ、Ｂ２Ｌ、Ｂ２Ｒを照
射し、移動鏡２３、２４、２５の回転量を求める回転量
検出手段３１、３２を含むようにする。
【００１４】さらに第５の発明においては、移動鏡２
３、２４、２５の移動に伴つて反射面に対して同時に複
数の測長手段１２及び１３からの光束が照射された際
に、複数の測長手段１２及び１３のうち１つの測長手段
１２又は１３による測長結果を他の測長手段１２又は１
３の測定結果とし、さらに複数の測長手段１２及び１３
のそれぞれによる測定結果の差に基づいて他の測長手段
１３又は１２の測定結果を補正するようにする。
３、２４、２５の移動に伴つて反射面に対して同時に複
数の測長手段１２及び１３からの光束が照射された際
に、複数の測長手段１２及び１３のうち１つの測長手段
１２又は１３による測長結果を他の測長手段１２又は１
３の測定結果とし、さらに複数の測長手段１２及び１３
のそれぞれによる測定結果の差に基づいて他の測長手段
１３又は１２の測定結果を補正するようにする。
【００１５】
【作用】移動鏡８に光束を照射し、移動鏡８までの距離
を測定する測長手段１２、１３、１４を移動鏡の反射面
の長さよりも短い間隔で配列し、測長手段１２、１３、
１４のうち少なくとも１つによつて移動鏡８を照射して
当該移動鏡８までの距離を測定することにより、移動鏡
８の移動範囲を反射面の長さより長くすることができ
る。
を測定する測長手段１２、１３、１４を移動鏡の反射面
の長さよりも短い間隔で配列し、測長手段１２、１３、
１４のうち少なくとも１つによつて移動鏡８を照射して
当該移動鏡８までの距離を測定することにより、移動鏡
８の移動範囲を反射面の長さより長くすることができ
る。
【００１６】また複数の移動鏡２３、２４を移動方向
（Ｘ方向）に配列される測長手段１２、１３の間隔ｄ３
に対して短い間隔ｄ２で配置し、複数の測長手段１２、
１３のうち少なくとも１つによつて移動鏡２３又は２４
の少なくとも１つを照射することにより、移動鏡２３及
び２４の移動範囲を反射面の長さより長くすることがで
きる。
（Ｘ方向）に配列される測長手段１２、１３の間隔ｄ３
に対して短い間隔ｄ２で配置し、複数の測長手段１２、
１３のうち少なくとも１つによつて移動鏡２３又は２４
の少なくとも１つを照射することにより、移動鏡２３及
び２４の移動範囲を反射面の長さより長くすることがで
きる。
【００１７】さらに移動鏡２３、２４の反射面に対して
複数の光束Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ、Ｂ２Ｌ、Ｂ２Ｒを照射し、
移動鏡２３、２４の回転量θを測定する回転量検出手段
を含む測長手段４１、４２、４３を移動鏡の反射面の長
さよりも短い間隔で配列し、これら測長手段４１、４
２、４３のうち少なくとも１つによつて移動鏡２３又は
２４の少なくとも１つを照射することにより、移動鏡の
回転量θを測定できる範囲を反射面の長さより長くする
ことができる。
複数の光束Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ、Ｂ２Ｌ、Ｂ２Ｒを照射し、
移動鏡２３、２４の回転量θを測定する回転量検出手段
を含む測長手段４１、４２、４３を移動鏡の反射面の長
さよりも短い間隔で配列し、これら測長手段４１、４
２、４３のうち少なくとも１つによつて移動鏡２３又は
２４の少なくとも１つを照射することにより、移動鏡の
回転量θを測定できる範囲を反射面の長さより長くする
ことができる。
【００１８】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１９】（１）第１の実施例 図８との対応部分に同一符号を付して示す図１におい
て、投影露光装置１０は測長装置１１により基板が載置
されたＸＹステージ２の位置を常時測定するようになさ
れている。
て、投影露光装置１０は測長装置１１により基板が載置
されたＸＹステージ２の位置を常時測定するようになさ
れている。
【００２０】ここで測長装置１１は、ＸＹステージ２に
伴つて移動する移動鏡８より反射する反射光によつてＹ
軸座標値を測定する３組の干渉計１２、１３、１４と、
Ｘ軸座標値を測定する干渉計３の測定結果に基づいてこ
れらを切換制御する制御回路１５によつて構成されてい
る。
伴つて移動する移動鏡８より反射する反射光によつてＹ
軸座標値を測定する３組の干渉計１２、１３、１４と、
Ｘ軸座標値を測定する干渉計３の測定結果に基づいてこ
れらを切換制御する制御回路１５によつて構成されてい
る。
【００２１】このＹ軸座標値を測定する３組の干渉計１
２、１３、１４は移動鏡８の反射面長さに比して若干狭
い間隔ずつ離してＸ軸方向に順に配置されており、いず
れか１つの干渉計からのレーザ光が移動鏡８に照射され
ている。
２、１３、１４は移動鏡８の反射面長さに比して若干狭
い間隔ずつ離してＸ軸方向に順に配置されており、いず
れか１つの干渉計からのレーザ光が移動鏡８に照射され
ている。
【００２２】この実施例の場合、各干渉計１２、１３及
び１４より射出されるレーザ光の間隔をＬとし、この間
隔Ｌごとに測定範囲を分割して順に区間Ｌ１、Ｌ２、Ｌ
３及びＬ４とすると、干渉計１２は区間Ｌ１及びＬ２で
移動鏡８と対向し、干渉計１３は区間Ｌ２及びＬ３で移
動鏡８と対向し、干渉計１４は区間Ｌ３及びＬ４で移動
鏡８と対向するようになされており、各区間における測
定結果（座標値）を測定データＳ１、Ｓ２、Ｓ３として
制御回路１５に供給するようになされている。
び１４より射出されるレーザ光の間隔をＬとし、この間
隔Ｌごとに測定範囲を分割して順に区間Ｌ１、Ｌ２、Ｌ
３及びＬ４とすると、干渉計１２は区間Ｌ１及びＬ２で
移動鏡８と対向し、干渉計１３は区間Ｌ２及びＬ３で移
動鏡８と対向し、干渉計１４は区間Ｌ３及びＬ４で移動
鏡８と対向するようになされており、各区間における測
定結果（座標値）を測定データＳ１、Ｓ２、Ｓ３として
制御回路１５に供給するようになされている。
【００２３】一方、制御回路１５は、Ｘ軸座標値を測定
する干渉計３よりＸ軸測定データＳ５及び移動方向デー
タＳ６をタイミングパルス発生回路１６に入力するよう
になされ、当該タイミングパルス発生回路１６において
干渉計１２、１３、１４の切り換え及び測定データの初
期設定を制御するタイミングパルスＳ７を出力するよう
になされている。
する干渉計３よりＸ軸測定データＳ５及び移動方向デー
タＳ６をタイミングパルス発生回路１６に入力するよう
になされ、当該タイミングパルス発生回路１６において
干渉計１２、１３、１４の切り換え及び測定データの初
期設定を制御するタイミングパルスＳ７を出力するよう
になされている。
【００２４】ここでリセツト回路１７は、移動鏡８の両
端に隣合う干渉計１２及び１３（又は干渉計１３及び１
４）より射出されたレーザ光が同時に入射される位置に
ＸＹステージ２が移動したことをタイミングパルスＳ７
に基づいて検出すると、リセツト信号Ｓ８を干渉計１
２、１３、１４に出力して現在まで動作していた干渉計
の測定を停止させると共に、隣接する干渉計による測定
を開始させる。
端に隣合う干渉計１２及び１３（又は干渉計１３及び１
４）より射出されたレーザ光が同時に入射される位置に
ＸＹステージ２が移動したことをタイミングパルスＳ７
に基づいて検出すると、リセツト信号Ｓ８を干渉計１
２、１３、１４に出力して現在まで動作していた干渉計
の測定を停止させると共に、隣接する干渉計による測定
を開始させる。
【００２５】また選択制御回路１８は、タイミングパル
ス発生回路１６より入力されるタイミングパルスＳ７に
よつて干渉計の切り換え位置にＸＹステージ２が移動し
たことを検出すると選択信号Ｓ９を入力切換回路１９
Ａ、１９Ｂに出力し、入力切換回路１９Ａの入力端を切
り換えて直前まで動作していた干渉計に隣接する干渉計
の測定結果を座標初期設定回路２０に供給させると共
に、入力切換回路１９Ｂの入力端を切り換えて直前まで
動作していた干渉計の測定結果を旧座標値保持回路２１
に供給させるようになされている。
ス発生回路１６より入力されるタイミングパルスＳ７に
よつて干渉計の切り換え位置にＸＹステージ２が移動し
たことを検出すると選択信号Ｓ９を入力切換回路１９
Ａ、１９Ｂに出力し、入力切換回路１９Ａの入力端を切
り換えて直前まで動作していた干渉計に隣接する干渉計
の測定結果を座標初期設定回路２０に供給させると共
に、入力切換回路１９Ｂの入力端を切り換えて直前まで
動作していた干渉計の測定結果を旧座標値保持回路２１
に供給させるようになされている。
【００２６】また座標初期設定回路２０は、タイミング
パルスＳ７に基づいて旧座標値保持回路２１より読み込
まれる旧測定データにより測定データを初期設定すると
共に、新たに切り換えられた干渉計より入力される測定
データに基づいて測定を続行してＹ軸測定データＳ１０
として出力するようになされている。
パルスＳ７に基づいて旧座標値保持回路２１より読み込
まれる旧測定データにより測定データを初期設定すると
共に、新たに切り換えられた干渉計より入力される測定
データに基づいて測定を続行してＹ軸測定データＳ１０
として出力するようになされている。
【００２７】以上の構成において、ＸＹステージ２がＸ
軸方向（図中の右方向）に移動する場合、測長装置１１
はＸＹステージ２のＹ軸移動鏡８の位置が区間Ｌ１及び
Ｌ２の範囲にあることを干渉計３により出力されるＸ軸
測定データＳ５及び移動方向データＳ６より検出する
と、Ｙ軸移動鏡８にレーザ光を照射する干渉計１２によ
つてＹ座標値を計測する。
軸方向（図中の右方向）に移動する場合、測長装置１１
はＸＹステージ２のＹ軸移動鏡８の位置が区間Ｌ１及び
Ｌ２の範囲にあることを干渉計３により出力されるＸ軸
測定データＳ５及び移動方向データＳ６より検出する
と、Ｙ軸移動鏡８にレーザ光を照射する干渉計１２によ
つてＹ座標値を計測する。
【００２８】次にＸＹステージ２がさらに右方向に移動
し、移動鏡８の左端に干渉計１２からのレーザ光が入射
すると共に右端に干渉計１３のレーザ光が入射する位置
に移動したことを検出すると、制御回路１５は干渉計１
３にリセツト信号Ｓ８を送出してＹ座標値の測定を干渉
計１２から干渉計１３に切り換えると同時に干渉計１２
で計測したＹ座標値を干渉計１３の初期値として設定す
る。
し、移動鏡８の左端に干渉計１２からのレーザ光が入射
すると共に右端に干渉計１３のレーザ光が入射する位置
に移動したことを検出すると、制御回路１５は干渉計１
３にリセツト信号Ｓ８を送出してＹ座標値の測定を干渉
計１２から干渉計１３に切り換えると同時に干渉計１２
で計測したＹ座標値を干渉計１３の初期値として設定す
る。
【００２９】続いて区間Ｌ２及びＬ３の範囲では、測長
装置１１は干渉計１３によつてＹ軸座標値の計測を続行
し、ＸＹステージ２がさらに右方向に移動して移動鏡８
の左端に干渉計１３からのレーザ光が入射すると共に右
端に干渉計１４のレーザ光が入射する位置に移動する
と、測長装置１１は制御回路１５より干渉計１４にリセ
ツト信号Ｓ８を送出してＹ軸座標値の測定を干渉計１３
から干渉計１４に切り換え、同時に干渉計１３で計測し
たＹ座標値を干渉計１４の初期値として設定する。
装置１１は干渉計１３によつてＹ軸座標値の計測を続行
し、ＸＹステージ２がさらに右方向に移動して移動鏡８
の左端に干渉計１３からのレーザ光が入射すると共に右
端に干渉計１４のレーザ光が入射する位置に移動する
と、測長装置１１は制御回路１５より干渉計１４にリセ
ツト信号Ｓ８を送出してＹ軸座標値の測定を干渉計１３
から干渉計１４に切り換え、同時に干渉計１３で計測し
たＹ座標値を干渉計１４の初期値として設定する。
【００３０】これに対してＸＹステージ２が反対方向、
すなわち左方向に移動する場合、測長装置１１は、移動
鏡８の左端に現在動作している干渉計１４（又は１３）
に対して左側の干渉計１３（又は１２）からのレーザ光
が入射する位置に移動したことを制御回路１５によつて
検出すると、上述の場合と同様にＹ軸座標値の検出を隣
接する干渉計に切り換え計測を継続させる。
すなわち左方向に移動する場合、測長装置１１は、移動
鏡８の左端に現在動作している干渉計１４（又は１３）
に対して左側の干渉計１３（又は１２）からのレーザ光
が入射する位置に移動したことを制御回路１５によつて
検出すると、上述の場合と同様にＹ軸座標値の検出を隣
接する干渉計に切り換え計測を継続させる。
【００３１】以上の構成によれば、Ｙ軸座標値を測定す
る３組の干渉計１２、１３、１４を移動鏡８の反射面長
さに比して若干狭い間隔ずつ離してＸ軸方向に配置し、
ＸＹステージの位置に応じてＹ軸座標値の測定に用いら
れる干渉計を切り換えることにより移動鏡８の反射面長
さの約４倍まで測定できる移動範囲を延長することがで
きる。
る３組の干渉計１２、１３、１４を移動鏡８の反射面長
さに比して若干狭い間隔ずつ離してＸ軸方向に配置し、
ＸＹステージの位置に応じてＹ軸座標値の測定に用いら
れる干渉計を切り換えることにより移動鏡８の反射面長
さの約４倍まで測定できる移動範囲を延長することがで
きる。
【００３２】（２）第２の実施例 図１との対応部分に同一符号を付して示す図２におい
て、２０は全体として投影露光装置を示し、測長装置２
１を用いてＸＹステージ２の位置を常時測定するように
なされている。
て、２０は全体として投影露光装置を示し、測長装置２
１を用いてＸＹステージ２の位置を常時測定するように
なされている。
【００３３】この実施例の場合、ＸＹステージ２にはＹ
軸座標値の測定用に２枚の移動鏡２３及び２４が所定間
隔づつ離して設けられており、レーザ干渉測長装置２１
は当該移動鏡２３及び２４に対向する位置に設けられた
干渉計１２、１３と移動鏡７に対向する位置に設けられ
た干渉計３によつてＸＹステージ２のＹ座標値及びＸ座
標値を測定するようになされている。
軸座標値の測定用に２枚の移動鏡２３及び２４が所定間
隔づつ離して設けられており、レーザ干渉測長装置２１
は当該移動鏡２３及び２４に対向する位置に設けられた
干渉計１２、１３と移動鏡７に対向する位置に設けられ
た干渉計３によつてＸＹステージ２のＹ座標値及びＸ座
標値を測定するようになされている。
【００３４】ここで２枚の移動鏡２３及び２４が取り付
けられる位置と干渉計１２及び１３が取り付けられる位
置との間には、移動鏡２３、２４の反射面の長さをｄｌ
とし、隣り合う移動鏡間の長さをｄ２とし、干渉計間の
間隔をｄ３とすると、次式
けられる位置と干渉計１２及び１３が取り付けられる位
置との間には、移動鏡２３、２４の反射面の長さをｄｌ
とし、隣り合う移動鏡間の長さをｄ２とし、干渉計間の
間隔をｄ３とすると、次式
【数１】 の関係が成立するようになされており、いずれか１方の
干渉計１２又は１３が移動鏡２３又は２４と常に対向す
るようになされている
干渉計１２又は１３が移動鏡２３又は２４と常に対向す
るようになされている
【００３５】以上の構成において、ＸＹステージ２が左
方より右方に移動して図３（Ａ）に示すように、ＸＹス
テージ２に搭載された干渉計１３より射出されたレーザ
光が移動鏡２４の左端に入射すると共に干渉計１２より
射出されたレーザ光が移動鏡２３の右端に入射する位置
に移動したことを検出すると、制御回路１５はリセツト
信号Ｓ８を干渉計１２及び１３に出力し、干渉計１２に
よる測定に切り換えると共に測定に用いられる鏡も移動
鏡２３に切り換える。
方より右方に移動して図３（Ａ）に示すように、ＸＹス
テージ２に搭載された干渉計１３より射出されたレーザ
光が移動鏡２４の左端に入射すると共に干渉計１２より
射出されたレーザ光が移動鏡２３の右端に入射する位置
に移動したことを検出すると、制御回路１５はリセツト
信号Ｓ８を干渉計１２及び１３に出力し、干渉計１２に
よる測定に切り換えると共に測定に用いられる鏡も移動
鏡２３に切り換える。
【００３６】この後、測長装置２１は干渉計１２によつ
てＹ軸座標値の測定を続行し、やがてＸＹステージ２が
さらに右方向に移動して移動鏡２３の左端に干渉計１２
からのレーザ光が入射すると共に干渉計１３から射出さ
れたレーザ光が移動鏡２３の右端に入射する位置に移動
したことを検出すると（図３（Ｂ））、今回は前回とは
逆に干渉計１２による測定を中止し、干渉計１３による
測定に切り換えて干渉計１３から射出されたレーザ光が
移動鏡２３の左端に入射する位置まで以下同様に測定を
続行する（図３（Ｃ））。
てＹ軸座標値の測定を続行し、やがてＸＹステージ２が
さらに右方向に移動して移動鏡２３の左端に干渉計１２
からのレーザ光が入射すると共に干渉計１３から射出さ
れたレーザ光が移動鏡２３の右端に入射する位置に移動
したことを検出すると（図３（Ｂ））、今回は前回とは
逆に干渉計１２による測定を中止し、干渉計１３による
測定に切り換えて干渉計１３から射出されたレーザ光が
移動鏡２３の左端に入射する位置まで以下同様に測定を
続行する（図３（Ｃ））。
【００３７】以上の構成によれば、ＸＹステージ２に２
枚の移動鏡２３、２４を所定間隔ｄ２だけ離して設ける
と共にＹ座標値を測定する２組の干渉計１２、１３を移
動鏡８の反射面長さｄ１よりは狭く、かつ移動鏡２３、
２４の間隔ｄ２よりは広い間隔ｄ３だけ離してＸ軸方向
に配置し、ＸＹステージ２の位置に応じてＹ軸座標値の
測定に用いられる干渉計及び移動鏡を交互に切り換える
ことにより移動鏡２３、２４の反射面長さに対して測定
できる移動範囲を一段と延長することができる。
枚の移動鏡２３、２４を所定間隔ｄ２だけ離して設ける
と共にＹ座標値を測定する２組の干渉計１２、１３を移
動鏡８の反射面長さｄ１よりは狭く、かつ移動鏡２３、
２４の間隔ｄ２よりは広い間隔ｄ３だけ離してＸ軸方向
に配置し、ＸＹステージ２の位置に応じてＹ軸座標値の
測定に用いられる干渉計及び移動鏡を交互に切り換える
ことにより移動鏡２３、２４の反射面長さに対して測定
できる移動範囲を一段と延長することができる。
【００３８】（３）他の実施例 なお上述の第１の実施例においては、Ｙ軸座標値の測定
を現在測定中の干渉計に対して隣接する他の干渉計に切
り換えるとき、切り換えに伴う計測値の初期設定は直前
まで計測していた干渉計の計測値を用いる場合について
述べたが、本発明はこれに限らず、新しく動作させる干
渉計の計測値に直前まで計測していた干渉計の計測値に
対する現計測値の差分（両干渉計の測定誤差）を加算し
ても良く、またソフトウエア等によつて演算されたオフ
セツト値を加算しても良い。
を現在測定中の干渉計に対して隣接する他の干渉計に切
り換えるとき、切り換えに伴う計測値の初期設定は直前
まで計測していた干渉計の計測値を用いる場合について
述べたが、本発明はこれに限らず、新しく動作させる干
渉計の計測値に直前まで計測していた干渉計の計測値に
対する現計測値の差分（両干渉計の測定誤差）を加算し
ても良く、またソフトウエア等によつて演算されたオフ
セツト値を加算しても良い。
【００３９】また上述の第１の実施例においては、１枚
の移動鏡８に３組の干渉計１２、１３、１４を設ける場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、ＸＹステ
ージ２の移動距離と移動鏡８の長さとに応じて２組の干
渉計を設けても良く、また４組以上の干渉計を設けるよ
うにしても良い。
の移動鏡８に３組の干渉計１２、１３、１４を設ける場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、ＸＹステ
ージ２の移動距離と移動鏡８の長さとに応じて２組の干
渉計を設けても良く、また４組以上の干渉計を設けるよ
うにしても良い。
【００４０】さらに上述の第１の実施例においては、Ｙ
軸座標値の測定範囲の拡大に本発明を適用する場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、移動鏡７に対向
する位置に複数の干渉計を設け、当該干渉計を切り換え
て使用することにより、Ｘ座標値の測定範囲の拡大に本
発明を利用しても良い。
軸座標値の測定範囲の拡大に本発明を適用する場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、移動鏡７に対向
する位置に複数の干渉計を設け、当該干渉計を切り換え
て使用することにより、Ｘ座標値の測定範囲の拡大に本
発明を利用しても良い。
【００４１】さらに上述の第２の実施例においては、Ｙ
軸方向への距離の測定に用いられる移動鏡として２枚の
鏡をＸＹステージ２に設ける場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、必要な枚数だけ移動鏡を並べ、干
渉計を１３→１２→１３……→１２と順次切り換えるこ
とにより測定できる移動範囲をさらに延長するようにし
ても良い。
軸方向への距離の測定に用いられる移動鏡として２枚の
鏡をＸＹステージ２に設ける場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、必要な枚数だけ移動鏡を並べ、干
渉計を１３→１２→１３……→１２と順次切り換えるこ
とにより測定できる移動範囲をさらに延長するようにし
ても良い。
【００４２】さらに上述の第２の実施例においては、Ｙ
軸座標値の測定に干渉計を２組用いる場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、３組以上の干渉計を切り
換えて測定するようにしても良い。
軸座標値の測定に干渉計を２組用いる場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、３組以上の干渉計を切り
換えて測定するようにしても良い。
【００４３】さらに上述の第２の実施例においては、２
枚の移動鏡２３、２４と２組の干渉計１２、１３をそれ
ぞれＸ軸方向に所定間隔ｄ２（＞０）及びｄ３（＞０）
づつ離して配置する場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、図４に示すように各移動鏡２３、２４、２
５の端部が隣接する移動鏡の端部と段違いに重なるよう
に下段、上段、下段の順に配置し（ｄ２＜０）、干渉計
１２、１３をＺ軸方向に同軸上（ｄ３＝０）に配置する
ようにしても良い。
枚の移動鏡２３、２４と２組の干渉計１２、１３をそれ
ぞれＸ軸方向に所定間隔ｄ２（＞０）及びｄ３（＞０）
づつ離して配置する場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、図４に示すように各移動鏡２３、２４、２
５の端部が隣接する移動鏡の端部と段違いに重なるよう
に下段、上段、下段の順に配置し（ｄ２＜０）、干渉計
１２、１３をＺ軸方向に同軸上（ｄ３＝０）に配置する
ようにしても良い。
【００４４】この場合には２組の干渉計１２、１３より
射出されたレーザ光が同時に移動鏡に入射する位置に移
動したとき測定に用いられる干渉計を切り換えれば良
く、また干渉計が計測する位置は常に同軸上にあるため
アツベの測定条件を常に満足することができる。
射出されたレーザ光が同時に移動鏡に入射する位置に移
動したとき測定に用いられる干渉計を切り換えれば良
く、また干渉計が計測する位置は常に同軸上にあるため
アツベの測定条件を常に満足することができる。
【００４５】さらに上述の実施例においては、干渉計か
らは移動鏡に１本のレーザ光を照射し、固定鏡より反射
される反射光の干渉によつて移動反射面までの距離を測
定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
移動反射面から反射される２本のレーザ光の干渉により
反射面の回転角θを測定する差動型干渉計（以下θ干渉
計という）を用いて回転角θを測定する場合にも適用し
得る。
らは移動鏡に１本のレーザ光を照射し、固定鏡より反射
される反射光の干渉によつて移動反射面までの距離を測
定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
移動反射面から反射される２本のレーザ光の干渉により
反射面の回転角θを測定する差動型干渉計（以下θ干渉
計という）を用いて回転角θを測定する場合にも適用し
得る。
【００４６】例えば第１の実施例に適用する場合には、
図５に示すように、干渉計３１及び３２よりそれぞれ出
力される２本のレーザ光Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ及びＢ２Ｌ、Ｂ
２Ｒの外側のレーザ光Ｂ１ＬとＢ２Ｒの間隔ｄ３２が移
動鏡８の長さｄ３１に比して短くなるように設定すれば
良く、これにより１組の干渉計のみによつて回転角θを
測定する場合に比して測定範囲を延長することができ
る。
図５に示すように、干渉計３１及び３２よりそれぞれ出
力される２本のレーザ光Ｂ１Ｌ、Ｂ１Ｒ及びＢ２Ｌ、Ｂ
２Ｒの外側のレーザ光Ｂ１ＬとＢ２Ｒの間隔ｄ３２が移
動鏡８の長さｄ３１に比して短くなるように設定すれば
良く、これにより１組の干渉計のみによつて回転角θを
測定する場合に比して測定範囲を延長することができ
る。
【００４７】また第２の実施例に適用する場合には、図
６に示すように、複数の移動鏡２３、２４に対向するよ
うに複数の干渉計３１、３２を設置し、移動鏡２３、２
４の反射面長をｄ４１とし、移動鏡２３、２４間の距離
をｄ４２とし、また干渉計３１及び３２より出力される
レーザ光のうち外側のレーザ光Ｂ１Ｌ及びＢ２Ｒ間の距
離をｄ４３とし、内側のレーザ光Ｂ１Ｒ及びＢ２Ｌ間の
距離をｄ４４とすると、これらの距離を、次式
６に示すように、複数の移動鏡２３、２４に対向するよ
うに複数の干渉計３１、３２を設置し、移動鏡２３、２
４の反射面長をｄ４１とし、移動鏡２３、２４間の距離
をｄ４２とし、また干渉計３１及び３２より出力される
レーザ光のうち外側のレーザ光Ｂ１Ｌ及びＢ２Ｒ間の距
離をｄ４３とし、内側のレーザ光Ｂ１Ｒ及びＢ２Ｌ間の
距離をｄ４４とすると、これらの距離を、次式
【数２】 の条件を満足するように設定すれば良く、これにより測
定できる移動範囲を一段と延長することができる。
定できる移動範囲を一段と延長することができる。
【００４８】さらに図４に示す測長装置に適用する場合
には、図７に示すようにθ干渉計３１及び３２を段違い
かつ同軸線上に配置すれば良く、このように配置すれば
アツベの測定条件を満足できると共に、移動鏡の枚数の
組み合わせをかえることにより一段と広い範囲で回転角
θの測定を実現することができる。
には、図７に示すようにθ干渉計３１及び３２を段違い
かつ同軸線上に配置すれば良く、このように配置すれば
アツベの測定条件を満足できると共に、移動鏡の枚数の
組み合わせをかえることにより一段と広い範囲で回転角
θの測定を実現することができる。
【００４９】さらに上述の実施例においては、本発明を
投影露光装置のＸＹステージ２の座標の測定に用いる場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射面に
よつて反射された反射光による干渉光に基づいて距離を
測定する距離測定装置に広く適用し得る。
投影露光装置のＸＹステージ２の座標の測定に用いる場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射面に
よつて反射された反射光による干渉光に基づいて距離を
測定する距離測定装置に広く適用し得る。
【００５０】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、移動鏡の
反射面に光束を照射し、その反射光に基づいて移動鏡ま
での距離を測定する測長手段を移動鏡の反射面よりも短
い間隔で移動方向に配置し、少なくとも１つの測長手段
によつて少なくとも１つの移動鏡までの距離を測定する
ことにより、移動鏡の反射面よりも広い範囲で移動鏡ま
での距離を測定することができる。
反射面に光束を照射し、その反射光に基づいて移動鏡ま
での距離を測定する測長手段を移動鏡の反射面よりも短
い間隔で移動方向に配置し、少なくとも１つの測長手段
によつて少なくとも１つの移動鏡までの距離を測定する
ことにより、移動鏡の反射面よりも広い範囲で移動鏡ま
での距離を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ｙ軸方向に配置された３組の干渉計と１枚の移
動鏡の組み合わせにより構成される本発明による距離測
定装置の一実施例を示すブロツク図である。
動鏡の組み合わせにより構成される本発明による距離測
定装置の一実施例を示すブロツク図である。
【図２】Ｙ軸方向に配置された２組の干渉計と２枚の移
動鏡の組み合わせにより構成される本発明による距離測
定装置の一実施例を示すブロツク図である。
動鏡の組み合わせにより構成される本発明による距離測
定装置の一実施例を示すブロツク図である。
【図３】その動作の説明に供する略線的光路図である。
【図４】他の実施例の説明に供する略線的光路図であ
る。
る。
【図５】θ干渉計を用いた他の実施例の説明に供する略
線的光路図である。
線的光路図である。
【図６】θ干渉計を用いた他の実施例の説明に供する略
線的光路図である。
線的光路図である。
【図７】θ干渉計を用いた他の実施例の説明に供する略
線的光路図である。
線的光路図である。
【図８】従来の位置決めステージの説明に供する略線的
光路図である。
光路図である。
１、１０、２０……投影露光装置、２……ＸＹステー
ジ、３、４、１２、１３、１４、３１、３２……干渉
計、７、８、２３、２４……移動鏡、１１、２１……測
長装置、１５……制御回路。
ジ、３、４、１２、１３、１４、３１、３２……干渉
計、７、８、２３、２４……移動鏡、１１、２１……測
長装置、１５……制御回路。
Claims (5)
- 【請求項１】移動鏡の反射面に光束を照射し、該光束の
反射光に基づいて前記移動鏡までの距離を測定する測長
手段を有する距離測定装置において、 前記移動鏡は、該移動鏡の移動方向に、前記移動鏡の移
動距離より短い長さの反射面を有しており、 前記測長手段は、前記反射面の長さよりも短い間隔で前
記移動方向に対して複数配置され、 前記複数の測長手段の少なくとも１つからの光束を前記
移動鏡の反射面に対して照射し、前記少なくとも１つの
測長手段の測定結果に基づいて前記距離を測定すること
を特徴とする距離測定装置。 - 【請求項２】前記移動鏡は、前記複数の測長手段の間隔
より短い間隔で前記移動鏡の移動方向に対して複数配置
され、前記複数の測長手段の少なくとも１つが前記複数
の移動鏡の少なくとも１つに対して常に前記光束を照射
することを特徴とする請求項１に記載の距離測定装置。 - 【請求項３】移動鏡の反射面に光束を照射し、該光束の
反射光に基づいて前記移動鏡までの距離を測定する測長
手段を有する距離測定装置において、 前記移動鏡は、前記距離の測定方向に直交する平面内で
前記移動鏡の移動方向に沿つて前記移動鏡の反射面の少
なくとも一部が重なるように複数配設され、 前記測長手段は、前記平面内の前記移動方向に直交する
方向に複数配置され、 前記複数の測長手段の少なくとも１つからの光束を前記
移動鏡の反射面に対して照射し、前記少なくとも１つの
測長手段の測定結果に基づいて前記距離を測定すること
を特徴とする距離測定装置。 - 【請求項４】前記複数の測長手段のそれぞれは、前記移
動鏡の反射面に対して複数の光束を照射し、前記移動鏡
の回転量を求める回転量検出手段を含むことを特徴とす
る請求項１ないし３のいずれかに記載の距離測定装置。 - 【請求項５】前記移動鏡の移動に伴つて前記反射面に対
して同時に複数の前記測長手段からの光束が照射された
際に、前記複数の測長手段のうち１つの測長手段による
測長結果を他の測長手段の測定結果とし、さらに前記複
数の測長手段のそれぞれによる測定結果の差に基づいて
前記他の測長手段の測定結果を補正することを特徴とす
る請求項１ないし４のいずれかに記載の距離測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24267792A JP3282233B2 (ja) | 1992-08-18 | 1992-08-18 | 距離測定装置、及びそれを用いた投影露光装置 |
| US08/357,090 US5523841A (en) | 1992-08-18 | 1994-12-15 | Distance measuring apparatus using multiple switched interferometers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24267792A JP3282233B2 (ja) | 1992-08-18 | 1992-08-18 | 距離測定装置、及びそれを用いた投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0669099A true JPH0669099A (ja) | 1994-03-11 |
| JP3282233B2 JP3282233B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=17092598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24267792A Expired - Lifetime JP3282233B2 (ja) | 1992-08-18 | 1992-08-18 | 距離測定装置、及びそれを用いた投影露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5523841A (ja) |
| JP (1) | JP3282233B2 (ja) |
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| JP2005244088A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法 |
| JP2013034014A (ja) * | 2006-09-01 | 2013-02-14 | Nikon Corp | 移動体駆動方法 |
| JP2019500614A (ja) * | 2015-12-31 | 2019-01-10 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | 干渉計測定装置およびその制御方法 |
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| US6057921A (en) * | 1997-07-08 | 2000-05-02 | Etec Systems, Inc. | Two piece mirror arrangement for interferometrically controlled stage |
| US6897963B1 (en) * | 1997-12-18 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Stage device and exposure apparatus |
| DE69943311D1 (de) | 1998-12-24 | 2011-05-12 | Canon Kk | Trägerplattesteuerungsvorrichtung, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung |
| US7244034B1 (en) | 1999-08-20 | 2007-07-17 | M Cubed Technologies, Inc. | Low CTE metal-ceramic composite articles, and methods for making same |
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| JP3907497B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及びその制御方法、並びに露光装置、並びにその制御方法により制御される露光装置により半導体デバイスを製造する製造方法 |
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| DE102008015631A1 (de) * | 2008-03-20 | 2009-09-24 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Masken für die Photolithographie |
| CN107462167B (zh) * | 2017-08-24 | 2019-11-05 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 长行程、高精度测量的光栅位移测量方法 |
| JP2023132701A (ja) * | 2022-03-11 | 2023-09-22 | オムロン株式会社 | 光干渉測距センサ |
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-
1992
- 1992-08-18 JP JP24267792A patent/JP3282233B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1994
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| JP2015008306A (ja) * | 2006-09-01 | 2015-01-15 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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|---|---|
| US5523841A (en) | 1996-06-04 |
| JP3282233B2 (ja) | 2002-05-13 |
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