CN102042804B - 激光干涉仪测量装置和方法 - Google Patents

激光干涉仪测量装置和方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102042804B
CN102042804B CN 200910197102 CN200910197102A CN102042804B CN 102042804 B CN102042804 B CN 102042804B CN 200910197102 CN200910197102 CN 200910197102 CN 200910197102 A CN200910197102 A CN 200910197102A CN 102042804 B CN102042804 B CN 102042804B
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser interferometer
catoptron
objective table
measuring light
measuring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN 200910197102
Other languages
English (en)
Other versions
CN102042804A (zh
Inventor
单世宝
唐彩红
程吉水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN 200910197102 priority Critical patent/CN102042804B/zh
Publication of CN102042804A publication Critical patent/CN102042804A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102042804B publication Critical patent/CN102042804B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明提出一种激光干涉仪测量装置和方法,所述装置包括:载物台;第一反射镜,位于所述载物台的上方;第二反射镜,固定放置于所述载物台的一侧边;第一激光干涉仪,位于所述第二反射镜的一侧,所述第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回;第三反射镜,固定放置于所述载物台的另一侧边;第二激光干涉仪,位于所述第三反射镜的一侧,所述第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回。本发明整体结构设计简单,能有效的降低成本,安装方便,降低了系统的复杂度。

Description

激光干涉仪测量装置和方法
技术领域
本发明涉及一种光机电设备,具体涉及一种激光干涉仪测量装置和方法。
背景技术
在光刻机系统中,激光干涉仪可以精确测量载物台或硅片台(统称载物台)的位置及旋转。对于光刻机载物台水平方向X向或Y向的测量(在此定义坐标系垂向为Z向,水平方向为X向和Y向),可直接在载物台侧面安装垂直于水平方向入射光的长方形反射镜,测量X坐标和Y坐标。一般说来,载物台垂向行程不大,水平向行程却很大,而载物台侧面无需载物,所以侧面安装和行程相当的长方形反射镜,可以在大行程内测量载物台的X坐标和Y坐标。进一步的,同一个方向上用二个以上的光轴可测量载物台的旋转。比如对X向和Y向同一个反射镜上的各三个不同点进行测量,可测得载物台沿水平向X轴或水平向Y轴的平移、载物台绕水平向X轴或水平向Y轴的旋转以及绕垂向Z轴的旋转(X,Y,Rx,Ry,Rz)。
下面,请参考4个现有技术的文献。文献1(中国专利,专利号:1699914A)中,安捷仑公司提出了一种测量晶片台平移的激光干涉仪测量装置,这种装置的测量结果包含了Z向位移和X向位移,如果要分离这两个方向的分量,还需要增加测量X方向的干涉仪和相对应的反射镜。文献2(日本专利,专利号:WO27001017A1)涉及了一种复杂的干涉仪测量方案,这种利用两个测量光路组合为一个垂向测量轴,再参考水平向的运动,得到硅片台的垂向和水平向运动距离。对于这种装置,其反射镜安装方式有特殊要求。对于文献1和文献2,其垂向测量光路的布置非常复杂,对反射镜的加工、安装的要求较高。文献3(美国专利,专利号:6020964)和文献4(美国专利,专利号:7333174B2)是ASML公司提出的可同时测量硅片台水平向和垂向位置的干涉仪。这两种方案均是水平向和垂向位置单独测量,并且在硅片台的同一侧分别安装45度倾斜干涉仪测量反射镜和90度垂直测量反射镜。相对于文献1和文献2,其垂向测量变简单,但水平测量和垂向测量仍然分离,因此光路和反射镜也需要设计为独立工作,然后再组合在一起。
从上述文献方案可以看出,对于载物台的测量,最通用的办法是分别设计水平向和垂向干涉仪及相应的测量反射镜;并且水平向和垂向使用的干涉仪反射镜均放在硅片台的同一侧,垂向的测量干涉仪需要利用水平向的数据来计算独立的垂向位置,这样就增加了反射镜的加工和安装难度,并且增加了系统的复杂度。
发明内容
为了克服已有技术中存在的干涉仪测量装置安装难度大、系统复杂度高等缺点,本发明提供一种激光干涉仪测量装置,所述装置包括:载物台;第一反射镜,位于所述载物台的上方,所述第一反射镜反射面和所述载物台水平面平行;第二反射镜,固定放置于所述载物台的一侧边;第一激光干涉仪,位于所述第二反射镜的一侧,所述第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回;第三反射镜,固定放置于所述载物台的另一侧边;第二激光干涉仪,位于所述第三反射镜的一侧,所述第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回。
可选的,所述装置还包括:第四反射镜,固定放置于所述载物台的一侧,和所述载物台水平面垂直;第三激光干涉仪,位于所述第四反射镜的一侧,所述第三激光干涉仪出射的测量光经所述第四反射镜反射后沿原路返回。
可选的,所述第三激光干涉仪出射的测量光数量为一束。
可选的,所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第二反射镜反射面的夹角为45度,所述第二反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
可选的,所述第二激光干涉仪出射的测量光和所述第三反射镜反射面的夹角为45度,所述第三反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
为了实现上述目的,本发明还提供一种使用权利要求1的装置的激光干涉仪测量方法,所述方法包括以下步骤:从第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第一激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到测量信号;从第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第二激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到测量信号;根据多个所述测量信号计算载物台的位置。
可选的,所述方法还包括:第三激光干涉仪出射的测量光经所述第四反射镜反射后沿原路返回,所述第四反射镜,固定放置于所述载物台的一侧,和所述载物台水平面垂直,所述第三激光干涉仪位于所述第四反射镜的一侧。
可选的,所述第三激光干涉仪出射的测量光数量为一束。
可选的,从所述第一激光干涉仪和所述第二激光干涉仪出射的测量光的数量为其中一个激光干涉仪至少三束测量光,另一激光干涉仪为至少两束测量光。
可选的,所述至少三束测量光和所述至少两束测量光均分布在两个水平面。
可选的,从同一激光干涉仪出射的分布在同一水平面的测量光至少有两束不重合。
可选的,所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第二反射镜反射面的夹角为45度,所述第二反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
可选的,所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第三反射镜反射面的夹角为45度,所述第三反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
本发明所述的一种激光干涉仪测量装置和方法的有益效果主要表现在:本发明在载物台两边各设置一个和激光干涉仪出射的测量光成45度角的反射镜,代替了现有技术中复杂的结构,从而降低了整个测量装置的复杂度,安装和调试也非常的方便。
附图说明
图1为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第一实施例结构示意图;
图2为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第一实施例的俯视图;
图3为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第一实施例的旋转俯视图;
图4为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第二实施例结构示意图;
图5为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第三实施例结构示意图;
图6为图5的侧视图。
具体实施方式
下面,结合附图对本发明作进一步的说明。
首先,请参考图1,图1为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第一实施例结构示意图,具体来讲,是将本发明激光干涉仪测量装置应用于光刻机中的实施例。
从图上可以看出,本发明提供的激光干涉仪测量装置包括:载物台103;第一反射镜108,位于所述载物台103的上方,所述第一反射镜108反射面和所述载物台103水平面平行;第二反射镜131,固定放置于所述载物台103的一侧边;第一激光干涉仪101,位于所述第二反射镜131的一侧,所述第一激光干涉仪101出射的测量光经所述第二反射镜131反射,垂直入射所述第一反射镜108后经原路返回;第三反射镜132,固定放置于所述载物台103的另一侧边;第二激光干涉仪102,位于所述第三反射镜132的一侧,所述第二激光干涉仪102出射的测量光经所述第三反射镜132反射,垂直入射所述第一反射镜108后经原路返回。
此外,图1中还包括:主基板106,位于所述第一反射镜108的上方;硅片104放置于所述载物台103上;曝光系统105,位于所述硅片104的上方,且固定于所述主基板106上。第一激光干涉仪101出射的测量光和所述第二反射镜131反射面的夹角为45度,所述第二反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度,所述第二激光干涉仪102出射的测量光和所述第三反射镜132反射面的夹角为45度,所述第三反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度,这样设计是为了使得测量光打到第二反射镜131和第三反射镜132之后可以垂直入射第一反射镜108再沿原路返回。
本发明提供的使用上述装置进行测量的方法包括以下步骤:从第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第一激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到测量信号;从第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第二激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到测量信号;根据多个所述测量信号计算载物台的位置。从所述第一激光干涉仪和所述第二激光干涉仪出射的测量光的数量至少为两束和三束或者三束和两束,本实施例以均为三束为例加以说明。所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第二反射镜反射面的夹角为45度,所述第二反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第三反射镜反射面的夹角为45度,所述第三反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
从图1上可以看出,第一激光干涉仪101的三个测量光路L1、L2、L3。第二激光干涉仪102的三个测量光路为L4、L5、L6。其中L1、L2、L4、L5在同一平面上,L3、L6在同一平面上。如图2所示,a为L1与L3、L2与L3、L4与L6、L5与L6之间的水平距离。如图1所示,d为L1与L3、L2与L3、L4与L6、L5与L6之间的垂直距离。
第一激光干涉仪101和第二激光干涉仪102出射的测量光均经对应的反射镜反射,垂直入射第一反射镜108后沿原路被反射回来,与干涉仪内部的参考光干涉而得到测量信号,再由六束测量光组合计算得到载物台的五个自由度位置。该计算推导过程如下:
为了由两个激光干涉仪的六个测量光路得到硅片台的五自由度位置,本实施例暂作如下假设:
假设1:对于每个干涉仪,以测量光束光程变长的方向为正,测量光束光程变短的方向为负。
假设2:由于硅片台的旋转和倾斜量较小,本专利假设sinθ=θ,这里θ为旋转或倾斜角度。
假设3:第一激光干涉仪的测量光路和反射镜与第二激光干涉仪的测量光路和反射镜成对称方式布置。
假设4:在某时刻,假设六个测量轴相对于参考原点的输出为:Vl1,Vl2,Vl3,Vl4,Vl5,Vl6。
因此,根据位置关系可以得到五自由度位置(Vx,Vz,Vrx,Vry,Vrz)为:
Vx = ( Vl 1 + Vl 2 + Vl 3 ) 3 - ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 3 2 = ( Vl 1 + Vl 2 + Vl 3 ) - ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 6
Vz = ( Vl 1 + Vl 2 + Vl 3 ) 3 + ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 3 2 = ( Vl 1 + Vl 2 + Vl 3 ) + ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 6
Vrx = ( Vl 1 + Vl 2 - Vl 3 ) 2 * d + ( Vl 6 - Vl 4 + Vl 5 ) 2 * d 2 = ( Vl 1 + Vl 2 - Vl 3 ) + ( Vl 6 - Vl 4 + Vl 5 ) 4 * d
Vry = ( Vl 2 - Vl 1 ) 2 * a + ( Vl 4 - Vl 5 ) 2 * a 2 = ( Vl 2 - Vl 1 ) + ( Vl 4 - Vl 5 ) 4 * a
Vrz = ( Vl 2 - Vl 1 ) 2 * a + ( Vl 5 - Vl 4 ) 2 * a 2 = ( Vl 2 - Vl 1 ) + ( Vl 5 - Vl 4 ) 4 * a
即:
Vx Vz Vrx Vry Vrz = 1 6 1 6 1 6 - 1 6 - 1 6 - 1 6 1 6 1 6 1 6 1 6 1 6 1 6 1 4 d 1 4 d - 1 4 d - 1 4 d 1 4 d 1 4 d - 1 4 a 1 4 a 0 - 1 4 a 1 4 a 0 - 1 4 a 1 4 a 0 1 4 a - 1 4 a 0 Vl 1 Vl 2 Vl 3 Vl 4 Vl 5 Vl 6 - - - ( 1 )
对于上述公式(1)所述转换矩阵,可以证明五个逻辑轴之间完全解耦。以rz轴为例证明如下:假设某次硅片台转动Vrx0,请参考图3,图3为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第一实施例的旋转俯视图图;如图3所示。六个测量轴的理论输出为: Vl 1 = - V rz 0 * a Vl 2 = Vrz 0 * a Vl 4 = Vrz 0 * a Vl 5 = - V rz 0 * a
根据公式(1)可以得到: Vx Vz Vrx Vry Vrz = 0 0 0 0 Vrz 0
即除rz轴以外,其它轴输出为0,因此,rz轴与其它轴之间相互解耦。可以按照上述步骤简单证明其它逻辑轴也存在同样关系。
当L1与L3、L2与L3、L4与L6、L5与L6之间的水平距离不为a,为任意数值时,当L1与L3、L2与L 3、L4与L6、L5与L6之间的垂直距离不为d,为任意数值时,该方案仍然可以实现。此时,六个测量轴的权重因子会发生变化,即五自由度位置中各个测量轴的权重因子发生变化,其权重因子可以根据测量光的位置关系通过几何换算获得。
请参考图4,图4为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第二实施例结构示意图。在本实施例中,从所述第一激光干涉仪和所述第二激光干涉仪出射的测量光的数量和为五束,为第一激光干涉仪101的两个测量光路L1、L3,以及第二激光干涉仪102的三个测量光路L4、L5、L6。本实施例采用的激光干涉仪测量装置与第一实施例中的测量装置完全相同,测量方法与第一实施例的测量方法的不同点在于采用五束测量光路,由该五束测量光组合计算得到载物台的五个自由度位置。该计算推导过程如下:
为了由两个激光干涉仪的五个测量光路得到硅片台的五自由度位置,本实施例暂作如下假设:
假设1:对于每个干涉仪,以测量光束光程变长的方向为正,测量光束光程变短的方向为负。
假设2:由于硅片台的旋转和倾斜量较小,本专利假设sinθ=θ,这里θ为旋转或倾斜角度。
假设3:第一激光干涉仪的测量光路和反射镜与第二激光干涉仪的测量光路和反射镜成对称方式布置。
假设4:在某时刻,假设五个测量轴相对于参考原点的输出为:Vl1,Vl3,Vl4,Vl5,Vl6。
因此,根据位置关系可以得到五自由度位置(Vx,Vz,Vrx,Vry,Vrz)为:
Vx = ( Vl 1 + Vl 3 ) 2 - ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 3 2 = 3 ( Vl 1 + Vl 3 ) - 2 ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 12
Vz = ( Vl 1 + Vl 3 ) 2 + ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 3 2 = 3 ( Vl 1 + Vl 3 ) + 2 ( Vl 4 + Vl 5 + Vl 6 ) 12
Vrx = ( Vl 1 - Vl 3 ) d + ( Vl 6 - Vl 4 + Vl 5 ) 2 * d 2 = 2 ( Vl 1 - Vl 3 ) + ( Vl 6 - Vl 4 + Vl 5 ) 4 * d
Vry = Vl 4 - Vl 5 2 * a
Vrz = Vl 5 - Vl 4 2 * a
即:
Vx Vz Vrx Vry Vrz = 1 4 1 4 - 1 6 - 1 6 - 1 6 1 4 1 4 1 6 1 6 1 6 1 2 d - 1 2 d - 1 4 d 1 4 d 1 4 d 0 0 1 2 a - 1 2 a 0 0 0 - 1 2 a 1 2 a 0 Vl 1 Vl 3 Vl 4 Vl 5 Vl 6 - - - ( 1 )
对于上述公式(1)所述转换矩阵,可以参照第一实施例中的内容证明五个逻辑轴之间完全解耦。
本实施例也可以采用第一激光干涉仪101的三个测量光路L1、L2、L3,以及第二激光干涉仪102的两个测量光路L4、L6。总之,两个激光干涉仪中任意一个激光干涉仪采用至少三束测量光,另一个激光干涉仪采用至少两束测量光,所述至少三束测量光和所述至少两束测量光均分布在两个水平面,从同一激光干涉仪出射的分布在同一水平面的测量光至少有两束不重合,该实施例的技术方案均可实现。
最后,请参考图5和图6,图5为本发明激光干涉仪测量装置和方法的第三实施例结构示意图,图6为图5的侧视图,在第一实施例中,y方向载物台的移动距离是无法求得的,为了能够完整的求得载物台六个自由度,因此第三实施例在第一实施例的基础上增加了第四反射镜133和第三激光干涉仪134,第四反射镜133固定放置于所述载物台103的一侧并与所述载物台103水平面垂直,所述第三激光干涉仪134位于所述第四反射镜133的一侧,所述第三激光干涉仪134出射的一束测量光经第四反射镜133反射后沿原路返回,与第三激光干涉仪134内部的参考光干涉而得到测量信号,从而直接得到载物台y方向的位置。所述第三激光干涉仪134出射的测量光垂直于所述第一激光干涉仪101和所述第二激光干涉仪102出射的测量光。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种的更动与润饰。因此,本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。

Claims (9)

1.一种激光干涉仪测量装置,其特征在于所述装置包括:
载物台;
第一反射镜,位于所述载物台的上方,所述第一反射镜反射面和所述载物台水平面平行;
第二反射镜,固定放置于所述载物台的一侧边;
第一激光干涉仪,位于所述第二反射镜的一侧,所述第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回,所述第一激光干涉仪出射的测量光和所述第二反射镜反射面的夹角为45度,所述第二反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度;
第三反射镜,固定放置于所述载物台的另一侧边;
第二激光干涉仪,位于所述第三反射镜的一侧,所述第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射后垂直入射所述第一反射镜并沿原路返回,所述第二激光干涉仪出射的测量光和所述第三反射镜反射面的夹角为45度,所述第三反射镜反射面与所述载物台水平面的夹角为45度。
2.根据权利要求1所述的激光干涉仪测量装置,其特征在于所述装置还包括:
第四反射镜,固定放置于所述载物台的一侧,和所述载物台水平面垂直;第三激光干涉仪,位于所述第四反射镜的一侧,所述第三激光干涉仪出射的测量光经所述第四反射镜反射后沿原路返回。
3.根据权利要求2所述的激光干涉仪测量装置,其特征在于所述第三激光干涉仪出射的测量光数量为一束。
4.一种使用权利要求1的装置的激光干涉仪测量方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:
从第一激光干涉仪出射的测量光经所述第二反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第一激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到第一测量信号;
从第二激光干涉仪出射的测量光经所述第三反射镜反射,垂直入射第一反射镜后沿原路被反射回来,与所述第二激光干涉仪内的参考光产生干涉而得到第二测量信号;
根据所述第一测量信号和第二测量信号计算载物台的位置。
5.根据权利要求4所述的激光干涉仪测量方法,其特征在于所述方法还包括:
第三激光干涉仪出射的测量光经所述第四反射镜反射后沿原路返回,所述第四反射镜,固定放置于所述载物台的一侧,和所述载物台水平面垂直,所述第三激光干涉仪位于所述第四反射镜的一侧。
6.根据权利要求5所述的激光干涉仪测量方法,其特征在于所述第三激光干涉仪出射的测量光数量为一束。
7.根据权利要求4或5所述的激光干涉仪测量方法,其特征在于从所述第一激光干涉仪和所述第二激光干涉仪出射的测量光的数量为其中一个激光干涉仪至少三束测量光,另一激光干涉仪为至少两束测量光。
8.根据权利要求7所述的激光干涉仪测量方法,其特征在于所述至少三束测量光和所述至少两束测量光均分布在两个水平面。
9.根据权利要求8所述的激光干涉仪测量方法,其特征在于从同一激光干涉仪出射的分布在同一水平面的测量光至少有两束不重合。
CN 200910197102 2009-10-13 2009-10-13 激光干涉仪测量装置和方法 Active CN102042804B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200910197102 CN102042804B (zh) 2009-10-13 2009-10-13 激光干涉仪测量装置和方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200910197102 CN102042804B (zh) 2009-10-13 2009-10-13 激光干涉仪测量装置和方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102042804A CN102042804A (zh) 2011-05-04
CN102042804B true CN102042804B (zh) 2012-12-12

Family

ID=43909164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 200910197102 Active CN102042804B (zh) 2009-10-13 2009-10-13 激光干涉仪测量装置和方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102042804B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103048482A (zh) * 2013-01-15 2013-04-17 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 一种振动台微小角运动量的测量装置及方法
CN104316078B (zh) * 2014-09-23 2018-03-20 中国地震灾害防御中心 激光干涉仪系统
CN106931878A (zh) * 2015-12-31 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 一种干涉仪测量装置及其控制方法
CN106272318B (zh) * 2016-06-29 2019-03-29 昆山国显光电有限公司 一种激光点位标记设备及其方法
CN106959074A (zh) * 2017-03-21 2017-07-18 北京航空航天大学 一种用于微纳移动及旋转角度测量的配镜装置
CN106931884B (zh) * 2017-04-14 2019-05-21 北京航空航天大学 微纳操控平台三自由度的测量系统及其测量方法
CN106931890B (zh) * 2017-04-14 2019-05-17 北京航空航天大学 微纳操控平台位移及旋转角的精密测量系统及其测量方法
CN107064067B (zh) * 2017-05-16 2019-12-24 西安交通大学 一种双干涉仪的空气折射率廓线的测量系统及方法
CN110966939B (zh) * 2018-09-28 2021-10-01 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种干涉测量装置、测量方法及光刻设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101393009A (zh) * 2008-11-05 2009-03-25 上海微电子装备有限公司 大行程激光干涉仪垂向测量装置和方法
CN101413783A (zh) * 2008-07-23 2009-04-22 中国航空工业第一集团公司北京长城计量测试技术研究所 双频激光干涉测量装置
WO2009090771A1 (ja) * 2008-01-18 2009-07-23 Prefecture Ishikawa レーザ干渉計、及びそれを用いた測定装置
CN101551235A (zh) * 2009-05-04 2009-10-07 上海微电子装备有限公司 激光干涉仪测量装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009090771A1 (ja) * 2008-01-18 2009-07-23 Prefecture Ishikawa レーザ干渉計、及びそれを用いた測定装置
CN101413783A (zh) * 2008-07-23 2009-04-22 中国航空工业第一集团公司北京长城计量测试技术研究所 双频激光干涉测量装置
CN101393009A (zh) * 2008-11-05 2009-03-25 上海微电子装备有限公司 大行程激光干涉仪垂向测量装置和方法
CN101551235A (zh) * 2009-05-04 2009-10-07 上海微电子装备有限公司 激光干涉仪测量装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102042804A (zh) 2011-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102042804B (zh) 激光干涉仪测量装置和方法
US9879979B2 (en) Heterodyne grating interferometer displacement measurement system
CN107228638B (zh) 基于光束漂移补偿的五自由度误差同时测量的方法与装置
CN101169601B (zh) 一种调焦调平测量系统
CN105424322A (zh) 自校准光轴平行性检测仪及检测方法
KR101682181B1 (ko) 공작물 테이블과 마스크 테이블이 공용하는 균형질량 시스템 및 노광기
CN1699914A (zh) 用于测量晶片台平移的外差激光干涉仪
CN108871278B (zh) 一种液体表面反射式双轴光电水平仪及方法
JP2005156559A (ja) 改良されたリトグラフ干渉計装置
CN1920478A (zh) 一种提高直线度测量灵敏度的方法与装置
US20110102778A1 (en) Geometric Error Measuring Device
CN103383531B (zh) 掩模对准装置及使用该装置的光刻设备
US20110038061A1 (en) Catadioptric projection objective
CN102129183B (zh) 调焦调平测量装置
CN103529650B (zh) 一种高度测量装置及其测量方法
CN101393009B (zh) 大行程激光干涉仪垂向测量装置和方法
CN105737758A (zh) 一种长程面形测量仪
CN102087475B (zh) 一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法
JP5337419B2 (ja) 変位測定装置、それを用いたシール部材形状測定装置及びそれらに用いられる変位検出装置
CN105758333A (zh) 一种长程光学表面面形检测仪
CN101551235A (zh) 激光干涉仪测量装置
CN102193324B (zh) 工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置及联调方法
CN103868456B (zh) 载物台平移测量装置及测量方法
CN102193322B (zh) 光刻机物镜顶板的检测装置及调整方法
CN105674913A (zh) 一种长程光学表面面形检测系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder