JP3356104B2 - 移動ステージのローリング角度測定方法及び装置 - Google Patents
移動ステージのローリング角度測定方法及び装置Info
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は移動ステージのロー
リング角度測定方法及び装置に関し、特にエキシマレー
ザステッパ等の半導体露光装置に好適な移動ステージの
ローリング角度測定方法及び装置に関する。
リング角度測定方法及び装置に関し、特にエキシマレー
ザステッパ等の半導体露光装置に好適な移動ステージの
ローリング角度測定方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、エキシマレーザステッパ等の
半導体露光装置が存在している。近年ではウェハサイズ
の大口径化に伴い、レーザ光出力が大出力化しており、
エキシマレーザステッパでは、露光用の大出力のレーザ
光源と、このレーザ光源からのレーザ光が入射され露光
を行うステッパ本体とを離して配置することが多くなっ
ている。レーザ光源からのレーザ光が正確な位置からず
れると、ウェハ上の露光位置がずれてしまい、正確な露
光ができなくなるので、レーザ光源とステッパ本体との
光軸を正確に一致させるための各種光軸調整方法が存在
している。特許第２５８３１２０号公報には、このよう
な露光装置の一例が開示されており、当該公報記載の技
術を従来例として以下に説明する。
半導体露光装置が存在している。近年ではウェハサイズ
の大口径化に伴い、レーザ光出力が大出力化しており、
エキシマレーザステッパでは、露光用の大出力のレーザ
光源と、このレーザ光源からのレーザ光が入射され露光
を行うステッパ本体とを離して配置することが多くなっ
ている。レーザ光源からのレーザ光が正確な位置からず
れると、ウェハ上の露光位置がずれてしまい、正確な露
光ができなくなるので、レーザ光源とステッパ本体との
光軸を正確に一致させるための各種光軸調整方法が存在
している。特許第２５８３１２０号公報には、このよう
な露光装置の一例が開示されており、当該公報記載の技
術を従来例として以下に説明する。
【０００３】図７は従来例の露光装置の右側面図であ
る。
る。
【０００４】図７に示す露光装置は、位置決め定盤１０
６上にＸＹステージ用マウント１１４を介して載置され
た定盤１１３上に、ステージベース１１２が固定されて
いる。ステージベース１１２上には、図７中のＹ軸方向
に移動自在なＹステージ１１１が載置され、更にその上
には図７中のＸ軸方向に移動自在なＸステージ１１０が
載置されている。更にその上にはトップステージ１０９
が載置されている。トップステージ１０９からは側方に
張り出して、図７中のＹステージ１１１の移動範囲全長
に亙って平面状の反射鏡１２２が取り付けられている。
図７では、説明をわかりやすくするために、一方の反射
鏡１２２のみを図示している。
６上にＸＹステージ用マウント１１４を介して載置され
た定盤１１３上に、ステージベース１１２が固定されて
いる。ステージベース１１２上には、図７中のＹ軸方向
に移動自在なＹステージ１１１が載置され、更にその上
には図７中のＸ軸方向に移動自在なＸステージ１１０が
載置されている。更にその上にはトップステージ１０９
が載置されている。トップステージ１０９からは側方に
張り出して、図７中のＹステージ１１１の移動範囲全長
に亙って平面状の反射鏡１２２が取り付けられている。
図７では、説明をわかりやすくするために、一方の反射
鏡１２２のみを図示している。
【０００５】又、位置決め定盤１０６上には、図７中の
Ｙ軸方向に移動自在な鏡筒支持体１０４が載置されてお
り、鏡筒支持体１０４は投影レンズ１０３を支持してい
る。鏡筒支持体１０４には干渉計１２３が取り付けられ
ており、この干渉計１２３から出射したレーザ光は二分
岐されて反射鏡１２２及び投影レンズ１０３に取り付け
られたＹ方向参照面１２６でそれぞれ反射されて干渉計
１２３へ入射し、干渉量が測定される。
Ｙ軸方向に移動自在な鏡筒支持体１０４が載置されてお
り、鏡筒支持体１０４は投影レンズ１０３を支持してい
る。鏡筒支持体１０４には干渉計１２３が取り付けられ
ており、この干渉計１２３から出射したレーザ光は二分
岐されて反射鏡１２２及び投影レンズ１０３に取り付け
られたＹ方向参照面１２６でそれぞれ反射されて干渉計
１２３へ入射し、干渉量が測定される。
【０００６】図８は図７の露光装置の測定系の配置説明
詳細斜視図である。
詳細斜視図である。
【０００７】図８に示す測定系において、レーザヘッド
１２１から出射したレーザ光は干渉計１２３により反射
され、トップステージ１０９の移動範囲全長に亙って設
けられた反射鏡１２２と投影レンズ１０３の参照面１２
６とでそれぞれ反射されて干渉計１２３へ戻る。この戻
り光はレシーバ１２４でそれぞれ受光されて受光光強度
にそれぞれ対応するＸ軸、Ｙ軸方向のずれが求められる
と共に、ヨー干渉計１２３を経てヨーレシーバ１２４へ
入射し受光光強度に対応するヨーイング角度φが求めら
れる。そして、これらＸ軸、Ｙ軸方向のずれ及びヨーイ
ング角度φをパラメータとして、内部に予め格納されて
いるテーブルを参照し、対応するローリング角度θを求
めている。
１２１から出射したレーザ光は干渉計１２３により反射
され、トップステージ１０９の移動範囲全長に亙って設
けられた反射鏡１２２と投影レンズ１０３の参照面１２
６とでそれぞれ反射されて干渉計１２３へ戻る。この戻
り光はレシーバ１２４でそれぞれ受光されて受光光強度
にそれぞれ対応するＸ軸、Ｙ軸方向のずれが求められる
と共に、ヨー干渉計１２３を経てヨーレシーバ１２４へ
入射し受光光強度に対応するヨーイング角度φが求めら
れる。そして、これらＸ軸、Ｙ軸方向のずれ及びヨーイ
ング角度φをパラメータとして、内部に予め格納されて
いるテーブルを参照し、対応するローリング角度θを求
めている。
【０００８】このように従来の露光装置では、ステージ
の移動範囲と同一長さの平面状の反射鏡をステージ上に
取り付けてローリング角度を測定していた。
の移動範囲と同一長さの平面状の反射鏡をステージ上に
取り付けてローリング角度を測定していた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の露
光装置には、以下のような問題があった。
光装置には、以下のような問題があった。
【００１０】第１点として、図８に示すようにトップス
テージ１０９にトップステージ１０９の移動範囲と同一
長さの２つの反射鏡１２２を取り付ける必要があり、ト
ップステージ１０９の重量が大幅に増加し、トップステ
ージ１０９の駆動負荷が増大するので、各ステージ１０
９〜１１１の駆動力を高める必要があり、駆動系の作製
コストが増大する問題があった。
テージ１０９にトップステージ１０９の移動範囲と同一
長さの２つの反射鏡１２２を取り付ける必要があり、ト
ップステージ１０９の重量が大幅に増加し、トップステ
ージ１０９の駆動負荷が増大するので、各ステージ１０
９〜１１１の駆動力を高める必要があり、駆動系の作製
コストが増大する問題があった。
【００１１】第２点として、第１点で述べたようにトッ
プステージ１０９の重量が大幅に増加すると、トップス
テージ１０９の慣性量が増大するので、トップステージ
１０９を高速で駆動できなくなり、生産工程におけるス
ループットが低下する問題があった。
プステージ１０９の重量が大幅に増加すると、トップス
テージ１０９の慣性量が増大するので、トップステージ
１０９を高速で駆動できなくなり、生産工程におけるス
ループットが低下する問題があった。
【００１２】第３点として、第１点で述べたようにトッ
プステージ１０９の重量が大幅に増加すると、トップス
テージ１０９の慣性量が増大し、各ステージ１０９〜１
１１の駆動時に振動が発生するので、各ステージ１０９
〜１１１の部材及び支持構造の剛性を大幅に高める必要
があり、各ステージ１０９〜１１１の作製コストが上昇
する問題があった。
プステージ１０９の重量が大幅に増加すると、トップス
テージ１０９の慣性量が増大し、各ステージ１０９〜１
１１の駆動時に振動が発生するので、各ステージ１０９
〜１１１の部材及び支持構造の剛性を大幅に高める必要
があり、各ステージ１０９〜１１１の作製コストが上昇
する問題があった。
【００１３】第４点として、重量の大きい反射鏡１２２
が図７に示すようにトップステージ１０９の中央から一
方の側面へ張り出して取り付けられるので、各ステージ
１０９〜１１１に図７中の矢印Ｍで示す下向きの回転モ
ーメントが生じ、トップステージ１０９に反りが発生し
て取付誤差が増大すると共に、各ステージ１０９〜１１
１に余分な負荷が掛かる問題があった。
が図７に示すようにトップステージ１０９の中央から一
方の側面へ張り出して取り付けられるので、各ステージ
１０９〜１１１に図７中の矢印Ｍで示す下向きの回転モ
ーメントが生じ、トップステージ１０９に反りが発生し
て取付誤差が増大すると共に、各ステージ１０９〜１１
１に余分な負荷が掛かる問題があった。
【００１４】ここにおいて本発明は、ローリング角度
を、簡易構成で、小さい測定誤差で測定可能な、移動ス
テージのローリング角度測定方法及び装置を提供する。
を、簡易構成で、小さい測定誤差で測定可能な、移動ス
テージのローリング角度測定方法及び装置を提供する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明は次の新規な特徴的手法及び手段を採用す
る。
め、本発明は次の新規な特徴的手法及び手段を採用す
る。
【００１６】本発明の移動ステージのローリング角度測
定方法の特徴は、平面（図１の２０）上を直線移動自在
なステージ（３０）に対向して、ステージ（３０）の移
動方向に沿ってステージ（３０）へ向かってレーザ光
（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射するレーザ光源（１１）を配
置し、レーザ光源（１１）から位相が互いに１／２波長
ずれた２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射させ、
ステージ（３０）上に固定されたミラー（４ａ〜４ｇ）
で２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）をステージ（３
０）の移動方向の両側において直角下向きに反射させ、
ステージ（３０）の移動方向に沿って平行に配置された
２つの反射体（１ａ，１ｂ）でレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）を逆向きに反射させ、ステージ（３０）上に固定さ
れたミラー（４ａ〜４ｇ）で反射された２つのレーザ光
（Ｌｒ１，Ｌｒ２）をそれぞれレーザ光源（１１）へ向
かって反射させ、反射された２つのレーザ光（Ｌｒ１，
Ｌｒ２）の合成光の受光光強度を測定し、受光光強度に
対応してレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）の光軸に対するス
テージ（３０）のローリング角度θを求めることにあ
る。
定方法の特徴は、平面（図１の２０）上を直線移動自在
なステージ（３０）に対向して、ステージ（３０）の移
動方向に沿ってステージ（３０）へ向かってレーザ光
（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射するレーザ光源（１１）を配
置し、レーザ光源（１１）から位相が互いに１／２波長
ずれた２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射させ、
ステージ（３０）上に固定されたミラー（４ａ〜４ｇ）
で２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）をステージ（３
０）の移動方向の両側において直角下向きに反射させ、
ステージ（３０）の移動方向に沿って平行に配置された
２つの反射体（１ａ，１ｂ）でレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）を逆向きに反射させ、ステージ（３０）上に固定さ
れたミラー（４ａ〜４ｇ）で反射された２つのレーザ光
（Ｌｒ１，Ｌｒ２）をそれぞれレーザ光源（１１）へ向
かって反射させ、反射された２つのレーザ光（Ｌｒ１，
Ｌｒ２）の合成光の受光光強度を測定し、受光光強度に
対応してレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）の光軸に対するス
テージ（３０）のローリング角度θを求めることにあ
る。
【００１７】本発明の移動ステージのローリング角度測
定装置の特徴は、平面（図１の２０）上を直線移動自在
なステージ（３０）と、ステージ（３０）に対向して配
置され、ステージの移動方向に沿ってステージ（３０）
へ向かって位相が互いに１／２波長ずれた２つのレーザ
光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射するレーザ光源（１１）
と、ステージ（３０）上に配置され、レーザ光源（１
１）から出射した２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を
ステージ（３０）の移動方向の両側において鉛直下向き
に反射させるミラー群（４ａ〜４ｇ）と、ステージ（３
０）の移動方向に沿って平行に配置され、ミラー群（４
ａ〜４ｇ）で反射された２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）をステージ（３０）の直下でそれぞれ逆向きに反射
させる反射体（１ａ，１ｂ）と、反射体（１ａ，１ｂ）
でそれぞれ反射された２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）の合成光の受光光強度を測定する受光器（５）とを
具備することにある。
定装置の特徴は、平面（図１の２０）上を直線移動自在
なステージ（３０）と、ステージ（３０）に対向して配
置され、ステージの移動方向に沿ってステージ（３０）
へ向かって位相が互いに１／２波長ずれた２つのレーザ
光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を出射するレーザ光源（１１）
と、ステージ（３０）上に配置され、レーザ光源（１
１）から出射した２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ２）を
ステージ（３０）の移動方向の両側において鉛直下向き
に反射させるミラー群（４ａ〜４ｇ）と、ステージ（３
０）の移動方向に沿って平行に配置され、ミラー群（４
ａ〜４ｇ）で反射された２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）をステージ（３０）の直下でそれぞれ逆向きに反射
させる反射体（１ａ，１ｂ）と、反射体（１ａ，１ｂ）
でそれぞれ反射された２つのレーザ光（Ｌｉ１，Ｌｉ
２）の合成光の受光光強度を測定する受光器（５）とを
具備することにある。
【００１８】このような手法及び手段を採用したことに
より、本発明は、キューブコーナプリズムをステージ上
ではなく定盤上に配置でき、ステージの重量を軽減でき
る。
より、本発明は、キューブコーナプリズムをステージ上
ではなく定盤上に配置でき、ステージの重量を軽減でき
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態の移動
ステージのローリング角度測定装置の構造説明平面図、
図２は図１のローリング角度測定装置の構造説明右側面
図、図３は図１のローリング角度測定装置の構造説明正
面図である。
ステージのローリング角度測定装置の構造説明平面図、
図２は図１のローリング角度測定装置の構造説明右側面
図、図３は図１のローリング角度測定装置の構造説明正
面図である。
【００２０】図１〜図３に示すローリング角度測定装置
は、定盤２０と、一軸ステージ３０と、レーザ光源１１
と、偏光ビームスプリッタ２と、１／４波長板３ａ，３
ｂと、ミラー４ａ〜４ｇと、キューブコーナプリズム１
ａ，１ｂと、受光器５とからなる。
は、定盤２０と、一軸ステージ３０と、レーザ光源１１
と、偏光ビームスプリッタ２と、１／４波長板３ａ，３
ｂと、ミラー４ａ〜４ｇと、キューブコーナプリズム１
ａ，１ｂと、受光器５とからなる。
【００２１】一軸ステージ３０は、図１及び図２中の矢
印Ｘ方向に直線移動自在なステージであり、水平面上に
配置された定盤２０上に載置されている。
印Ｘ方向に直線移動自在なステージであり、水平面上に
配置された定盤２０上に載置されている。
【００２２】レーザ光源１１は、互いに位相が１／２波
長だけ異なる２つのレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２を出射する
レーザ光源であり、各レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の光軸が
一軸ステージ３０の移動方向と平行になるように、水平
面上に配置された固定台３１上に固定されている。
長だけ異なる２つのレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２を出射する
レーザ光源であり、各レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の光軸が
一軸ステージ３０の移動方向と平行になるように、水平
面上に配置された固定台３１上に固定されている。
【００２３】偏光ビームスプリッタ２は、レーザ光Ｌｉ
１，Ｌｉ２を、図１中の上向きのレーザ光Ｌｉ１と、図
１中の右向きのレーザ光Ｌｉ２に二分割する光学素子で
あり、レーザ光源１１からのレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の
出射方向の固定台３１上に固定されている。
１，Ｌｉ２を、図１中の上向きのレーザ光Ｌｉ１と、図
１中の右向きのレーザ光Ｌｉ２に二分割する光学素子で
あり、レーザ光源１１からのレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の
出射方向の固定台３１上に固定されている。
【００２４】１／４波長板３ａ，３ｂは、それぞれレー
ザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の位相を１／４波長だけ回転させる
光学素子であり、偏光ビームスプリッタ２の図１中の上
側の面と右側の面にそれぞれ貼り付けられている。
ザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の位相を１／４波長だけ回転させる
光学素子であり、偏光ビームスプリッタ２の図１中の上
側の面と右側の面にそれぞれ貼り付けられている。
【００２５】ミラー４ａは、固定台３１上の偏向ビーム
スプリッタ２の図１中の右側に固定され、１／４波長板
３ｂから図１中の右向きに出射したレーザ光Ｌｉ２を図
１中の上側に向かって直角に反射させる。
スプリッタ２の図１中の右側に固定され、１／４波長板
３ｂから図１中の右向きに出射したレーザ光Ｌｉ２を図
１中の上側に向かって直角に反射させる。
【００２６】ミラー４ｂは、一軸ステージ３０上で偏光
ビームスプリッタ３ａを透過したレーザ光Ｌｉ１の光軸
上に固定され、１／４波長板３ａからの図１中の上向き
に出射したレーザ光Ｌｉ１を図１中の左側へ向かって直
角に反射させる。
ビームスプリッタ３ａを透過したレーザ光Ｌｉ１の光軸
上に固定され、１／４波長板３ａからの図１中の上向き
に出射したレーザ光Ｌｉ１を図１中の左側へ向かって直
角に反射させる。
【００２７】ミラー４ｃは、一軸ステージ３０上で図１
中のミラー４ｂの左側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｂから図１中の左向きに出射した
レーザ光Ｌｉ１を図１中の上側へ向かって直角に反射さ
せる。
中のミラー４ｂの左側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｂから図１中の左向きに出射した
レーザ光Ｌｉ１を図１中の上側へ向かって直角に反射さ
せる。
【００２８】ミラー４ｄは、一軸ステージ３０上で図１
中のミラー４ｃの上側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｃから図１中の上向きに出射した
レーザ光Ｌｉ１を図２、図３中の下側へ向かって直角に
反射させる。このミラー４ｄの直下の一軸ステージ３０
にはレーザ光Ｌｉ１を鉛直下向きに通過させるための貫
通孔３０ａが開口形成されている。
中のミラー４ｃの上側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｃから図１中の上向きに出射した
レーザ光Ｌｉ１を図２、図３中の下側へ向かって直角に
反射させる。このミラー４ｄの直下の一軸ステージ３０
にはレーザ光Ｌｉ１を鉛直下向きに通過させるための貫
通孔３０ａが開口形成されている。
【００２９】ミラー４ｅは、一軸ステージ３０上でミラ
ー４ａで反射されたレーザ光Ｌｉ２の光軸上に固定さ
れ、ミラー４ａからの図１中の上向きに出射したレーザ
光Ｌｉ２を図１中の右側へ向かって直角に反射させる。
ー４ａで反射されたレーザ光Ｌｉ２の光軸上に固定さ
れ、ミラー４ａからの図１中の上向きに出射したレーザ
光Ｌｉ２を図１中の右側へ向かって直角に反射させる。
【００３０】ミラー４ｆは、一軸ステージ３０上で図１
中のミラー４ｅの右側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｅから図１中の右向きに出射した
レーザ光Ｌｉ２を図１中の上側へ向かって直角に反射さ
せる。
中のミラー４ｅの右側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｅから図１中の右向きに出射した
レーザ光Ｌｉ２を図１中の上側へ向かって直角に反射さ
せる。
【００３１】ミラー４ｇは、一軸ステージ３０上で図１
中のミラー４ｆの上側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｆから図１中の上向きに出射した
レーザ光Ｌｉ２を図２、図３中の下側へ向かって直角に
反射させる。このミラー４ｇの直下の一軸ステージ３０
にはレーザ光Ｌｉ２を鉛直下向きに通過させるための貫
通孔３０ａが開口形成されている。
中のミラー４ｆの上側に一軸ステージ３０から張り出し
て固定され、ミラー４ｆから図１中の上向きに出射した
レーザ光Ｌｉ２を図２、図３中の下側へ向かって直角に
反射させる。このミラー４ｇの直下の一軸ステージ３０
にはレーザ光Ｌｉ２を鉛直下向きに通過させるための貫
通孔３０ａが開口形成されている。
【００３２】キューブコーナプリズム１ａ，１ｂは、図
３に示すようなＶ字型の断面形状を持つ、一軸ステージ
３０の図１及び図２中の矢印Ｘで示す直線移動範囲以上
の長さを持つ光学プリズムであり、ミラー４ｄ，４ｇの
それぞれ直下に一軸ステージ３０の移動方向と平行に配
置される。キューブコーナプリズム１ａ，１ｂは、各ミ
ラー４ｄ，４ｇから図３中の鉛直下向きに出射したレー
ザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２を逆向きに反射させて図３中の鉛直
上向きに出射する各反射光Ｌｒ１，Ｌｒ２としてそれぞ
れミラー４ｄ，４ｇへ再度入射させる。
３に示すようなＶ字型の断面形状を持つ、一軸ステージ
３０の図１及び図２中の矢印Ｘで示す直線移動範囲以上
の長さを持つ光学プリズムであり、ミラー４ｄ，４ｇの
それぞれ直下に一軸ステージ３０の移動方向と平行に配
置される。キューブコーナプリズム１ａ，１ｂは、各ミ
ラー４ｄ，４ｇから図３中の鉛直下向きに出射したレー
ザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２を逆向きに反射させて図３中の鉛直
上向きに出射する各反射光Ｌｒ１，Ｌｒ２としてそれぞ
れミラー４ｄ，４ｇへ再度入射させる。
【００３３】受光器５は、偏光ビームスプリッタ２から
の反射光Ｌｒ１，Ｌｒ２の合成光を受光して、この合成
光の受光光強度に応じた電気信号を出力する光−電気変
換素子であり、偏光ビームスプリッタ２を挟んでミラー
４ａの反対側の固定台３１上に固定されている。
の反射光Ｌｒ１，Ｌｒ２の合成光を受光して、この合成
光の受光光強度に応じた電気信号を出力する光−電気変
換素子であり、偏光ビームスプリッタ２を挟んでミラー
４ａの反対側の固定台３１上に固定されている。
【００３４】ここでローリング角度θの測定原理を説明
する。
する。
【００３５】図１に示すように、レーザ光源１１を点灯
し互いに位相が１／２波長ずれた２つのレーザ光Ｌｉ
１，Ｌｉ２を出射させる。図１は、一軸ステージ３０が
移動方向に対してローリング角度θ、ピッチング角度
ψ、ヨーイング角度φの何れも生じていない状態を示し
ている。
し互いに位相が１／２波長ずれた２つのレーザ光Ｌｉ
１，Ｌｉ２を出射させる。図１は、一軸ステージ３０が
移動方向に対してローリング角度θ、ピッチング角度
ψ、ヨーイング角度φの何れも生じていない状態を示し
ている。
【００３６】レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２は、レーザ光源１
１から図１中の上向きに出射して偏光ビームスプリッタ
２へ入射し、図１中の上向きに透過するレーザ光Ｌｉ１
と、図１中の右向きに反射されるレーザ光Ｌｉ２とに二
分割されて出射する。
１から図１中の上向きに出射して偏光ビームスプリッタ
２へ入射し、図１中の上向きに透過するレーザ光Ｌｉ１
と、図１中の右向きに反射されるレーザ光Ｌｉ２とに二
分割されて出射する。
【００３７】一方のレーザ光Ｌｉ１は、１／４波長板３
ａを通過して位相が１／４波長だけ回転され、ミラー４
ｂ，４ｃ，４ｄで順次反射されてキューブコーナプリズ
ム１ａへ図３に示すように鉛直下向きに入射する。レー
ザ光Ｌｉ１はキューブコーナプリズム１ａで逆向きに反
射されて図３に示すように鉛直上向きの反射光Ｌｒ１と
なる。反射光Ｌｒ１は、レーザ光Ｌｉ１とは逆向きにミ
ラー４ｄ，４ｃ，４ｂで順次反射され、１／４波長板３
ａで位相が１／４波長回転され、偏光ビームスプリッタ
２で図１中の左向きに反射されて受光器５へ入射する。
ａを通過して位相が１／４波長だけ回転され、ミラー４
ｂ，４ｃ，４ｄで順次反射されてキューブコーナプリズ
ム１ａへ図３に示すように鉛直下向きに入射する。レー
ザ光Ｌｉ１はキューブコーナプリズム１ａで逆向きに反
射されて図３に示すように鉛直上向きの反射光Ｌｒ１と
なる。反射光Ｌｒ１は、レーザ光Ｌｉ１とは逆向きにミ
ラー４ｄ，４ｃ，４ｂで順次反射され、１／４波長板３
ａで位相が１／４波長回転され、偏光ビームスプリッタ
２で図１中の左向きに反射されて受光器５へ入射する。
【００３８】他方のレーザ光Ｌｉ２は、１／４波長板３
ｂを通過して位相が１／４波長だけ回転され、ミラー４
ａ，４ｅ，４ｆ，４ｇで順次反射されてキューブコーナ
プリズム１ｂへ図３に示すように鉛直下向きに入射す
る。レーザ光Ｌｉ２はキューブコーナプリズム１ｂで逆
向きに反射されて図３に示すように鉛直上向きの反射光
Ｌｒ２となる。反射光Ｌｒ２は、レーザ光Ｌｉ２とは逆
向きにミラー４ｇ，４ｆ，４ｅ，４ａで順次反射され、
１／４波長板３ｂで位相が１／４波長回転され、偏光ビ
ームスプリッタ２を図１中の左向きに透過して受光器５
へ入射する。
ｂを通過して位相が１／４波長だけ回転され、ミラー４
ａ，４ｅ，４ｆ，４ｇで順次反射されてキューブコーナ
プリズム１ｂへ図３に示すように鉛直下向きに入射す
る。レーザ光Ｌｉ２はキューブコーナプリズム１ｂで逆
向きに反射されて図３に示すように鉛直上向きの反射光
Ｌｒ２となる。反射光Ｌｒ２は、レーザ光Ｌｉ２とは逆
向きにミラー４ｇ，４ｆ，４ｅ，４ａで順次反射され、
１／４波長板３ｂで位相が１／４波長回転され、偏光ビ
ームスプリッタ２を図１中の左向きに透過して受光器５
へ入射する。
【００３９】この状態では、一軸ステージ３０を図１中
の矢印Ｘの向きに移動させていっても、レーザ光Ｌｉ１
及び反射光Ｌｉ１と、レーザ光Ｌｉ２及び反射光Ｌｉ２
との間で光路長差ｈが変化しないので、一軸ステージ３
０はレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の光軸に対してローリング
が発生していないことがわかる。
の矢印Ｘの向きに移動させていっても、レーザ光Ｌｉ１
及び反射光Ｌｉ１と、レーザ光Ｌｉ２及び反射光Ｌｉ２
との間で光路長差ｈが変化しないので、一軸ステージ３
０はレーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２の光軸に対してローリング
が発生していないことがわかる。
【００４０】図４は図１のローリング角度測定装置にお
ける一軸ステージ３０のローリング角度θの測定方法説
明正面図である。
ける一軸ステージ３０のローリング角度θの測定方法説
明正面図である。
【００４１】一軸ステージ３０がレーザ光Ｌｉ１の光軸
に対してローリング角度θだけ左側に傾いていると、ミ
ラー４ｂ〜４ｇの光路も同様にローリング角度θだけ左
側に傾くので、レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２もローリング角
度θだけ左側に傾く。よって、一軸ステージ３０を図１
中の下側から上側へ向かって移動させていくと、レーザ
光Ｌｉ１及び反射光Ｌｒ１の光路長は短くなっていくと
同時にレーザ光Ｌｉ２及び反射光Ｌｒ２の光路長は長く
なっていき、ミラー４ｄと４ｇとの中心距離をｄとする
と、反射光Ｌｒ１とＬｒ２との間には光路長差ｈ＝２ｄ
・ｔａｎθが生じる。
に対してローリング角度θだけ左側に傾いていると、ミ
ラー４ｂ〜４ｇの光路も同様にローリング角度θだけ左
側に傾くので、レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２もローリング角
度θだけ左側に傾く。よって、一軸ステージ３０を図１
中の下側から上側へ向かって移動させていくと、レーザ
光Ｌｉ１及び反射光Ｌｒ１の光路長は短くなっていくと
同時にレーザ光Ｌｉ２及び反射光Ｌｒ２の光路長は長く
なっていき、ミラー４ｄと４ｇとの中心距離をｄとする
と、反射光Ｌｒ１とＬｒ２との間には光路長差ｈ＝２ｄ
・ｔａｎθが生じる。
【００４２】従って、反射光Ｌｒ１とＬｒ２との間で干
渉が生じ、これら反射光Ｌｒ１とＬｒ２の合成光を受光
する受光器５の受光光強度が変化する。この受光光強度
は、ローリング角度θに対応するので、この受光光強度
を電気信号として取り出し、この電気信号の振幅を測定
すれば対応するローリング角度θ’が求められる。
渉が生じ、これら反射光Ｌｒ１とＬｒ２の合成光を受光
する受光器５の受光光強度が変化する。この受光光強度
は、ローリング角度θに対応するので、この受光光強度
を電気信号として取り出し、この電気信号の振幅を測定
すれば対応するローリング角度θ’が求められる。
【００４３】図５は図１のローリング角度測定装置にお
ける一軸ステージ３０のピッチング発生状態説明右側面
図である。図５はローリングがなくピッチングだけが発
生した場合を表している。ピッチングだけの場合は、図
１中の一軸ステージ３０の左右両側の反射光Ｌｒ１，Ｌ
ｒ２は同時に光路長が変化するので光路長差ｈ＝０であ
る。即ち、ローリングとピッチングが同時に発生して
も、測定されたローリング角度θ’は実際のローリング
角度θ成分だけからなり、ピッチング角度ψ成分が含ま
れることはない。
ける一軸ステージ３０のピッチング発生状態説明右側面
図である。図５はローリングがなくピッチングだけが発
生した場合を表している。ピッチングだけの場合は、図
１中の一軸ステージ３０の左右両側の反射光Ｌｒ１，Ｌ
ｒ２は同時に光路長が変化するので光路長差ｈ＝０であ
る。即ち、ローリングとピッチングが同時に発生して
も、測定されたローリング角度θ’は実際のローリング
角度θ成分だけからなり、ピッチング角度ψ成分が含ま
れることはない。
【００４４】図６は図１のローリング角度測定装置にお
ける一軸ステージ３０のヨーイング発生状態説明平面図
である。図６はローリングがなくヨーイングだけが発生
した場合を表している。ヨーイングだけの場合は、図１
中の一軸ステージ３０の左右両側の反射光Ｌｒ１，Ｌｒ
２ははヨーイング角度φだけ左側に傾くので、レーザ光
Ｌｉ１，Ｌｉ２もヨーイング角度φだけ左側に傾く。よ
って、一軸ステージ３０を図１中の下側から上側へ向か
って移動させていくと、レーザ光Ｌｉ１及び反射光Ｌｒ
１の光路長は短くなっていくと同時にレーザ光Ｌｉ２及
び反射光Ｌｒ２の光路長は長くなっていき、光路長差ｈ
を生じる。即ち、ローリングとヨーイングが同時に発生
した場合には、測定されたローリング角度θ’には実際
のローリング角度θ成分とヨーイング角度φ成分が含ま
れる。そこで、測定されたローリング角度θ’から前記
従来例の公報に記載のような公知のヨー干渉計及びヨー
レシーバ等を用いて測定したヨーイング角度φ成分を差
し引けば、実際のローリング角度θのみを正確に求めら
れる。
ける一軸ステージ３０のヨーイング発生状態説明平面図
である。図６はローリングがなくヨーイングだけが発生
した場合を表している。ヨーイングだけの場合は、図１
中の一軸ステージ３０の左右両側の反射光Ｌｒ１，Ｌｒ
２ははヨーイング角度φだけ左側に傾くので、レーザ光
Ｌｉ１，Ｌｉ２もヨーイング角度φだけ左側に傾く。よ
って、一軸ステージ３０を図１中の下側から上側へ向か
って移動させていくと、レーザ光Ｌｉ１及び反射光Ｌｒ
１の光路長は短くなっていくと同時にレーザ光Ｌｉ２及
び反射光Ｌｒ２の光路長は長くなっていき、光路長差ｈ
を生じる。即ち、ローリングとヨーイングが同時に発生
した場合には、測定されたローリング角度θ’には実際
のローリング角度θ成分とヨーイング角度φ成分が含ま
れる。そこで、測定されたローリング角度θ’から前記
従来例の公報に記載のような公知のヨー干渉計及びヨー
レシーバ等を用いて測定したヨーイング角度φ成分を差
し引けば、実際のローリング角度θのみを正確に求めら
れる。
【００４５】このようにして、ステージのローリング角
度のみを正確に求められる。この時、ミラー４ａ〜４ｇ
は、レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２、反射光Ｌｉ２，Ｌｒ２を
反射できる寸法さえあれば良く、一軸ステージ３０の全
長に亙って取り付ける必要がなくなる。
度のみを正確に求められる。この時、ミラー４ａ〜４ｇ
は、レーザ光Ｌｉ１，Ｌｉ２、反射光Ｌｉ２，Ｌｒ２を
反射できる寸法さえあれば良く、一軸ステージ３０の全
長に亙って取り付ける必要がなくなる。
【００４６】尚、前記実施の形態では、一軸ステージの
みを例示したが、二軸以上の多軸ステージに適用しても
良い。この場合、各ステージの直線移動方向に沿って、
前記実施の形態と同様の光学系を複数組設ければ良い。
みを例示したが、二軸以上の多軸ステージに適用しても
良い。この場合、各ステージの直線移動方向に沿って、
前記実施の形態と同様の光学系を複数組設ければ良い。
【００４７】又、前記実施の形態では、キューブコーナ
プリズムを例示したが、前記ステージの移動方向に直角
な断面がＶ字型の反射面を持つ、反射鏡や反射鏡の組合
せ等の各種の反射体であっても構わない。
プリズムを例示したが、前記ステージの移動方向に直角
な断面がＶ字型の反射面を持つ、反射鏡や反射鏡の組合
せ等の各種の反射体であっても構わない。
【００４８】
【発明の効果】以上のような手法及び手段を採用したこ
とにより、本発明の移動ステージのローリング角度測定
方法及び装置は、次に列挙するような効果を発揮する。
とにより、本発明の移動ステージのローリング角度測定
方法及び装置は、次に列挙するような効果を発揮する。
【００４９】第１点として、ステージにステージの移動
範囲と同一長さの反射鏡１２２を取り付ける必要がなく
なり、ステージの重量が殆ど増加しないので、ステージ
の駆動負荷が増大せず、従来例と比較して駆動系の作製
コストを大幅に低減できる利点がある。
範囲と同一長さの反射鏡１２２を取り付ける必要がなく
なり、ステージの重量が殆ど増加しないので、ステージ
の駆動負荷が増大せず、従来例と比較して駆動系の作製
コストを大幅に低減できる利点がある。
【００５０】第２点として、第１点で述べたようにステ
ージの重量が殆ど増加せず、ステージの慣性量が殆ど変
化しないので、ステージを高速で駆動でき、従来例と比
較して生産工程におけるスループットを大幅に向上でき
る利点がある。
ージの重量が殆ど増加せず、ステージの慣性量が殆ど変
化しないので、ステージを高速で駆動でき、従来例と比
較して生産工程におけるスループットを大幅に向上でき
る利点がある。
【００５１】第３点として、第１点で述べたようにステ
ージの重量が殆ど増加せず、ステージの慣性量が殆ど変
化せず、ステージの駆動時に振動が発生しないので、ス
テージの部材及び支持構造の剛性を高める必要がなく、
従来例と比較してステージの作製コストを大幅に低減で
きる利点がある。
ージの重量が殆ど増加せず、ステージの慣性量が殆ど変
化せず、ステージの駆動時に振動が発生しないので、ス
テージの部材及び支持構造の剛性を高める必要がなく、
従来例と比較してステージの作製コストを大幅に低減で
きる利点がある。
【００５２】第４点として、重量の大きい反射鏡をステ
ージの中央から一方の側面へ張り出して取り付ける必要
がないので、ステージに反りが発生せず、従来例と比較
して取付誤差を大幅に低減できる利点がある。
ージの中央から一方の側面へ張り出して取り付ける必要
がないので、ステージに反りが発生せず、従来例と比較
して取付誤差を大幅に低減できる利点がある。
【図１】本発明の実施の形態の移動ステージのローリン
グ角度測定装置の構造説明平面図である。
グ角度測定装置の構造説明平面図である。
【図２】図１のローリング角度測定装置の構造説明右側
面図である。
面図である。
【図３】図１のローリング角度測定装置の構造説明正面
図である。
図である。
【図４】図１のローリング角度測定装置における一軸ス
テージ３０のローリング角度θの測定方法説明正面図で
ある。
テージ３０のローリング角度θの測定方法説明正面図で
ある。
【図５】図１のローリング角度測定装置における一軸ス
テージ３０のピッチング発生状態説明右側面図である。
テージ３０のピッチング発生状態説明右側面図である。
【図６】図１のローリング角度測定装置における一軸ス
テージ３０のヨーイング発生状態説明平面図である。
テージ３０のヨーイング発生状態説明平面図である。
【図７】従来例の露光装置の右側面図である。
【図８】図７の露光装置の測定系の配置説明斜視図であ
る。
る。
１ａ，１ｂ キューブコーナプリズム ２ 偏光ビームスプリッタ ３ａ，３ｂ １／４波長板 ４ａ〜４ｇ ミラー ５ 受光器 １１ レーザ光源 ２０ 定盤 ３０ 一軸ステージ ３１ 固定台 １０３ 投影レンズ １０４ 鏡筒支持体 １０９ トップステージ １１０ Ｘステージ １１１ Ｙステージ １１２ ステージベース １１３ 定盤 １１４ ＸＹステージ用マウント １２１ レーザヘッド １２２ 反射鏡 １２３ 干渉計 １２４ レシーバ １２６ 参照面
Claims (9)
- 【請求項１】 平面上を直線移動自在なステージに対向
して、前記ステージの移動方向に沿って前記ステージへ
向かってレーザ光を出射するレーザ光源を配置し、 前記レーザ光源から位相が互いに１／２波長ずれた２つ
の前記レーザ光を出射させ、前記ステージ上に固定され
たミラーで前記２つのレーザ光を前記ステージの前記移
動方向の両側において直角下向きに反射させ、前記ステ
ージの移動方向に沿って平行に配置された２つの反射体
で前記レーザ光を逆向きに反射させ、前記ステージ上に
固定された前記ミラーで前記反射された２つのレーザ光
をそれぞれ前記レーザ光源へ向かって反射させ、前記反
射された２つのレーザ光の合成光の受光光強度を測定
し、前記受光光強度に対応して前記レーザ光の光軸に対
する前記ステージのローリング角度を求めることを特徴
とする移動ステージのローリング角度測定方法。 - 【請求項２】 前記求められたローリング角度から、ヨ
ーイング角度成分を差し引いて実際のローリング角度を
求めることを特徴とする請求項１記載の移動ステージの
ローリング角度測定方法。 - 【請求項３】 前記反射体は、キューブコーナプリズム
であることを特徴とする請求項１又は２記載の移動ステ
ージのローリング角度測定方法。 - 【請求項４】 平面上を直線移動自在なステージと、 前記ステージに対向して配置され、前記ステージの移動
方向に沿って前記ステージへ向かって位相が互いに１／
２波長ずれた２つのレーザ光を出射するレーザ光源と、 前記ステージ上に配置され、前記レーザ光源から出射し
た前記２つのレーザ光を前記ステージの前記移動方向の
両側において鉛直下向きに反射させるミラー群と、 前記ステージの移動方向に沿って平行に配置され、前記
ミラー群で反射された前記２つのレーザ光を前記ステー
ジの直下でそれぞれ逆向きに反射させる反射体と、 前記反射体でそれぞれ反射された前記２つのレーザ光の
合成光の受光光強度を測定する受光器とを具備すること
を特徴とする移動ステージのローリング角度測定方法。 - 【請求項５】 平面上を直線方向に移動自在なステージ
と、 前記ステージに対向して離れて設けられ、位相が互いに
１／２波長ずれた第１及び第２のレーザ光を前記ステー
ジの移動方向に平行に出射するレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射した前記第１及び第２のレーザ
光を分割する偏光ビームスプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタで分割された前記第１のレー
ザ光の光路上に設けられた第１の１／４波長板と、 前記偏光ビームスプリッタで分割された前記第２のレー
ザ光の光路上に設けられた第２の１／４波長板と、 前記レーザ光源に対して固定され、前記第２の１／４波
長板からの前記第２のレーザ光を前記レーザ光源から出
射した前記第１のレーザ光と平行に反射させるミラー
と、 前記ステージ上に固定され、前記第１の１／４波長板か
らの前記第１のレーザ光を前記ステージ移動方向に対し
て直角下向きに反射させる第１のミラー群と、 前記ステージ上に固定され、前記ミラーからの前記第２
のレーザ光を前記第１のミラー群の反対側で前記ステー
ジ移動方向に対して直角下向きに反射させる第２のミラ
ー群と、 前記第１のミラー群の直下でかつ前記ステージの移動方
向に平行に配置され、前記第１のミラー群で反射された
前記第１のレーザ光を逆向きに反射させる、前記ステー
ジの移動方向に直角な断面がＶ字型の反射面を持つ第１
の反射体と、 前記第２のミラー群の直下でかつ前記ステージを挟んで
前記第１の反射体の反対側に平行に配置され、前記第２
のミラー群で反射された前記第２のレーザ光を逆向きに
反射させる、前記ステージの移動方向に直角な断面がＶ
字型の反射面を持つ第２の反射体と、 前記偏光ビームスプリッタを挟んで前記ミラーの反対側
に配置され、前記第１及び第２の反射体でそれぞれ反射
されて前記偏光ビームスプリッタから出射する前記第１
及び第２のレーザ光の合成光を受光する受光器とを具備
することを特徴とする移動ステージのローリング角度測
定装置。 - 【請求項６】 平面上を直線方向に移動自在なステージ
と、 前記ステージに対向して離れて設けられ、位相が互いに
１／２波長ずれた第１及び第２のレーザ光を前記ステー
ジの移動方向に平行に出射するレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射した前記第１及び第２のレーザ
光を分割する偏光ビームスプリッタと、 前記偏光ビームスプリッタの前記レーザ光源と反対側の
面に貼り付けられた第１の１／４波長板と、 前記偏光ビームスプリッタの前記レーザ光源に対して側
面に貼り付けられた第２の１／４波長板と、 前記レーザ光源に対して固定され、前記第２の１／４波
長板からの前記第２のレーザ光を前記レーザ光源から出
射した前記第１のレーザ光と平行に反射させる第１のミ
ラーと、 前記レーザ光源から前記偏光ビームスプリッタを見た延
長線上の前記ステージ上に固定され、前記第１の１／４
波長板を透過した前記第１のレーザ光を前記ステージ移
動方向に前記ステージの外側へ向かって直角に反射させ
る第２のミラーと、 前記ステージ上に固定され、前記第２のミラーで反射さ
れた前記第１のレーザ光を前記ステージの移動方向に平
行に反射させる第３のミラーと、 前記ステージ上に固定され、前記第３のミラーで反射さ
れた前記第１のレーザ光を前記ステージから鉛直下向き
に反射させる第４のミラーと、 前記ステージ上に固定され、前記第１のミラーで反射さ
れた前記第２のレーザ光を前記第２のミラーとは逆向き
に前記ステージの外側へ向かって直角に反射させる第５
のミラーと、 前記ステージ上に固定され、前記第５のミラーで反射さ
れた前記第２のレーザ光を移動方向に平行に反射させる
第６のミラーと、 前記ステージ上に固定され、前記第６のミラーで反射さ
れた前記第２のレーザ光を前記ステージから鉛直下向き
に反射させる第７のミラーと、 前記第４のミラーの直下でかつ前記ステージの移動方向
に平行に配置され、前記第４のミラーで反射された前記
第１のレーザ光を逆向きに反射させる、前記ステージの
移動方向に直角な断面がＶ字型の反射面を持つ第１の反
射体と、 前記第５のミラーの直下でかつ前記ステージを挟んで前
記第１の反射体の反対側に平行に配置され、前記第７の
ミラーで反射された前記第２のレーザ光を逆向きに反射
させる、前記ステージの移動方向に直角な断面がＶ字型
の反射面を持つ第２の反射体と、 前記偏光ビームスプリッタを挟んで前記第１のミラーの
反対側に配置され、前記第１及び第２の反射体でそれぞ
れ反射されて前記偏光ビームスプリッタから出射する前
記第１及び第２のレーザ光の合成光を受光する受光器と
を具備することを特徴とする移動ステージのローリング
角度測定装置。 - 【請求項７】 前記受光器の受光光出力に対応して前記
ローリング角度を求めることを特徴とする請求項４〜６
の何れかに記載の移動ステージのローリング角度測定装
置。 - 【請求項８】 前記求められたローリング角度から、測
定して求められたヨーイング角度成分を差し引いて実際
のローリング角度を求めることを特徴とする請求項７記
載の移動ステージのローリング角度測定装置。 - 【請求項９】 前記反射体は、キューブコーナプリズム
であることを特徴とする請求項４〜８の何れかに記載の
移動ステージのローリング角度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08510499A JP3356104B2 (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | 移動ステージのローリング角度測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08510499A JP3356104B2 (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | 移動ステージのローリング角度測定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000275030A JP2000275030A (ja) | 2000-10-06 |
| JP3356104B2 true JP3356104B2 (ja) | 2002-12-09 |
Family
ID=13849318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08510499A Expired - Fee Related JP3356104B2 (ja) | 1999-03-29 | 1999-03-29 | 移動ステージのローリング角度測定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3356104B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101354243B (zh) * | 2008-09-03 | 2010-06-16 | 西安理工大学 | 导轨滚转角的非接触激光检测方法 |
| CN103186060B (zh) * | 2011-12-31 | 2014-12-03 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻对准装置、其使用方法及光刻机 |
| JP5682802B2 (ja) | 2012-02-15 | 2015-03-11 | 株式会社東京精密 | 回転角度測定装置及び回転角度測定方法 |
| JP5633981B2 (ja) * | 2013-03-06 | 2014-12-03 | 株式会社東京精密 | 回転角度測定方法及び回転角度測定システム |
| US9134145B2 (en) | 2013-04-03 | 2015-09-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Angle measuring method and angle measuring system |
| CN108168465B (zh) * | 2017-12-23 | 2019-07-23 | 西安交通大学 | 一种共光路激光外差干涉法滚转角高精度测量装置及方法 |
| CN113483726B (zh) * | 2021-07-06 | 2022-06-07 | 大连理工大学 | 一种小型化、高精度三维角度运动误差测量方法与系统 |
-
1999
- 1999-03-29 JP JP08510499A patent/JP3356104B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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